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紫外光刻技术制备各向异性超疏水表面: 1; 作者占彦龙李文 +1 位作者李宏胡良云《科学技术与工程》北大核心 2017年第32期50-54,共5页; 结合紫外光刻技术与湿化学刻蚀法,将掩模板上的条纹结构转移到锌基体上;然后利用月桂酸修饰降低表面能,制备出具有不同间距条纹结构的各向异性超疏水表面。使用接触角测量仪表征其浸润性、偏光显微镜表征其形貌结构、傅里叶红外光谱仪... 展开更多; 关键词紫外光刻技术条纹结构各向异性超疏水浸润性减阻; 在线阅读下载PDF 职称材料

激光等离子体13.5 nm极紫外光刻光源进展被引量：23: 2; 作者宗楠胡蔚敏 +5 位作者王志敏王小军张申金薄勇彭钦军许祖彦《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期28-42,共15页; 半导体产业是高科技、信息化时代的支柱。光刻技术,作为半导体产业的核心技术之一,已成为世界各国科研人员的重点研究对象。本文综述了激光等离子体13.5 nm极紫外光刻的原理和国内外研究发展概况,重点介绍了其激光源、辐射靶材和多层膜... 展开更多; 关键词 13.5 nm极紫外光刻技术激光等离子体极紫外光源转换效率光源碎屑预脉冲激光; 在线阅读下载PDF 职称材料

157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展: 3; 作者臧春雨曹望和石春山《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第6期34-36,共3页; 介绍了半导体制进业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料。介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势。; 关键词紫外光刻设备光学材料紫外光刻技术半导体制造 CaF2晶体氟化钙单晶; 在线阅读下载PDF 职称材料

紫外光刻法制备图案化聚合物纳米管/线阵列的研究被引量：1: 4; 作者李培栋李晓茹 +4 位作者宋国君彭智佘希林李建江孙瑾《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1350-1352,共3页; 探讨了紫外光刻技术制备图案化聚合物纳米管/线阵列的方法,研究制备过程中的各种影响因素,并找到了最佳的实验条件。采用溶液浸润法,成功制备了不同图案的聚合物纳米结构阵列。溶液浓度为6%(质量分数),得到的是聚合物纳米管阵列;溶液浓... 展开更多; 关键词紫外光刻技术纳米管纳米线 AAO模板图案化; 在线阅读下载PDF 职称材料

MAPDST单体在EUV光刻胶制备过程中的应用被引量：1: 5; 作者李元壮姜靖逸肖国民《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第S02期32-37,共6页; 极紫外(EUV)光刻胶的研发作为适配未来光刻技术的发展方向,现已成为超高精度集成电路制造的最高效工艺技术。其中,(4-(甲基丙烯酰氧基)苯基)二甲基锍三氟甲磺酸盐(MAPDST)作为一种含辐射敏感锍基功能的关键单体,现已广泛应用于极紫外(E... 展开更多; 关键词极紫外光刻技术极紫外光刻胶 (4-(甲基丙烯酰氧基)苯基)二甲基锍三氟甲磺酸盐单体 RLS平衡制约关系二次电子; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于液态金属的柔性频率可重构CPW天线设计被引量：2: 6; 作者郑鹏帅陈婧 +4 位作者姚佩崔建利张斌珍段俊萍王万军《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期2276-2282,共7页; 针对固态金属天线在受力弯曲后易产生裂纹导致功能失效的问题,本文提出一种频率可重构的柔性液态金属共面波导馈电天线.该天线由四个不同半径的开口谐振环(Split-Ring Resonators,SRR)构成,利用紫外光刻技术(ultraviolet lithography)... 展开更多; 关键词柔性液态金属天线共面波导开口谐振环紫外光刻技术聚二甲基硅氧烷频率可重构 WLAN/WiMAX 弯曲表面; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名紫外光刻技术制备各向异性超疏水表面: 1; 作者占彦龙李文李宏胡良云; 机构湖北师范大学物理与电子科学学院湖北理工学院矿区环境污染控制与修复重点实验室; 出处《科学技术与工程》北大核心 2017年第32期50-54,共5页; 基金国家自然科学基金(51272082) 青年科学基金(21603070)资助; 文摘结合紫外光刻技术与湿化学刻蚀法,将掩模板上的条纹结构转移到锌基体上;然后利用月桂酸修饰降低表面能,制备出具有不同间距条纹结构的各向异性超疏水表面。