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等离子体增强磁控溅射沉积碳化硅薄膜的化学结构与成膜机理 被引量:5
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作者 孙文立 徐军 陆文琪 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2010年第8期2311-2316,共6页
以CH4和Ar为工作气体,单晶硅为溅射靶,通过微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体增强非平衡磁控溅射方法在不同的CH4流量和沉积温度下制备了a-Si1-xCx∶H薄膜.利用傅里叶变换红外(FT-IR)光谱,X光电子能谱(XPS)和纳米硬度仪等表征方法研究... 以CH4和Ar为工作气体,单晶硅为溅射靶,通过微波电子回旋共振(MW-ECR)等离子体增强非平衡磁控溅射方法在不同的CH4流量和沉积温度下制备了a-Si1-xCx∶H薄膜.利用傅里叶变换红外(FT-IR)光谱,X光电子能谱(XPS)和纳米硬度仪等表征方法研究不同沉积参数下薄膜的化学结构、化学配比和硬度的变化.结果表明:室温(25℃)下随CH4流量由5cm·3min-1增加到45cm3·min-1(标准状态)时,薄膜中Si—CH2键,C—H键含量逐渐增加,Si—H键变化不明显;膜中C原子百分比由28%增至76%,Si原子百分比由62%降至19%.当CH4流量为15cm3·min-1时,随沉积温度的升高,薄膜中Si和C原子百分比含量分别为52%和43%,且基本保持不变;膜中Si—H键和C—H键转化为Si—C键,薄膜的显微硬度显著提高,在沉积温度为600℃时达到29.7GPa.根据分析结果,提出了室温和高温下a-Si1-xCx:H薄膜生长模型. 展开更多
关键词 等离子体增强磁控溅射 a-Si1-xCx∶H薄膜 FT-IR 化学结构 硬度 成膜机理
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等离子体增强磁控溅射离子镀TiN膜的电镜研究
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作者 王玉魁 张兴龙 +2 位作者 韩会民 王斐杰 高路斯 《大连理工大学学报》 CAS CSCD 北大核心 1995年第1期68-73,共6页
利用透射电镜研究了铁基体等离子体增强磁控溅射离子镀TiN膜的组织和结构.在沉积TiN之前先镀一层极薄的钛中间层,继之再沉积TiN.研究结果表明:在基体和中间层界面处有FeTi相;在中间层与后继膜的交接处α-Ti与Ti... 利用透射电镜研究了铁基体等离子体增强磁控溅射离子镀TiN膜的组织和结构.在沉积TiN之前先镀一层极薄的钛中间层,继之再沉积TiN.研究结果表明:在基体和中间层界面处有FeTi相;在中间层与后继膜的交接处α-Ti与Ti_2N有结构匹配关系;靠近中间层的后继膜由Ti_2N和TiN两相组成;而远离中间层的后继膜部分是TiN组成的. 展开更多
关键词 等离子体 氮化钛 磁控溅射 离子 透射电镜
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双放电腔微波-ECR等离子体源增强磁控溅射沉积技术 被引量:12
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作者 徐军 邓新绿 +2 位作者 张家良 陆文棋 马腾才 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期275-278,共4页
因其设备简单、沉积速率高等特点 ,磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中 .但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物、氮化物膜时 ,为了得到化学配比的膜层 ,薄膜生长表面的反应激活基团、离子等的密度必须足够大 .为此对原有的... 因其设备简单、沉积速率高等特点 ,磁控溅射沉积技术被广泛地用于各种薄膜制备中 .但用反应磁控溅射制备化合物薄膜如氧化物、氮化物膜时 ,为了得到化学配比的膜层 ,薄膜生长表面的反应激活基团、离子等的密度必须足够大 .为此对原有的微波 -ECR等离子体源进行了改造 .研究了双放电腔微波 -ECR等离子体源增强磁控溅射的放电特性 ,并用该方法制备了氮化碳膜 .结果表明 :该方法是一种有效的制备化合物薄膜的技术 ;用该方法制备的氮化碳膜 。 展开更多
