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磁控溅射类石墨镀层结构的Raman光谱和XPS分析 被引量:6
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作者 严少平 蒋百灵 +1 位作者 苏阳 张永宏 《西安理工大学学报》 CAS 2008年第1期8-12,共5页
利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明:不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Ra... 利用非平衡磁控溅射离子镀技术在单晶硅片上沉积了类石墨碳镀层,采用X射线衍射(XRD)、激光Raman光谱和X射线光电子能谱(XPS)等分析方法对镀层的微观结构进行了研究。结果表明:不同成份类石墨碳镀层的Raman光谱与宽化的多晶石墨Raman光谱相似,类石墨碳镀层是以sp。键结构为主,且舍有多种纳米团簇颗粒的非晶镀层,sp^3键含量在12~15%范围;根据高斯解谱计算,镀层中碳团簇线度为1.2nm以下,并随铬含量增高而减小;镀层主要由单质碳、铬及其铬氧化物组成,并随铬含量增高,逐步有碳铬化合物形成。 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 类石墨碳镀层 微结构 RAMAN光谱 X射线光电子能谱
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