使用接触角测量仪表征其浸润性、偏光显微镜表征其形貌结构、傅里叶红外光谱仪分析表面成分,利用接触角测量仪搭建简易的平台探究制备的具有条纹结构的各向异性超疏水表面的减阻性能。掩模板上5、10、15、30μm间距的条纹图案很好地转移到了锌基体上,经月桂酸修饰后接触角最高达156.26°。当间距d=30μm时,各向异性浸润性最显著,ΔCA=9.93°。实验表明可通过调节条纹间距来控制各向异性浸润性,各向异性浸润性程度ΔCA随条纹间距的增加而增加,平行于各向异性超疏水表面的条纹结构方向有一定的减阻性能。利用该方法可制备特殊结构的各向异性超疏水表面,用于流体定向减阻与运输,微流体器件等领域。; 关键词紫外光刻技术条纹结构各向异性超疏水浸润性减阻; Keywords ultraviolet photolithography stripe structure anisotropic superhydrophobic wetability drag-reduction; 分类号 TB342 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名激光等离子体13.5 nm极紫外光刻光源进展被引量：23: 2; 作者宗楠胡蔚敏王志敏王小军张申金薄勇彭钦军许祖彦; 机构中国科学院固体激光重点实验室中国科学院功能晶体与激光技术重点实验室中国科学院大学; 出处《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第1期28-42,共15页; 基金国家重点研发项目(No.2016YFB0402103) 中科院关键技术团队项目(No.GJJSTD20180004) +3 种基金国家自然科学重点基金项目(No.61535013)~~; 文摘半导体产业是高科技、信息化时代的支柱。光刻技术,作为半导体产业的核心技术之一,已成为世界各国科研人员的重点研究对象。本文综述了激光等离子体13.5 nm极紫外光刻的原理和国内外研究发展概况,重点介绍了其激光源、辐射靶材和多层膜反射镜等关键系统组成部分。同时,指出了在提高激光等离子体13.5 nm极紫外光源输出功率的研究进程中所存在的主要问题,包括提高转换效率和减少光源碎屑。特别分析了目前已实现百瓦级输出的日本Gigaphoton公司和荷兰的ASML公司的极紫外光源装置。最后对该项技术的发展前景进行了总结与展望。; 关键词 13.5 nm极紫外光刻技术激光等离子体极紫外光源转换效率光源碎屑预脉冲激光; Keywords 13.5 nm Extreme Ultraviolet Lithography(13.5 nm-EUVL) Laser-Produced Plasma(LPP) extreme ultraviolet source Conversion Efficiency(CE) light debris pre-pulse laser; 分类号 O432.1 [机械工程—光学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展: 3; 作者臧春雨曹望和石春山; 机构中科院长春光学精密机械与物理研究所大连海事大学数理系中科院长春应用化学研究所; 出处《材料导报》 EI CAS CSCD 2003年第6期34-36,共3页; 基金长春市政府科技引导计划项目(02-143X09); 文摘介绍了半导体制进业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料。介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势。; 关键词紫外光刻设备光学材料紫外光刻技术半导体制造 CaF2晶体氟化钙单晶; Keywords semiconductor manufacturing industry, 157nm lithography,CaF2 crystal,birefringence.; 分类号 TN305.7 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名紫外光刻法制备图案化聚合物纳米管/线阵列的研究被引量：1: 4; 作者李培栋李晓茹宋国君彭智佘希林李建江孙瑾; 机构青岛大学化学化工与环境学院; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第8期1350-1352,共3页; 基金国家自然科学基金资助项目(50473012) 山东省自然科学基金资助项目(Z2005F03); 文摘探讨了紫外光刻技术制备图案化聚合物纳米管/线阵列的方法,研究制备过程中的各种影响因素,并找到了最佳的实验条件。采用溶液浸润法,成功制备了不同图案的聚合物纳米结构阵列。溶液浓度为6%(质量分数),得到的是聚合物纳米管阵列;溶液浓度为10.0%(质量分数),得到的是聚合物纳米线阵列。