关键词 磁控溅射 放电特性 氮化碳膜 等离子体 薄膜制备 沉积
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高密度等离子体增强非平衡磁控溅射沉积Cu膜研究 被引量:2
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作者 齐雪莲 任春生 +1 位作者 马腾才 刘峰 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第4期473-477,共5页
采用直流非平衡磁控溅射射频等离子体增强电高法在Si衬底上沉积了Cu膜,用扫描电镜(SEM)研究了沉积Cu膜的表面形貌并测得薄膜的厚度,用X射线衍射(XRD)研究了沉积Cu膜的结构,用电子能谱等对Cu膜进行了成分分析.实验结果表明,在... 采用直流非平衡磁控溅射射频等离子体增强电高法在Si衬底上沉积了Cu膜,用扫描电镜(SEM)研究了沉积Cu膜的表面形貌并测得薄膜的厚度,用X射线衍射(XRD)研究了沉积Cu膜的结构,用电子能谱等对Cu膜进行了成分分析.实验结果表明,在该条件下沉积的Cu膜致密,晶粒尺度在100~1000nm,膜基界面比较紧密,没有明显的空洞,并且Cu膜呈(111)织构.通过实验,找到沉积Cu膜的最佳实验参数,并希望这一工艺能应用在集成电路中. 展开更多
关键词 非平衡磁控溅射 增强电离 CU膜
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非平衡磁控溅射等离子体频谱特征
5
作者 牟宗信 牟晓东 +3 位作者 贾莉 张鹏云 刘升光 董闯 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2010年第2期169-172,共4页
利用朗缪尔探针和快速傅里叶变换研究了非平衡磁控溅射等离子体静电波动的驻波共振频谱特征。频带宽度为0~300kHz,典型放电条件下磁控靶前2cm和10cm两个位置的共振本征频率变化范围分别为10~50kHz和1~10kHz,研究了线圈电流、气压和... 利用朗缪尔探针和快速傅里叶变换研究了非平衡磁控溅射等离子体静电波动的驻波共振频谱特征。频带宽度为0~300kHz,典型放电条件下磁控靶前2cm和10cm两个位置的共振本征频率变化范围分别为10~50kHz和1~10kHz,研究了线圈电流、气压和放电功率等参数对共振本征频率的影响;指出了非平衡磁控溅射中能够导致等离子体静电驻波共振的两种势阱结构,提出驻波共振机制解释特征频率出现的原因,根据声驻波共振机制计算的电子温度数值符合实验的结果。 展开更多
关键词 磁控溅射 等离子体 共振
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磁控溅射沉积氮化铝薄膜中等离子体光谱研究
6
作者 杨建军 何欣 +1 位作者 王燕斌 杨会生 《西安工业学院学报》 2005年第6期516-521,共6页
薄膜材料由于其优异的性能,应用日益广泛.薄膜生长过程的在线检测具有重要意义.为了研究等离子体发射光谱强度与气体流量的关系,对薄膜生长过程进行在线检测;应用等离子体发射监测仪(Plasma Emission Monitor)采集反应磁控溅射真空室中... 薄膜材料由于其优异的性能,应用日益广泛.薄膜生长过程的在线检测具有重要意义.为了研究等离子体发射光谱强度与气体流量的关系,对薄膜生长过程进行在线检测;应用等离子体发射监测仪(Plasma Emission Monitor)采集反应磁控溅射真空室中等离子体的发射光谱.对氮化铝薄膜沉积过程中等离子体发射光谱进行分析,结果显示氮的谱线强度和铝的谱线强度随着氮气流量的增大都有明显而且相同的转变点.通过理论模拟分析,得出以下结论:反应粒子光谱强度的转变反映了溅射模式转变点,并且通过直线拟合的方法找到转变点.实验结果与理论模拟分析取得了一致结果. 展开更多
关键词 反应磁控溅射 等离子体发射光谱 氮化铝 转变点
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低温等离子体处理对纺织品磁控溅射镀膜的影响 被引量:3
7
作者 刘明雪 王晓辉 +3 位作者 赵倩 刘琼溪 陈光良 邵建中 《丝绸》 CAS CSCD 北大核心 2021年第2期1-6,共6页
