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题名三代管MCP离子阻挡膜研究
被引量：11
- 1
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作者
李晓峰
张景文
高鸿楷
侯洵
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机构
中国科学院西安光学精密机械研究所光电子学研究室
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出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2001年第12期1496-1499,共4页
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文摘
三代管中 Ga As光电阴极的表面 Cs- O层经不住正离子的轰击 ,但在 MCP的通道内 ,由于二次电子倍增 ,在 MCP通道的输出端 ,电子密度较大 ,所以 MCP通道内的残余气体分子就会被电离 ,正离子在电场的作用下向阴极方向运动 ,最终轰击阴极的表面 Cs- O层 ,使阴极的灵敏度衰退 .所以在 MCP的输入端制作一层 Al2 O3 离子阻挡膜对延长阴极的寿命是至关重要的作用 .本文介绍了 MCP离子阻挡膜的离子阻挡和电子透射原理 ,离子阻挡膜厚度的确定以及离子阻挡膜的制作工艺 .
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关键词
GaAs
MCP
光电阴极
离子阻挡膜
三代管
砷化镓
电子透射
AL2O3
三氧化二铝
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Keywords
GaAs
AlGaAs
MCP
Photocathode
Ionbarrier
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分类号
TN13
[电子电信—物理电子学]
O484.5
[理学—固体物理]
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题名微光像增强管离子阻挡膜质量测试技术研究
被引量：1
- 2
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作者
贺英萍
张太民
石峰
朱宇峰
拜晓锋
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机构
微光夜视技术国防科技重点实验室
西安应用光学研究所
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出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第3期482-485,共4页
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文摘
鉴于通常制作的离子阻挡膜存在通孔,在阴极低电压下,经MCP电子倍增在荧光屏上显示为亮孔,为测试出规则与不规则亮孔的大小和数量,提出了一种像管的离子阻挡膜质量测试方法。该方法是在规定电压和光阴极照度的条件下,使像管光阴极接收约2lx的光照射,给像管各极施加电压使像管荧光屏上离子阻挡膜亮孔清晰可见,用10倍显微镜或相机拍照,观察荧光屏所成的离子阻挡膜通孔图像。试验结果表明:在相同的测试条件下,离子阻挡膜的制作工艺不同,离子阻挡膜质量亦不同。
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关键词
微光像管
微通道板
离子阻挡膜
膜质量测试
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Keywords
image intensifier tube
MCP
ion barrier film
testing of ion barrier film quality
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分类号
TN15-34
[电子电信—物理电子学]
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题名微通道板离子阻挡膜对三代像管分辨率的影响
被引量：3
- 3
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作者
闫金良
向世明
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机构
北京理工大学
西安应用光学研究所
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出处
《应用光学》
CAS
CSCD
1997年第6期24-26,43,共4页
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文摘
分析传统的微通道板离子阻挡膜对三代像管分辨率的影响，指出离子阻挡膜衰减碰撞通道壁的一次电子数及其工艺引起的通道内壁碳污染是导致带膜三代像管分辨率下降的主要原因，提出降低离子阻挡膜对三代像管分辨率影响的主要技术途径。
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关键词
离子阻挡膜
三代像管
分辨率
微通道板
MCP
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Keywords
ion barrier film, generation Ⅲ image tube, resolution
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分类号
TN223
[电子电信—物理电子学]
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题名微通道板离子阻挡膜
被引量：4
- 4
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作者
闫金良
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机构
北京理工大学
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出处
《应用光学》
CAS
CSCD
1996年第1期12-14,共3页
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文摘
微通道板离子阻挡膜在第三代微光像增强器中起着重要作用，本文在分析离子阻挡膜形成原理的基础上，给出了实验方案。最后，测量和分析了带膜微通过板的性能。
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关键词
微通道板
离子阻挡膜
微光技术
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Keywords
microchannel plate (MCP)
ion barrier film
Al_2O_3
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分类号
TN223
[电子电信—物理电子学]
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题名一种新型的高性能微通道板离子阻挡膜
- 5
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作者
闫金良
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机构
烟台师范学院物理系
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出处
《电子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期1023-1025,共3页
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基金
国防科技重点项目资助课题 (No .2 .2 .3 .1 )
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文摘
微通道板 (MCP)离子阻挡膜在Ⅲ代微光像管中起到延长寿命的关键作用 .分析了目前离子阻挡膜制备方法的优缺点 ,提出一种在MCP输入面制备离子阻挡膜的新型工艺 ,此工艺不造成MCP通道壁内表面碳污染 .在MCP输入面制备了 4nm厚Al2 O3 离子阻挡膜 ,测量了MCP离子阻挡膜的离子阻挡特性和电子透过特性 .实验表明 ,4nm厚Al2 O3 离子阻挡膜能有效地阻止反馈离子 ,透过电子 .
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关键词
微通道板
离子阻挡膜
像管
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Keywords
microchannel plate
ion barrier film
image tube
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分类号
TN105.1
[电子电信—物理电子学]
TN223
[电子电信—物理电子学]
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题名微通道板及其发展趋势
被引量：4
- 6
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作者
刘术林
邓广绪
张继胜
王长骏
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机构
西安应用光学研究所
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出处
《应用光学》
CAS
CSCD
2003年第B08期61-64,共4页
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文摘
回顾微通道板发展历史及各阶段的主要技术特征。综述自90年代以来国内外微通道板的研发和生产情况．
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关键词
微通道板
微光像增强器
噪声
分辨率
离子阻挡层膜
发展趋势
技术特征
电真空器件
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分类号
TN144
[电子电信—物理电子学]
TN223
[电子电信—物理电子学]
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题名光放大、控制及器件
- 7
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出处
《中国光学》
EI
CAS
1997年第4期73-74,共2页
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文摘
TN144 97042620微通道板离子阻挡膜=Microchannel plate ionbarrier film[刊,中]/闫金良(北京理工大学.北京(100081))//应用光学.—1996,17(1).—12-14在分析离子阻挡膜形成原理的基础上,给出了实验方案。测量和分析了带膜微通道板的性能。图2表1参2(严兰)
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关键词
应用光学
带膜微通道板
离子阻挡膜
光电倍增管
理工大学
西安
形成原理
等效背景
实验方案
研究所
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分类号
TN144
[电子电信—物理电子学]
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题名其他
- 8
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出处
《中国光学》
EI
CAS
2002年第6期58-59,共2页
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文摘
O462.3 2002064379三代管 MCP 离子阻挡膜研究=Ion barrier of MCP inthe third generation image intensifier[刊,中]/李晓峰,张景文,高鸿楷,侯洵(中科院西安光机所光电子学研究室.陕西,西安(710068))∥光子学报.—2001,30(12).—1496-1499介绍了 MCP 离子阻挡膜的离子阻挡和电子透射原理,离子阻挡膜厚度的确定以及离子阻挡膜的制作工艺。
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关键词
离子阻挡膜
滤波器
响应保持功能
光电子学
制作工艺
透射原理
光电管
西安
中科院
硅光电负阻器件
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分类号
TN144
[电子电信—物理电子学]
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