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大气压射频辉光放电电子数密度解析解及等离子体阻抗特性研究被引量：4: 1; 作者焦俊凯周全 +2 位作者王豪罗海云王新新《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期1458-1464,共7页; 为研究大气压射频辉光放电等离子体阻抗特性,基于射频放电的一维均匀假设模型,推导出了适用于α模式、高气压和小间隙条件下的电子数密度ne的解析解,从而可由实验测得的电压和电流幅值计算出ne;构建了描述整个放电区域的"电阻-电... 展开更多; 关键词射频大气压辉光放电电子数密度鞘层等效电路模型等离子体阻抗; 在线阅读下载PDF 职称材料

射频容性耦合等离子体阻抗影响因素研究被引量：5: 2; 作者吴勤斌罗日成 +4 位作者王学禹黄军肖宏峰田迪凯张宇飞《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第5期458-464,共7页; 为了进一步探索射频容性耦合放电等离子体,本文建立了以容性耦合等离子体(CCP)为基础的板-板电极一维轴线简化仿真模型。仿真采用氦气为工作气体,使用约化电子传递属性并忽略重粒子对流,利用有限元算法,综合讨论了一定范围内放电参数(... 展开更多; 关键词容性耦合等离子体等离子体阻抗氦气放电放电参数; 在线阅读下载PDF 职称材料

磁控溅射等离子体阻抗影响因素研究被引量：1: 3; 作者王懿李勇滔 +3 位作者李含雁金炯孙小孟张春雨《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期513-519,共7页; 了解等离子体阻抗在磁控溅射放电过程中的变化规律,有利于调控电源和负载之间的阻抗匹配,达到最大化利用溅射功率,提高镀膜质量的目的。为了研究磁控溅射镀膜工艺过程中等离子体的阻抗特性的变化趋势,本文采用V-I probe测量等离子体阻... 展开更多; 关键词磁控溅射等离子体阻抗射频放电放电参数; 在线阅读下载PDF 职称材料

高功率脉冲磁控溅射轮辐特征等离子体研究综述被引量：2: 4; 作者李玉阁刘伟阳雷明凯《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第1期1-9,共9页; 高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)是最新一代磁控溅射技术,高度离化的脉冲等离子体是HiPIMS技术的核心特征。针对HiPIMS放电轮辐特征,评述特征放电下HiPIMS等离子体测量、模拟及对薄膜生长作用的最新研究进展。较之常规磁控溅射技术,HiP... 展开更多; 关键词高功率脉冲磁控溅射放电电流轮辐等离子体阻抗粒子输运; 在线阅读下载PDF 职称材料

CO_2激光诱导空气等离子体放电通道特性研究: 5; 作者李凤舞左都罗王新兵《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第6期831-835,共5页; 为了研究高能脉冲CO_2激光诱导空气等离子体放电通道的特性,建立了高压电容充放电实验平台,激光束经离轴抛物聚焦镜汇聚,引发间距可调的盘状电极和针状电极之间的等离子体放电通道。利用电气参量测量、发射光谱测量等手段,分析了等离子... 展开更多; 关键词激光技术等离子体通道等离子体阻抗等离子体密度; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名大气压射频辉光放电电子数密度解析解及等离子体阻抗特性研究被引量：4: 1; 作者焦俊凯周全王豪罗海云王新新; 机构清华大学电机工程与应用电子技术系; 出处《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第4期1458-1464,共7页; 基金国家自然科学基金(51477087,51107067) 全国优博作者专项(201336) +1 种基金霍英东教育基金(142019) 电力系统国家实验室自主课题(SKLD16Z05,SKLD16Z06)。; 文摘为研究大气压射频辉光放电等离子体阻抗特性,基于射频放电的一维均匀假设模型,推导出了适用于α模式、高气压和小间隙条件下的电子数密度ne的解析解,从而可由实验测得的电压和电流幅值计算出ne;构建了描述整个放电区域的"电阻-电容混联"等效电路模型,模型参数可由ne计算得到。通过与他人数值模拟得到的ne对比,验证了该解析解的正确性。