; 关键词紫外光刻技术纳米管纳米线 AAO模板图案化; Keywords photolithography nanowire nanotube AAO patterns; 分类号 TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名MAPDST单体在EUV光刻胶制备过程中的应用被引量：1: 5; 作者李元壮姜靖逸肖国民; 机构东南大学化学化工学院; 出处《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2023年第S02期32-37,共6页; 文摘极紫外(EUV)光刻胶的研发作为适配未来光刻技术的发展方向,现已成为超高精度集成电路制造的最高效工艺技术。其中,(4-(甲基丙烯酰氧基)苯基)二甲基锍三氟甲磺酸盐(MAPDST)作为一种含辐射敏感锍基功能的关键单体,现已广泛应用于极紫外(EUV)光刻胶的研发生产过程中。首先,简要阐述在制约光刻胶性能提升过程中存在的分辨率(R)、线边缘粗糙度(LER)、曝光灵敏度(S)之间的平衡制约关系,即RLS平衡制约关系;随后,对MAPDST单体的优越性能以及在推动光刻胶朝着高分辨率方向发展的应用现状进行综述;最后,对EUV光刻胶材料及MAPDST单体的未来发展做出展望。; 关键词极紫外光刻技术极紫外光刻胶 (4-(甲基丙烯酰氧基)苯基)二甲基锍三氟甲磺酸盐单体 RLS平衡制约关系二次电子; Keywords extreme ultraviolet lithography EUV photoresist MAPDST monomer RLS equilibrium restriction relation secondary electron; 分类号 TQ549 [化学工程—煤化学工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于液态金属的柔性频率可重构CPW天线设计被引量：2: 6; 作者郑鹏帅陈婧姚佩崔建利张斌珍段俊萍王万军; 机构中北大学仪器科学与动态测试教育部重点实验室中国航天科工集团第二研究院; 出处《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第9期2276-2282,共7页; 基金国家自然科学基金(No.51475438) 国家自然科学基金联合基金重点支持项目(No.U1637212); 文摘针对固态金属天线在受力弯曲后易产生裂纹导致功能失效的问题,本文提出一种频率可重构的柔性液态金属共面波导馈电天线.该天线由四个不同半径的开口谐振环(Split-Ring Resonators,SRR)构成,利用紫外光刻技术(ultraviolet lithography)制备天线的SU-8负模结构,其次浇注聚二甲基硅氧烷进行倒模并键合,最后将液态金属合金注入至微流沟道,完成天线的制作.通过机械施压方式改变不同谐振环间的通断状态,可在1GHz～6GHz范围内实现频率可重构,满足WLAN、WiMAX和部分C波段的通信要求.弹性体和液态金属的特性使天线具有更好的灵活性和耐久度,可应用于集成电子设备的弯曲表面.; 关键词柔性液态金属天线共面波导开口谐振环紫外光刻技术聚二甲基硅氧烷频率可重构 WLAN/WiMAX 弯曲表面; Keywords flexible liquid metal antenna coplanar waveguide(CPW) split-ring resonators(SRR) ultraviolet lithography polydimethylsiloxane(PDMS) frequency reconfigurable WLAN/WiMAX curved surfaces; 分类号 TN826 [电子电信—信息与通信工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	紫外光刻技术制备各向异性超疏水表面	占彦龙李文李宏胡良云	《科学技术与工程》北大核心	2017	0	在线阅读下载PDF 职称材料
2	激光等离子体13.5 nm极紫外光刻光源进展	宗楠胡蔚敏王志敏王小军张申金薄勇彭钦军许祖彦	《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	23	在线阅读下载PDF 职称材料
3	157nm紫外光刻设备用光学材料研究进展	臧春雨曹望和石春山	《材料导报》 EI CAS CSCD	2003	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	紫外光刻法制备图案化聚合物纳米管/线阵列的研究	李培栋李晓茹宋国君彭智佘希林李建江孙瑾	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2010	1	在线阅读下载PDF 职称材料
5	MAPDST单体在EUV光刻胶制备过程中的应用	李元壮姜靖逸肖国民	《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心	2023	1	在线阅读下载PDF 职称材料
6	基于液态金属的柔性频率可重构CPW天线设计	郑鹏帅陈婧姚佩崔建利张斌珍段俊萍王万军	《电子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2018	2	在线阅读下载PDF 职称材料