为提高织物与溅射膜的结合牢度,文章应用低温等离子体技术对涤纶、棉和蚕丝三种织物进行表面改性。比较了表面改性对三种薄膜织物的耐摩擦和耐皂洗牢度的作用,并应用SEM和EDS分析技术研究了表面改性对不同纤维与溅射膜牢度影响不同的根... 为提高织物与溅射膜的结合牢度,文章应用低温等离子体技术对涤纶、棉和蚕丝三种织物进行表面改性。比较了表面改性对三种薄膜织物的耐摩擦和耐皂洗牢度的作用,并应用SEM和EDS分析技术研究了表面改性对不同纤维与溅射膜牢度影响不同的根本原因:纤维本身理化性质的差异性。高能溅射粒子使热塑性涤纶纤维上的粒子沉积点瞬间软化,黏结溅射粒子,表面改性使纤维的比表面积增大,包埋和黏结溅射粒子的作用更显著。棉和蚕丝纤维对溅射粒子无黏结作用,水分子的侵入削弱纤维与溅射粒子间的作用力,经改性后的纤维表面具有一定的脆弱点,皂洗时脆弱纤维更易溶落,纳米粒子也随之脱落。 展开更多
关键词 磁控溅射 低温等离子体 表面改性 纺织品 牢度
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等离子体增强型ZnO基纳米线异质结阵列光电探测器 被引量:1
8
作者 吴茴 彭嘉隆 +5 位作者 江金豹 李晗升 徐威 郭楚才 张检发 朱志宏 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2024年第3期184-192,共9页
低维ZnO基光电探测器具有高响应性和高光子吸收能力。然而,ZnO较窄的吸收范围以及较低的光生载流子寿命限制了低维ZnO材料在光电子学中的潜在应用。该研究展示了一种零维(0D)金属纳米等离子体增强氧化锌纳米线(ZnO)-硒化锌(ZnSe)异质结... 低维ZnO基光电探测器具有高响应性和高光子吸收能力。然而,ZnO较窄的吸收范围以及较低的光生载流子寿命限制了低维ZnO材料在光电子学中的潜在应用。该研究展示了一种零维(0D)金属纳米等离子体增强氧化锌纳米线(ZnO)-硒化锌(ZnSe)异质结阵列的新型光电探测器。与基于单纯ZnO纳米线阵列的探测器件比较表明,该探测器具有优异的光电响应性能。在可见光作用下,该器件的响应度和平均上升(下降)时间分别为1.7 mA/W和1.812 ms(1.803 ms),在10 h连续测试中表现出优异的稳定性,为开发高性能光电探测器提供了一种低成本、可规模化的方法,有望在可穿戴设备、光通信系统、环境传感器等多方面得到应用。 展开更多
关键词 等离子体增强 ZNO纳米线 纳米线异质结 光电探测器
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用电子回旋共振等离子体强化和未经强化电源磁控溅射沉积氮化碳薄膜的性能
9
作者 彭补之 《材料保护》 CAS CSCD 北大核心 2002年第12期67-67,共1页
关键词 电子回旋共振 等离子体强化 电源磁控溅射沉积 氮化碳薄膜 性能
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工艺参数对等离子增强磁控溅射TiAlN涂层微观结构及性能的影响 被引量:1
10
作者 张亚南 周子超 +4 位作者 张豪 肖宇琦 邓娜 付彬芸 多树旺 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第24期47-52,共6页
本工作引入正交试验法,以等离子增强磁控溅射TiAlN涂层的润湿性为试验指标,探究靶功率、Ar/N_(2)流量比和基体负偏压对试验指标的影响规律。使用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和原子力显微镜(AFM)分析... 本工作引入正交试验法,以等离子增强磁控溅射TiAlN涂层的润湿性为试验指标,探究靶功率、Ar/N_(2)流量比和基体负偏压对试验指标的影响规律。使用能谱仪(EDS)、X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和原子力显微镜(AFM)分析涂层的化学成分、晶体结构、微观形貌和表面粗糙度。通过测试接触角表征涂层的润湿性。极差分析结果表明,Al靶功率和Ar/N_(2)流量比对涂层中Al含量的影响最敏感,基体负偏压是决定涂层的晶粒度、粗糙度及接触角的最主要因素。S2工艺制备的涂层具有最佳的疏水性能,接触角为120.25°。S9工艺制备的涂层具有最强的亲水性能,接触角仅为15.15°。研究结果可为工程应用涂层工艺的选择提供一定的参考依据和分析思路。 展开更多
关键词 正交试验法 等离子增强磁控溅射 TIALN涂层 接触角
