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强电场电离等离子体输运特性研究
被引量：
6
1
作者
周建刚
白敏冬
+1 位作者
谷建龙
白希尧
《高电压技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期51-53,共3页
运用连续方程和输运特性方程,对经济、军事和环境等领域急待解决的强电场电离等离子体输运问题进行了离子浓度分布的实验研究。高气压条件下强电场电离产生的离子若仅受外加电场和“雪崩”头部的本征电场作用,只会存在于放电通道中。对...
运用连续方程和输运特性方程,对经济、军事和环境等领域急待解决的强电场电离等离子体输运问题进行了离子浓度分布的实验研究。高气压条件下强电场电离产生的离子若仅受外加电场和“雪崩”头部的本征电场作用,只会存在于放电通道中。对离子施加垂直电场方向的接近电场对离子的作用力,就能把放电通道中的离子从电场中输送出去。实验表明,有效体积仅1 cm3的等离子体源,其输运离子率可达到1012/(cm3.s)。
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关键词
高气压
非平衡态
等离子体
电离放电
等离子体输运特性
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职称材料
筒内高功率脉冲磁控溅射放电等离子体的空间分布及输运行为
2
作者
崔岁寒
李体军
+3 位作者
李蕊
吴忠灿
马正永
吴忠振
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第5期163-171,共9页
增强对高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)过程中等离子体分布及输运行为的理解是控制涂层沉积过程并优化涂层性能的关键,尤其是对于筒内放电,等离子体分布与输运过程更加复杂,影响粒子运动行为的因素更加多样。针对筒内HiPIMS放电,并耦合电磁...
增强对高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)过程中等离子体分布及输运行为的理解是控制涂层沉积过程并优化涂层性能的关键,尤其是对于筒内放电,等离子体分布与输运过程更加复杂,影响粒子运动行为的因素更加多样。针对筒内HiPIMS放电,并耦合电磁约束离子输出系统,以Ar/N_(2)/Cr磁控溅射体系中的主要组分及其相关反应和运动规律为研究对象,利用检验粒子蒙特卡罗(MC)方法对Ar、N_(2)和Cr三类主要演化粒子的空间演变过程进行仿真,发现离子输出束流中的各粒子呈现出不同的空间分布。其中,质量大、离子能量高的金属离子Cr^(+)的输出束流最窄,而质量小、离子能量低的气体离子N^(+)的输出束流范围最宽。利用高精度光谱仪测出Ar^(+)、N^(+)和Cr^(+)的特征光谱强度随空间的变化,与仿真得到的离子空间分布吻合。同时,利用该体系可在不同的沉积位置制备出不同Cr/N比的Cr_(x)N涂层,实现多种成分的一次性制备或同一成分的可控制备。
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关键词
筒内放电
等离子体
仿真
等离子体输运特性
离子
空间分布
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职称材料
题名
强电场电离等离子体输运特性研究
被引量：
6
1
作者
周建刚
白敏冬
谷建龙
白希尧
机构
大连海事大学物理系高气压强电场电离放电辽宁省重点实验室
出处
《高电压技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006年第2期51-53,共3页
基金
国家自然科学基金重点
面上资助项目(批准号:60031001
+1 种基金
60071036)
国家重大基础研究前期研究专项(编号:2002CCC00900)
文摘
运用连续方程和输运特性方程,对经济、军事和环境等领域急待解决的强电场电离等离子体输运问题进行了离子浓度分布的实验研究。高气压条件下强电场电离产生的离子若仅受外加电场和“雪崩”头部的本征电场作用,只会存在于放电通道中。对离子施加垂直电场方向的接近电场对离子的作用力,就能把放电通道中的离子从电场中输送出去。实验表明,有效体积仅1 cm3的等离子体源,其输运离子率可达到1012/(cm3.s)。
关键词
高气压
非平衡态
等离子体
电离放电
等离子体输运特性
Keywords
high atmosphere pressure
non-equilibrium plasma
ionization discharge
plasma transportation characteristic
分类号
O531 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
筒内高功率脉冲磁控溅射放电等离子体的空间分布及输运行为
2
作者
崔岁寒
李体军
李蕊
吴忠灿
马正永
吴忠振
机构
北京大学深圳研究生院新材料学院
出处
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第5期163-171,共9页
基金
深圳市科技计划(SGDX20201103095406024和JSGG20191129112631389)
北京大学深圳研究生院引进人才科研启动经费(1270110273)资助项目
文摘
增强对高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)过程中等离子体分布及输运行为的理解是控制涂层沉积过程并优化涂层性能的关键,尤其是对于筒内放电,等离子体分布与输运过程更加复杂,影响粒子运动行为的因素更加多样。针对筒内HiPIMS放电,并耦合电磁约束离子输出系统,以Ar/N_(2)/Cr磁控溅射体系中的主要组分及其相关反应和运动规律为研究对象,利用检验粒子蒙特卡罗(MC)方法对Ar、N_(2)和Cr三类主要演化粒子的空间演变过程进行仿真,发现离子输出束流中的各粒子呈现出不同的空间分布。其中,质量大、离子能量高的金属离子Cr^(+)的输出束流最窄,而质量小、离子能量低的气体离子N^(+)的输出束流范围最宽。利用高精度光谱仪测出Ar^(+)、N^(+)和Cr^(+)的特征光谱强度随空间的变化,与仿真得到的离子空间分布吻合。同时,利用该体系可在不同的沉积位置制备出不同Cr/N比的Cr_(x)N涂层,实现多种成分的一次性制备或同一成分的可控制备。
关键词
筒内放电
等离子体
仿真
等离子体输运特性
离子
空间分布
Keywords
discharge in cylindrical cathode
plasma simulation
plasma transport behavior
plasma spatial distribution
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
强电场电离等离子体输运特性研究
周建刚
白敏冬
谷建龙
白希尧
《高电压技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2006
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
筒内高功率脉冲磁控溅射放电等离子体的空间分布及输运行为
崔岁寒
李体军
李蕊
吴忠灿
马正永
吴忠振
《中国表面工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
0
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