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H^+辐照前后W涂层表面的XPS分析
被引量：
2
1
作者
杨斌
雷家荣
+1 位作者
汪德志
黄宁康
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期41-44,共4页
对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+ 辐照前后的XPS分析 ,研究了H+ 辐照对W的结合能的影响。分析结果表明 ,沉积的W膜中除了单质钨外 ,还有部分钨的氧化物 ,H+ 辐照结果表明 ,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移 ;钨的...
对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+ 辐照前后的XPS分析 ,研究了H+ 辐照对W的结合能的影响。分析结果表明 ,沉积的W膜中除了单质钨外 ,还有部分钨的氧化物 ,H+ 辐照结果表明 ,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移 ;钨的氧化物有所减少 。
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关键词
离子
束混合
W薄膜
H^+辐照
XPS分析
钨薄膜
等离子体室
内壁保护
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职称材料
题名
H^+辐照前后W涂层表面的XPS分析
被引量：
2
1
作者
杨斌
雷家荣
汪德志
黄宁康
机构
教育部辐射物理及技术重点实验室四川大学原子核科学技术研究所
出处
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002年第1期41-44,共4页
基金
国家自然科学基金 ( 5 97810 0 2 )
中国科学院离子束开放研究实验室资助项目
高校博士学科点专项科研基金
文摘
对离子束混合技术在不锈钢基体上沉积的W膜进行了H+ 辐照前后的XPS分析 ,研究了H+ 辐照对W的结合能的影响。分析结果表明 ,沉积的W膜中除了单质钨外 ,还有部分钨的氧化物 ,H+ 辐照结果表明 ,H+的辐照使钨的结合能向低能方向偏移 ;钨的氧化物有所减少 。
关键词
离子
束混合
W薄膜
H^+辐照
XPS分析
钨薄膜
等离子体室
内壁保护
Keywords
Ion beam mixing
Tungsten films
H + ion irradiation
XPS
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
O53 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
H^+辐照前后W涂层表面的XPS分析
杨斌
雷家荣
汪德志
黄宁康
《原子与分子物理学报》
CAS
CSCD
北大核心
2002
2
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