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等离子体断路开关的发展 被引量:6
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作者 曾正中 邱毓昌 +1 位作者 邱爱慈 孙风举 《电工电能新技术》 CSCD 1998年第1期24-29,40,共7页
本文概述了等离子体断路开关的应用、原理和研究近况,就今后的发展趋势作了探讨。长传导时间的开关还需要深入研究以进一步改善其性能;重复率的开关将得到积极的研究以达到工业实用化水平;等离子体染污对开关性能的影响可能成为重要... 本文概述了等离子体断路开关的应用、原理和研究近况,就今后的发展趋势作了探讨。长传导时间的开关还需要深入研究以进一步改善其性能;重复率的开关将得到积极的研究以达到工业实用化水平;等离子体染污对开关性能的影响可能成为重要的研究内容之一。 展开更多
关键词 等离子体 断路开关 等离子体染污
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