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低温等离子体处理增强芳纶1313纸的机理 被引量:13
11
作者 张美云 俞锦红 陆赵情 《中国造纸学报》 CAS CSCD 2006年第3期72-76,共5页
通过正交实验优化出了氩(Ar)低温等离子体处理芳纶1313短切纤维的最佳工艺条件:处理时间为2 min、气体压力为60 Pa、放电功率为80 W,在此条件下处理,芳纶纸页的抗张指数增加了21.7%,撕裂指数增加了34.9%。此外,利用AFM、XPS等仪器分析... 通过正交实验优化出了氩(Ar)低温等离子体处理芳纶1313短切纤维的最佳工艺条件:处理时间为2 min、气体压力为60 Pa、放电功率为80 W,在此条件下处理,芳纶纸页的抗张指数增加了21.7%,撕裂指数增加了34.9%。此外,利用AFM、XPS等仪器分析研究得出低温等离子体处理增强纸页强度性能的机理是:①处理后的纤维表面生成羟基和羧基,提高了纸页成形中纤维间的化学结合力;②处理后的纤维表面粗糙度增加,提高了纸页成形中纤维间的结合力。 展开更多
关键词 芳纶1313 低温等离子体 纸页强度 增强机理
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等离子体增强MOCVD法生长ZnO薄膜 被引量:6
12
作者 王新强 杨树人 +7 位作者 王金忠 李献杰 殷景志 姜秀英 杜国同 杨如森 高春晓 Ong H.C. 《高等学校化学学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期927-931,共5页
利用等离子体增强MOCVD法生长出 ZnO薄膜,用X射线衍射谱观察到位于 2θ34.56°处(0002)的衍射峰,表明ZnO沿c方向呈柱状生长.通过荧光光谱,观察到来自于激子的高强度的近带边紫外光发射(375um).紫外发射光强度与深能级复... 利用等离子体增强MOCVD法生长出 ZnO薄膜,用X射线衍射谱观察到位于 2θ34.56°处(0002)的衍射峰,表明ZnO沿c方向呈柱状生长.通过荧光光谱,观察到来自于激子的高强度的近带边紫外光发射(375um).紫外发射光强度与深能级复合发射光强度比高达 193,显示出材料的高质量,并通过原子力显微镜加以验证.为了实现高阻ZnO薄膜,利用高温富氧分段退火和用N2 气进行掺氮两种方法生长高阻ZnO薄膜.结果表明,电阻率由0.65 Ω·cm分别升高到1100 Ω·cm(分段退火)和5×104Ω·cm(掺氮).进一步比较发现,掺氮的样品不仅电阻率高,而且光荧光特性好,显示出更高的薄膜质量. 展开更多
关键词 等离子体增强 MOCVD法 ZNO薄膜 原子力显微镜 光谱 半导体薄膜 生长方法
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等离子体增强火炮发射性能的实验研究 被引量:4
13
作者 李海元 栗保明 李鸿志 《弹箭与制导学报》 CSCD 北大核心 2007年第2期297-299,312,共4页
在30mm电热化学发射装置上进行了输入电能、装填密度和火药种类影响发射性能的实验研究。实验结果表明:在等离子体脉冲的作用下,火药燃烧过程得到增强,燃气生成速率提高,导致较陡的起始压力上升曲线。在较大能量和脉宽的电脉冲作用下,... 在30mm电热化学发射装置上进行了输入电能、装填密度和火药种类影响发射性能的实验研究。实验结果表明:在等离子体脉冲的作用下,火药燃烧过程得到增强,燃气生成速率提高,导致较陡的起始压力上升曲线。在较大能量和脉宽的电脉冲作用下,在不增加最大膛压的情况下能有效地提高炮口初速。某些经过表面处理的火药可以在抑制最大膛压升高的同时保持等离子体对火药燃烧的电增强效应,提供了一种提高发射效率的有效途径。 展开更多
关键词 电热化学炮 等离子体 增强效应
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电热化学炮等离子体增强燃烧过程研究 被引量:7
14
作者 戴荣 栗保明 《兵工学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期396-398,共3页
在电能密度范围 0 5 8~ 0 98kJ/ g、装填密度范围 0 3~ 0 35 g/cm3条件下 ,实现了电热化学炮固体药点火、等离子体单脉冲或双脉冲增强燃烧过程 ,进行了等离子体燃烧增强特性分析 ,并结合数值分析对等离子体射流理想的注入时机予... 在电能密度范围 0 5 8~ 0 98kJ/ g、装填密度范围 0 3~ 0 35 g/cm3条件下 ,实现了电热化学炮固体药点火、等离子体单脉冲或双脉冲增强燃烧过程 ,进行了等离子体燃烧增强特性分析 ,并结合数值分析对等离子体射流理想的注入时机予以了讨论 。 展开更多