实验结果表明:放电电压和电子数密度随电流密度的增加而线性增加;鞘层厚度、准中性区的等效电容和鞘层的等效电容受电流密度变化影响不大;准中性区的等效电阻和放电间隙总等效阻抗随电流密度的增加而减小。实验结果还指出了前人工作中存在的一些问题:在小间隙时错误地忽略鞘层厚度,认为准中性区的长度就是电极间隙距离;不合理地将准中性区场强近似为0。未来工作希望进一步推导低气压或大间隙时电子数密度的解析解。; 关键词射频大气压辉光放电电子数密度鞘层等效电路模型等离子体阻抗; Keywords radio frequency atmospheric pressure glow discharge electron number density sheath equivalent circuit model impedance of plasma; 分类号 O461.21 [理学—电子物理学] O53 [理学—等离子体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名射频容性耦合等离子体阻抗影响因素研究被引量：5: 2; 作者吴勤斌罗日成王学禹黄军肖宏峰田迪凯张宇飞; 机构长沙理工大学电气与信息工程学院; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第5期458-464,共7页; 文摘为了进一步探索射频容性耦合放电等离子体,本文建立了以容性耦合等离子体(CCP)为基础的板-板电极一维轴线简化仿真模型。仿真采用氦气为工作气体,使用约化电子传递属性并忽略重粒子对流,利用有限元算法,综合讨论了一定范围内放电参数(气体压强、输入功率、电极直径以及间隙长度)变化时,放电等离子体阻抗的变动情况,并根据仿真所得数据进行理论分析。结果表明:四种仿真条件下的等离子体均呈现容抗特性;当气压升高、放电间隙长度变大时,初期均有利于碰撞电离的发生,而后将成为限制因素,使得等离子体阻抗呈现先减小后升高的变化趋势;当电极直径增大、输入功率增加时,初期等离子体阻抗均呈下降趋势,但后续变化趋于平稳。; 关键词容性耦合等离子体等离子体阻抗氦气放电放电参数; Keywords Capacitively coupled plasmas Plasmas impedance Helium discharge Discharge parameter; 分类号 TB79 [一般工业技术—真空技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名磁控溅射等离子体阻抗影响因素研究被引量：1: 3; 作者王懿李勇滔李含雁金炯孙小孟张春雨; 机构广西科技大学机械与汽车学院广西科技大学自动化学院浙江赛威科光电科技有限公司中国科学院微电子研究所; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2023年第6期513-519,共7页; 基金国家自然科学基金项目(62041402,61474139) 国家重点研发计划项目(2016YFF0100201)。; 文摘了解等离子体阻抗在磁控溅射放电过程中的变化规律,有利于调控电源和负载之间的阻抗匹配,达到最大化利用溅射功率,提高镀膜质量的目的。为了研究磁控溅射镀膜工艺过程中等离子体的阻抗特性的变化趋势,本文采用V-I probe测量等离子体阻抗大小、极板负偏压等参数,研究了气体流量和溅射功率对等离子体阻抗特性的影响。结果表明,在本文的实验条件下,等离子体始终呈现为容抗特性。当气体流量增大时,受氩气的电离率影响,等离子体阻抗实部R呈现先增大后减小的趋势,阻抗虚部X受到鞘层的影响呈现先减小后增大的趋势。当溅射功率增大时,等离子体阻抗实部R受欧姆加热的影响一直增大,阻抗虚部X受到负偏压和鞘层的影响逐渐减小。; 关键词磁控溅射等离子体阻抗射频放电放电参数; Keywords Magnetron sputtering Plasma impedance Radio frequency discharge Discharge parameters; 分类号 O539 [理学—等离子体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名高功率脉冲磁控溅射轮辐特征等离子体研究综述被引量：2: 4; 作者李玉阁刘伟阳雷明凯; 机构大连理工大学材料科学与工程学院; 出处《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第1期1-9,共9页; 基金国家重点基础研究发展计划(2018YFA0704603) 国家自然科学基金(51601029,U1508218) 中央高校基本科研业务费专项资金(DUT19JC52)。