期刊文献+
共找到6篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
工件台移动直线性对掩模移动曝光的影响 被引量:3
1
作者 佟军民 胡松 +2 位作者 董小春 严伟 余国彬 《光电工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第11期55-60,共6页
针对工件台制造和装配过程中产生的移动直线性误差,建立了掩模沿曲线移动时曝光量与曲线和移动距离之间关系的数学模型。通过对实测工件台移动直线性误差规律的分析,确定了近似的移动曲线函数。利用MATLAB进行数值模拟的方法,分别模拟... 针对工件台制造和装配过程中产生的移动直线性误差,建立了掩模沿曲线移动时曝光量与曲线和移动距离之间关系的数学模型。通过对实测工件台移动直线性误差规律的分析,确定了近似的移动曲线函数。利用MATLAB进行数值模拟的方法,分别模拟了沿理想直线移动、不同幅值和不同移动距离的曲线移动时,所获得元件的面形,并分析了面形误差的影响因素和"竹节"误差产生的原因。最后得出结论:通过控制移动距离为一倍的掩模图形重复周期,并减小工件台移动直线性误差,对控制元件的面形精度和"竹节"误差最为有利。 展开更多
关键词 掩模移动曝光技术 曲线移动 “竹节”形误差 面形精度
在线阅读 下载PDF
基于接近式光刻机的掩模移动曝光对准系统设计 被引量:1
2
作者 佟军民 胡松 《制造技术与机床》 北大核心 2015年第8期47-50,共4页
提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同... 提出了一种用于接近式光刻机的掩模移动曝光CCD图象对准系统,可以实现连续浮雕微光学元件的制作。由一次预对准和一次精对准实现基片的安装定位,先后通过两次预对准和两次精对准实现掩模的两次安装定位。CCD图象对准系统由两支完全相同且相互独立的光路组成,各光路分别照明掩模和基片上的标记后,清晰地呈现在CCD象面上,采集卡将CCD采集到的数据送入计算机,进行算法处理,给出X、Y、θ的偏差,从而调节掩模和基片的相对位置。该方案可以获得优于1μm的对准精度,工作更为方便、易升级为自动对准。 展开更多
关键词 掩模移动曝光技术 接近式光刻机 对准系统 对准精度
在线阅读 下载PDF
高衍射效率连续面形分束器的设计与制备 被引量:4
3
作者 刘文静 庞辉 +4 位作者 曹阿秀 吴育娟 史立芳 付永启 邓启凌 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第7期9-16,共8页
为了解决目前光学分束器件衍射效率低的问题,在传统的Gerchberg-Saxton(GS)算法基础上,对初始相位和迭代算法中的振幅限制方式作改进.先利用二次相位来作为迭代算法的初始相位,再在迭代过程中将输出平面分为信号区和噪音区两部分,保持... 为了解决目前光学分束器件衍射效率低的问题,在传统的Gerchberg-Saxton(GS)算法基础上,对初始相位和迭代算法中的振幅限制方式作改进.先利用二次相位来作为迭代算法的初始相位,再在迭代过程中将输出平面分为信号区和噪音区两部分,保持这两部分的相位不变,信号区内振幅乘上一个随迭代次数不断变化的因子,噪音区内振幅保持不变.通过该方法设计9×9连续面形的分束器件,并与传统GS算法设计的分束器进行了对比,结果表明:GS算法设计得到的分束器相位存在严重的突变和不连续等问题,而本文方法设计得到的分束器相位连续平滑,可利用移动掩模技术加工.最终制备出1×3和1×9分束器,其实测的衍射效率分别为83.5%和89.4%,均匀性误差分别为3.56%和15.23%. 展开更多
关键词 衍射 二元光学 Gerchberg-Saxton算法 移动掩模技术 衍射光学元件 分束器
在线阅读 下载PDF
