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直流真空阴极弧管状内壁制备TiN涂层性能研究
被引量：
1
1
作者
吕玲
华程
+1 位作者
梁鑫
廖广其
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期380-387,共8页
采用直流真空阴极弧沉积技术在管状内壁上制备了TiN涂层。用光学显微镜、SEM(扫描电子显微镜)、台阶仪、X射线衍射能谱(XRD)、显微硬度计检测了涂层的结构和力学等相关特性。结果表明:管状内壁表面涂层厚度在2.7~3.0μm,厚度均匀性为94....
采用直流真空阴极弧沉积技术在管状内壁上制备了TiN涂层。用光学显微镜、SEM(扫描电子显微镜)、台阶仪、X射线衍射能谱(XRD)、显微硬度计检测了涂层的结构和力学等相关特性。结果表明:管状内壁表面涂层厚度在2.7~3.0μm,厚度均匀性为94.7%;涂层表面粗糙,均存在着大量微米级的颗粒分布,表面粗糙度Ra较未处理的样品增幅约为0.2~0.3μm,涂层由立方相的TiN(111)、Ti N(102)、TiN(200)、TiN(220)、TiN(311)、TiN(222)组成。相同沉积温度条件下,氮气气压越高,涂层表面的颗粒度越细,表面显微硬度越高,TiN (111)的择优取向越明显;相同氮气气压下,沉积温度越高,涂层的表面显微硬度越高,TiN(111)的择优取向也越明显。
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关键词
管状内壁
直流真空阴极弧
TIN涂层
显微硬度
择优取向
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职称材料
题名
直流真空阴极弧管状内壁制备TiN涂层性能研究
被引量：
1
1
作者
吕玲
华程
梁鑫
廖广其
机构
成都飞机工业(集团)有限责任公司
出处
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2024年第4期380-387,共8页
文摘
采用直流真空阴极弧沉积技术在管状内壁上制备了TiN涂层。用光学显微镜、SEM(扫描电子显微镜)、台阶仪、X射线衍射能谱(XRD)、显微硬度计检测了涂层的结构和力学等相关特性。结果表明:管状内壁表面涂层厚度在2.7~3.0μm,厚度均匀性为94.7%;涂层表面粗糙,均存在着大量微米级的颗粒分布,表面粗糙度Ra较未处理的样品增幅约为0.2~0.3μm,涂层由立方相的TiN(111)、Ti N(102)、TiN(200)、TiN(220)、TiN(311)、TiN(222)组成。相同沉积温度条件下,氮气气压越高,涂层表面的颗粒度越细,表面显微硬度越高,TiN (111)的择优取向越明显;相同氮气气压下,沉积温度越高,涂层的表面显微硬度越高,TiN(111)的择优取向也越明显。
关键词
管状内壁
直流真空阴极弧
TIN涂层
显微硬度
择优取向
Keywords
Pipe fitting in wall
DC cathodic vacuum arc
TiN films
Micro-hardness
Preferred orientation
分类号
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
直流真空阴极弧管状内壁制备TiN涂层性能研究
吕玲
华程
梁鑫
廖广其
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2024
1
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