关键词 电热化学炮 等离子体 增强燃烧 固体药点火 脉冲 射流
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偏压对低气压等离子体增强化学气相沉积TiO_2薄膜的结构和性能的影响 被引量:4
15
作者 刘伟 李岩 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期103-107,共5页
使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉... 使用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法,以TTIP(Ti(OC3H7)4)为单体,用氧气为载气,以脉冲偏压为辅助在室温的玻璃基片上沉积无定型TiO2薄膜,分析探讨在射频等离子体增强化学气相沉积TiO2薄膜的过程中,基片上施加脉冲偏压和远离脉冲偏压的情况下成膜的比较.在沉积的过程中,利用USB-2000型光纤光谱仪对等离子体的发射光谱进行测量,定性分析等离子体沉积过程中的成分组成.用UV-1901探讨薄膜的光学特性,发现紫外和近紫外区域有一定吸收;用扫描电镜分析薄膜表面形貌的变化,可以看到偏压下的薄膜致密无孔,而远离偏压下的薄膜形貌粗糙;用红外光谱分析薄膜的结构组成,可以看到明显的Ti—O吸收峰.脉冲偏压下得到的薄膜在化学、光学以及电学方面有很好应用前景. 展开更多
关键词 TiO2 等离子体 脉冲偏压 等离子体增强化学气相沉积(PE—CVD)
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利用表面等离子体增强发光二极管发光效率的研究进展 被引量:2
16
作者 阎杰 王沛 +5 位作者 鲁拥华 郑荣升 谢志国 陈俊学 苑光辉 明海 《量子电子学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期1-9,共9页
表面等离子体(Surface plasmons,SPs)是近年来国际上研究的一个热点。SPs具有空间局域性,局域场增强等特点,可以用来增强发光二极管(Light-emitting diode,LED)的发光效率。利用表面等离子体场局域性质,在共振时SPs有很高的态密度,这能... 表面等离子体(Surface plasmons,SPs)是近年来国际上研究的一个热点。SPs具有空间局域性,局域场增强等特点,可以用来增强发光二极管(Light-emitting diode,LED)的发光效率。利用表面等离子体场局域性质,在共振时SPs有很高的态密度,这能够影响发光中心的辐射速率,提高发光中心的内量子效率;并且可以制作合适的结构,控制光的出射方向,提高发光二极管的提取效率。近年很多研究小组研究了SPs增强发光效率的物理机理,并得到一些很好的结果,本文对现阶段的研究进展进行综述。 展开更多
关键词 光电子学 增强发光 表面等离子体 发光二极管
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低温等离子体预处理针织管增强PVDF中空纤维膜性能分析 被引量:3
17
作者 杨丹 刘丽妍 +2 位作者 李婷 韩永良 白静娜 《现代纺织技术》 北大核心 2021年第3期16-22,共7页
为解决增强型PVDF中空纤维膜的界面黏结问题,以PET针织管为增强体,PVDF为铸膜液,采用低温等离子体对针织管表面进行预处理,并利用浸没沉淀相转化法制备增强型中空纤维膜。通过测试增强膜的纯水通量、孔隙率、平均孔径及力学性能等,研究... 为解决增强型PVDF中空纤维膜的界面黏结问题,以PET针织管为增强体,PVDF为铸膜液,采用低温等离子体对针织管表面进行预处理,并利用浸没沉淀相转化法制备增强型中空纤维膜。通过测试增强膜的纯水通量、孔隙率、平均孔径及力学性能等,研究了不同等离子体处理时间对增强膜性能的影响。结果表明:等离子体处理对增强膜的纯水通量、孔隙率及平均孔径影响较小,但对改善增强膜界面结合强度效果明显。与未改性前相比,当处理时间为15 min时,增强膜的拉伸强度提升了22.6%,爆破强度提升了40%,超声振荡前后膜纯水通量的变化量减小了71.2%,这时膜的力学性能最佳,综合性能最优。 展开更多