硅基非球面柱面微透镜阵列制备方法 被引量:1
4
作者 张畅达 高明友 +4 位作者 周岩 邓晓洲 熊欣 刘风雷 张为国 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2022年第7期377-385,共9页
非球面柱面微透镜是一种重要的微光学元件,具有激光准直、聚焦、匀化等功能,在激光通信、光纤传感、激光雷达测距、激光泵浦等系统中具有广泛的应用。为了减小光电系统的体积、提升光纤性能,增大透镜数值孔径是一种常用的解决方案。提... 非球面柱面微透镜是一种重要的微光学元件,具有激光准直、聚焦、匀化等功能,在激光通信、光纤传感、激光雷达测距、激光泵浦等系统中具有广泛的应用。为了减小光电系统的体积、提升光纤性能,增大透镜数值孔径是一种常用的解决方案。提出采用折射率更大的硅作为低折射率石英基底的替代材料,使得微透镜在相同体积下数值孔径大幅提升,同时可以降低加工量从而提升制备效率。针对传统石英微透镜的制备方法不再适用硅基微透镜的问题,提出基于掩模移动曝光方法制备光刻胶非球面图案,使用多次涂胶和循环曝光方法,分别解决厚胶涂覆均匀性差及曝光掩模痕迹明显等问题,最终利用等离子体刻蚀技术进行图案转移传递,从而实现微透镜的制备。以数值孔径2.9的硅基非球面柱面透镜阵列为例开展实际制备工艺实验,所制备的微透镜列阵面型精度PV为0.766μm,表面粗糙度Ra为3.4 nm,表面光洁与设计值符合较好,验证了制备方法的可行性。该方法有望促进非球面柱面微透镜列阵在紧凑化红外光电系统中的大规模应用。 展开更多
关键词 光学工程 非球面柱面微透镜阵列 移动掩模 硅基 大数值孔径 等离子体刻蚀
在线阅读 下载PDF
基于投影光刻技术的微透镜阵列加工方法 被引量:3
5
作者 龚健文 王建 +2 位作者 刘俊伯 孙海峰 胡松 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2023年第12期81-90,共10页
本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂... 本文提出了一种基于投影光刻技术的微透镜阵列制备方法,成功制备多种口径、面形及表面粗糙度均良好的微透镜阵列。该方法采用0.2倍投影物镜,降低掩模板制造成本,实现不同口径微透镜阵列制备。采用掩模移动滤波技术,在降低掩模制备复杂性的同时,提高了微透镜阵列面形精度。本文对四种不同口径的微透镜阵列进行制备实验,分别为50μm、100μm、300μm、500μm,其表面形貌加工精度达到微米级,表面粗糙度达到纳米级。实验结果表明,该方法在微透镜阵列制造中具有很大的潜力,与传统方法相比,能够实现更低的线宽和更高的表面面形精度。 展开更多
关键词 微透镜阵列 投影光刻技术 掩模移动滤波技术
在线阅读 下载PDF
100%填充系数的微透镜阵列薄膜及应用研究 被引量:2
6
作者 张凯华 董连和 +2 位作者 孙艳军 冷雁冰 陈哲 《科学技术与工程》 北大核心 2012年第9期2193-2196,共4页
研究了掩模移动法制作一种高填充因子、高垂跨比的柱面微透镜阵列(MLA)薄膜,并应用于有机发光二极管(OLED)平板中来提高输出效率。测试结果显示OLED的输出效率最多可以提高46%,并且没有明显的色差。实验证明具有高填充因子、高垂跨比的... 研究了掩模移动法制作一种高填充因子、高垂跨比的柱面微透镜阵列(MLA)薄膜,并应用于有机发光二极管(OLED)平板中来提高输出效率。测试结果显示OLED的输出效率最多可以提高46%,并且没有明显的色差。实验证明具有高填充因子、高垂跨比的微透镜阵列薄膜可以提高各种显示器的光学效率或者平板光源的照明效果。 展开更多
关键词 掩模移动 微透镜阵列薄膜 有机发光二极管
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部