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高精度石英全息透镜的MEMS工艺制作
1
作者
韩励想
滑伟
+1 位作者
马建设
苏萍
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第11期3107-3113,共7页
通过微电子机械技术(MEMS)在抛光的熔融石英基材表面制作了平面精度达到0.4μm的超大单片面积的全息透镜。采用了分辨率达到0.2μm的步进投影式拼接光刻,适合石英基材的专用等离子耦合刻蚀(ICP)干法刻蚀技术,特殊的物理清洗方法,以及相...
通过微电子机械技术(MEMS)在抛光的熔融石英基材表面制作了平面精度达到0.4μm的超大单片面积的全息透镜。采用了分辨率达到0.2μm的步进投影式拼接光刻,适合石英基材的专用等离子耦合刻蚀(ICP)干法刻蚀技术,特殊的物理清洗方法,以及相关的多项辅助工艺。透镜理想面形横截面曲线为分段抛物线,每一片由23个柱状结构单元周期横向排列构成,采用等深度不等宽度的4台阶结构拟合,单元宽度约为2.966mm。在4in(10.16cm)圆片上,获得了单片尺寸为68mm×68mm的方形透镜。采用接触式台阶仪,扫描电子显微镜(SEM),高倍光学显微镜等方法进行不同阶段检测。结果显示:台阶平面精度为0.4μm,垂直精度为30nm,有非常好的立墙陡直度和刻蚀均匀性。此工艺方案可实现小规模批量生产,成本适中,可以直接用于制作6in(15.24cm)以上同等级要求的石英透镜,经适当改进也可用于蓝宝石等基底材料的制作。
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关键词
微电子工艺
光刻
全息透镜
等离子耦合干法刻蚀
微机电系统(MEMS)
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职称材料
题名
高精度石英全息透镜的MEMS工艺制作
1
作者
韩励想
滑伟
马建设
苏萍
机构
清华大学深圳研究生院
中山大学中法核工程与技术学院
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第11期3107-3113,共7页
基金
深圳市基础研究项目(No.JCYJ20140417115840236)
广东省产学研合作专项资金资助项目(No.2012B091100102)
文摘
通过微电子机械技术(MEMS)在抛光的熔融石英基材表面制作了平面精度达到0.4μm的超大单片面积的全息透镜。采用了分辨率达到0.2μm的步进投影式拼接光刻,适合石英基材的专用等离子耦合刻蚀(ICP)干法刻蚀技术,特殊的物理清洗方法,以及相关的多项辅助工艺。透镜理想面形横截面曲线为分段抛物线,每一片由23个柱状结构单元周期横向排列构成,采用等深度不等宽度的4台阶结构拟合,单元宽度约为2.966mm。在4in(10.16cm)圆片上,获得了单片尺寸为68mm×68mm的方形透镜。采用接触式台阶仪,扫描电子显微镜(SEM),高倍光学显微镜等方法进行不同阶段检测。结果显示:台阶平面精度为0.4μm,垂直精度为30nm,有非常好的立墙陡直度和刻蚀均匀性。此工艺方案可实现小规模批量生产,成本适中,可以直接用于制作6in(15.24cm)以上同等级要求的石英透镜,经适当改进也可用于蓝宝石等基底材料的制作。
关键词
微电子工艺
光刻
全息透镜
等离子耦合干法刻蚀
微机电系统(MEMS)
Keywords
micro electronic process
photo lithography
hologram lens
Inductively Coupled Plasma（ICP）dry etch
Micro-electro-mechanical System（MEMS）
分类号
O438.1 [机械工程—光学工程]
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高精度石英全息透镜的MEMS工艺制作
韩励想
滑伟
马建设
苏萍
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
0
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