关键词 增强 铸膜液 增强型PVDF膜 低温等离子体处理
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常压等离子体增强化学气相沉积纳米晶TiO_2多孔薄膜的研究 被引量:3
18
作者 李岩 徐绍魁 +1 位作者 徐金洲 张菁 《东华大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2009年第1期108-113,共6页
采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法及TiCl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TiO2多孔薄膜.利用偏光显微镜分析(PM)、扫描电子显微镜分析(SEM)、高分辨透射电镜分析(HRTEM)、X光衍射分析(XRD)等检测手段,系统地对纳米晶TiO... 采用等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD)的方法及TiCl4/O2混合气体在常温常压下可制备纳米晶TiO2多孔薄膜.利用偏光显微镜分析(PM)、扫描电子显微镜分析(SEM)、高分辨透射电镜分析(HRTEM)、X光衍射分析(XRD)等检测手段,系统地对纳米晶TiO2多孔膜表面形貌以及成分进行表征.研究结果表明:使用等离子体化学气相沉积方法,可以在常温常压下快速沉积纳米晶TiO2多孔薄膜,并且PE-CVD与传统的化学方法相比具有低能耗、低污染、方法简便、成本低等优点,是具有良好发展前景的纳米晶多孔薄膜制备新方法. 展开更多
关键词 等离子体增强化学气相沉积(PE-CVD) TiO2多孔薄膜 纳米晶结构
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外场下等离子体中波的增强和带电粒子流的加速 被引量:1
19
作者 吴军 吴健 李强 《电波科学学报》 EI CSCD 北大核心 2007年第1期38-42,共5页
在不考虑碰撞机制的情况下,研究了外加高频电磁场(泵波)下等离子体中Langmuir波和离子声波的增强以及带电粒子流的加速。基于流体力学方程,推导了描述等离子体参量不稳定性的振动方程,进一步得到描述带电粒子流加速的数学表达式和有质... 在不考虑碰撞机制的情况下,研究了外加高频电磁场(泵波)下等离子体中Langmuir波和离子声波的增强以及带电粒子流的加速。基于流体力学方程,推导了描述等离子体参量不稳定性的振动方程,进一步得到描述带电粒子流加速的数学表达式和有质动力的数学表达式。结果表明,在等离子体参量不稳定性的激发过程中,Langmuir波和离子声波得以增强以及带电粒子流由于泵波与Langmuir波(离子声波)的耦合而加速;有质动力的产生是由于泵波与Langmuir波(离子声波)的耦合而且它是参量不稳定过程的策动力,另外有质动力不仅存在高频分量,还存在低频分量。 展开更多
关键词 参量不稳定性 等离子体增强 电子加速 有质动力
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表面等离子体激元共振的场增强理论研究 被引量:1
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作者 刘家源 安志勇 +1 位作者 李亚红 崔士宝 《光电技术应用》 2015年第4期11-15,54,共6页
构建了一种绝缘体-金属-绝缘体的表面等离子体激元的产生界面,根据麦克斯韦方程组及边界条件,分析了金属表面的色散特性,同时利用时域有限差分(FDTD)方法分别模拟了Bow-tie纳米结构和矩形纳米结构在单光源辐射下的场增强效应,以及双Bow-... 构建了一种绝缘体-金属-绝缘体的表面等离子体激元的产生界面,根据麦克斯韦方程组及边界条件,分析了金属表面的色散特性,同时利用时域有限差分(FDTD)方法分别模拟了Bow-tie纳米结构和矩形纳米结构在单光源辐射下的场增强效应,以及双Bow-tie纳米结构分别在单、双光源辐照下的场增强效果,通过对比分析模拟结果可发现,在等离子体激元共振的场增强中电荷的尖端效应发挥着重要作用,而且场增强幅度与纳米结构之间的距离有关,只有当纳米结构之间的距离合适时,才能使其获得最大场增强效应。 展开更多
关键词 表面等离子体激元 色散特性 时域有限差分 增强 尖端效应
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