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题名基于数值模拟与实验的弯液面约束电化学沉积工艺研究
被引量：2
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作者
王雪
许金凯
任万飞
韦含含
王曼妃
徐振铭
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机构
长春理工大学跨尺度微纳制造教育部重点实验室
长春理工大学机电工程学院
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出处
《精密成形工程》
北大核心
2023年第11期107-114,共8页
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基金
国家重点研发计划(2022YFB4600202)
国家自然科学基金(U19A20103)
+1 种基金
吉林省创新创业人才资助项目(2021Z002)
长春市科技发展计划基金(21ZY37)。
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文摘
目的研究影响弯液面约束电沉积(MCED)的工艺参数(电压、浓度、湿度和喷嘴移动速度),以确保制造出满足要求的高性能金属微结构。方法首先采用COMSOL有限元仿真研究了沉积过程中不同电压、浓度、湿度和喷嘴移动速度对MCED沉积速率的影响,确定了MCED在上述参数影响下的变化规律。其次,进行了工艺试验,验证了仿真结果的正确性。结果仿真结果表明,MCED沉积速率与电压、电解液浓度呈正相关。喷嘴移动速度会影响金属微结构的初始沉积直径和沉积速率,喷嘴移动速度越慢,沉积结构初始直径越大,沉积速率相对越慢,而且还会影响沉积能否顺利进行。实验结果表明,在相同湿度下,在弯液桥边缘位置存在相对湿度梯度,易产生强对流,在边缘位置,加快扩散速度将会造成边缘优先生长。在不同湿度下,易出现空心结构和实心结构。结论通过将仿真与实验相结合,得到了沉积速率、沉积形状与电压、电解液浓度、喷嘴移动速度和湿度之间的关系,通过调控工艺参数(电压、浓度、湿度和喷嘴移动速度)得到最佳适用值,可获得沉积质量较好的金属微结构。
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关键词
弯液面约束电沉积
有限元模拟
工艺参数
沉积形貌
沉积速率
金属微结构
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Keywords
meniscus constrained electrode position
finite element simulation
process parameters
electrochemical deposi-tion profile
electrochemical deposition rate
metal microstructure
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分类号
TH162
[机械工程—机械制造及自动化]
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题名高精度光固化快速成形系统关键技术研究
被引量：2
- 2
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作者
李元超
邓攀
赵万华
卢秉恒
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机构
西安交通大学机械工程学院
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出处
《机床与液压》
北大核心
2003年第5期42-44,共3页
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基金
86 3项目资助 2 0 0 1AA2 42 10 1
优秀博士论文基金资助 2 0 0 78
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文摘
本文研究适用于成形小尺寸零件的高精度光固化成形系统的关键技术 ,光学系统中使用单模激光器、f-theta透镜及高精度扫描振镜 ,实现微小光斑和X -Y方向的精密扫描 ;采用约束液面式涂层工艺精密控制树脂涂层厚度 ,获得 0 .0 1～ 0 .0 2 mm的涂层。
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关键词
快速成形
光固化
光学系统
单模激光器
扫描振镜
约束液面
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Keywords
Rapid prototyping
Stereolithography
High precision
Constraint surface
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分类号
TH16
[机械工程—机械制造及自动化]
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