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带涂层缺陷金属EIS研究中等效电路的设计 被引量:6
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作者 李自力 尚兴彬 +3 位作者 黄敬东 崔淦 景龙祥 郭百合 《腐蚀与防护》 CAS 北大核心 2013年第1期52-55,共4页
对电化学阻抗谱进行等效电路分析是研究涂层金属性能的主要方法之一。对于带有缺陷的涂层,由于对应腐蚀体系的复杂性及等效电路的不完善,很难设计合适的等效电路与实际研究相对应,而国内在此方面的问题更为突出。因此,从带有缺陷的涂层... 对电化学阻抗谱进行等效电路分析是研究涂层金属性能的主要方法之一。对于带有缺陷的涂层,由于对应腐蚀体系的复杂性及等效电路的不完善,很难设计合适的等效电路与实际研究相对应,而国内在此方面的问题更为突出。因此,从带有缺陷的涂层腐蚀体系的闭合回路的扰动电流的流径出发,对国内外等效电路的设计研究方法进行总结,提出科学的等效电路设计思路,可以帮助得到合理的等效电路,从而推动等效电路法的实用性与准确性。 展开更多
关键词 缺陷涂层 电化学阻抗谱 等效电路设计
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