; 文摘高功率脉冲磁控溅射技术(HiPIMS)是最新一代磁控溅射技术,高度离化的脉冲等离子体是HiPIMS技术的核心特征。针对HiPIMS放电轮辐特征,评述特征放电下HiPIMS等离子体测量、模拟及对薄膜生长作用的最新研究进展。较之常规磁控溅射技术,HiPIMS溅射靶材粒子高度离化,等离子体阻抗显著降低。等离子体在靶材表面形成以千米每秒速度旋转漂移的致密等离子体结构,存在局域化和自组织特征,可显著影响沉积粒子输运行为,为沉积薄膜生长提供一个新的控制维度。HiPIMS放电轮辐一般呈现扩散形和三角形两种形态,通过介绍轮辐变化规律、形成机制的进展,明确靶材溅射产额也对其形态有影响。另一方面,HiPIMS轮辐结构结合其脉冲放电特点,可控制薄膜沉积通量输运特征,进而影响沉积薄膜的微结构、表面粗糙度等表面完整性参数。具有微秒到毫秒跨尺度多级脉冲调节能力的高功率调制脉冲磁控溅射(MPPMS)和高功率深振荡脉冲磁控溅射(DOMS),脉冲控制跨时间尺度特性带来的轮辐特征可剪裁性,为在更大时间和空间维度上薄膜生长控制提供了可能性。; 关键词高功率脉冲磁控溅射放电电流轮辐等离子体阻抗粒子输运; Keywords high power impulse magnetron sputtering discharge current spoke plasma resistance particle transport; 分类号 TG156 [金属学及工艺—热处理] TB114 [理学—概率论与数理统计]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名CO_2激光诱导空气等离子体放电通道特性研究: 5; 作者李凤舞左都罗王新兵; 机构华中科技大学武汉光电国家实验室; 出处《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2017年第6期831-835,共5页; 文摘为了研究高能脉冲CO_2激光诱导空气等离子体放电通道的特性,建立了高压电容充放电实验平台,激光束经离轴抛物聚焦镜汇聚,引发间距可调的盘状电极和针状电极之间的等离子体放电通道。利用电气参量测量、发射光谱测量等手段,分析了等离子体放电通道的启动特性、阻抗特性和等离子体密度。结果表明,激光束与放电方向同轴的结构以及较大的脉冲能量,使得激光诱导等离子体放电通道的启动时间大幅缩短,50mm间距的等离子体通道,启动时间约为2μs;激光诱导等离子体放电通道的阻抗很小,约1Ω~2Ω,并且阻抗值随放电电压的增加有减小的趋势,而与等离子体通道长度的关系不明显;由谱线的Stark展宽计算获得的空气击穿之后、放电启动之前的等离子体电子密度约为1019cm-3,尽管放电启动时等离子体辐射显著增强,但等离子体密度近乎单调下降。这些结果将有利于高能脉冲CO_2激光诱导空气等离子体放电通道的应用研究。; 关键词激光技术等离子体通道等离子体阻抗等离子体密度; Keywords laser technique plasma channel plasma impedance plasma density; 分类号 O53 [理学—等离子体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	大气压射频辉光放电电子数密度解析解及等离子体阻抗特性研究	焦俊凯周全王豪罗海云王新新	《高电压技术》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	4	在线阅读下载PDF 职称材料
2	射频容性耦合等离子体阻抗影响因素研究	吴勤斌罗日成王学禹黄军肖宏峰田迪凯张宇飞	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2020	5	在线阅读下载PDF 职称材料
3	磁控溅射等离子体阻抗影响因素研究	王懿李勇滔李含雁金炯孙小孟张春雨	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2023	1	在线阅读下载PDF 职称材料
4	高功率脉冲磁控溅射轮辐特征等离子体研究综述	李玉阁刘伟阳雷明凯	《中国表面工程》 EI CAS CSCD 北大核心	2022	2	在线阅读下载PDF 职称材料
5	CO_2激光诱导空气等离子体放电通道特性研究	李凤舞左都罗王新兵	《激光技术》 CAS CSCD 北大核心	2017	0	在线阅读下载PDF 职称材料