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氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜被引量：9: 1; 作者汤庆鑫路丽霞 +3 位作者齐秀英钟殿强初国强刘益春《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期284-288,共5页; 采用等离子辅助电子束蒸发技术制备高纯金属锌膜,然后在氧气气氛下经高温热处理得到氧化锌的多晶薄膜。X射线衍射谱的结果表明:未经热氧化样品由金属锌和氧化锌纳米晶组成,随着热氧化温度的升高氧化锌纳米晶粒长大,形成纳米氧化锌多晶... 展开更多; 关键词等离子辅助电子束蒸发技术制备 ZNO薄膜氧化锌薄膜氧氩多晶薄膜光致发光; 在线阅读下载PDF 职称材料

基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响被引量：7: 2; 作者王松林杨崇民 +4 位作者张建付刘青龙黎明米高园王慧娜《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期764-767,共4页; 为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况,在不同基底温度环境下,通过离子辅助电子束蒸发方式,在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度计测量光谱透过率,依据光学薄膜相... 展开更多; 关键词离子辅助电子束蒸发薄膜光学常数基底温度氧化铝薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

离子源偏压对PIA-EB-Hf法制备的HfO2激光薄膜性能的影响被引量：2: 3; 作者付朝丽杨勇 +3 位作者马云峰魏玉全焦正黄政仁《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期69-74,共6页; 探究HfO_2薄膜的激光损伤特性以进一步提高激光损伤阈值(Laser Induced Damage Threshold,简称LIDT),对其在高功率激光系统中的广泛应用具有重要的意义。在不同的离子源偏压下,采用等离子体辅助电子束蒸发金属铪(Hf)并充氧(O_2)进行反... 展开更多; 关键词 HFO2薄膜等离子体辅助电子束蒸发离子源偏压微观结构激光损伤; 在线阅读下载PDF 职称材料

808nm大功率半导体激光器腔面膜的制备被引量：9: 4; 作者套格套尧舜 +4 位作者张云鹏路国光初国强刘云王立军《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期25-28,共4页; 采用等离子体辅助电子束蒸发方法在 80 8nm大功率量子阱半导体激光器腔面设计镀制了HfO2 /SiO2 系前后腔面膜用直接测量法测量并比较了各种常用膜系的相对损伤阈值增透膜的反射率为 12 .2 % ,高反膜的反射率为 97.9% 对于 10 0 μ... 展开更多; 关键词半导体激光器等离子体辅助电子束蒸发高反膜增透膜灾变性光学损伤; 在线阅读下载PDF 职称材料

ZnO/Zn界面对纳米ZnO薄膜光学性质的影响被引量：2: 5; 作者路丽霞季辉 +2 位作者汤庆鑫童艳红刘益春《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期229-233,共5页; 采用氧等离子体辅助电子束蒸发金属Zn后低温退火的方法制备纳米ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)谱、拉曼(Ram an)谱、X射线光电子能谱(XPS)以及光致发光(PL)谱等手段,分析了退火温度及ZnO/Zn界面对样品的结构和发光性质的影响。Ram an结果... 展开更多; 关键词等离子体辅助电子束蒸发纳米ZNO薄膜 ZnO/Zn界面光致发光; 在线阅读下载PDF 职称材料

PIA-EB-Hf法制备的单层HfO_2激光薄膜残余应力及化学计量比的调控被引量：1: 6; 作者付朝丽杨勇 +2 位作者马云峰黄政仁焦正《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期515-523,共9页; Hf O_2作为最有前景的抗激光薄膜材料之一,最佳的制备方法是利用等离子体辅助电子束蒸发金属Hf并充氧进行反应沉积即PIA-EB-Hf法,而化学计量比失配导致的强吸收和高残余应力造成的力损伤成为其主要的激光损伤机制。采用正交优化手段,探... 展开更多; 关键词氧化铪等离子体辅助电子束蒸发激光损伤残余应力化学计量比; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜被引量：9: 1; 作者汤庆鑫路丽霞齐秀英钟殿强初国强刘益春; 机构东北师范大学物理系中国科学院长春光学精密机械与物理研究所; 出处《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第3期284-288,共5页; 基金中国科学院百人计划资助项目; 文摘采用等离子辅助电子束蒸发技术制备高纯金属锌膜,然后在氧气气氛下经高温热处理得到氧化锌的多晶薄膜。X射线衍射谱的结果表明:未经热氧化样品由金属锌和氧化锌纳米晶组成,随着热氧化温度的升高氧化锌纳米晶粒长大,形成纳米氧化锌多晶薄膜且薄膜结晶性增强;光致发光谱表明:样品均具有较强的紫外自由激子发光。由于未经热氧化样品中氧化锌纳米晶粒较小,具有较强的量子限域效应,因而经高温氧化后样品发光峰有较大红移。随着热氧化温度的进一步升高,束缚激子发射随热氧化温度升高而减弱,且发光峰位随热氧化温度升高出现蓝移;变温光致发光谱表明:紫外发光主要来自自由激子发射。; 关键词等离子辅助电子束蒸发技术制备 ZNO薄膜氧化锌薄膜氧氩多晶薄膜光致发光; Keywords plasma-assisted E-beam evaporation photoluminescence (PL) thermal oxidation; 分类号 O484.1 [理学—固体物理] TN304.21 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响被引量：7: 2; 作者王松林杨崇民张建付刘青龙黎明米高园王慧娜; 机构西安应用光学研究所; 出处《应用光学》 CAS CSCD 北大核心 2013年第5期764-767,共4页; 文摘为了考察基底温度对氧化铝薄膜折射率以及沉积厚度的影响情况,在不同基底温度环境下,通过离子辅助电子束蒸发方式,在玻璃基底上制备了同一Tooling因子条件下所监测到相同厚度的Al2O3薄膜,利用分光光度计测量光谱透过率,依据光学薄膜相关理论,计算了基底温度在25℃~300℃范围内获得的膜层实际物理厚度为275.611nm^348.447nm,以及膜层折射率的变化。通过对实验结果的数值计算和曲线模拟,给出了基底温度对于薄膜的折射率和实际厚度的影响情况。; 关键词离子辅助电子束蒸发薄膜光学常数基底温度氧化铝薄膜; Keywords ion-assisted electron beam evaporation optical constants of thin films substrate temperature alumina thin films; 分类号 TN305.8 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名离子源偏压对PIA-EB-Hf法制备的HfO2激光薄膜性能的影响被引量：2: 3; 作者付朝丽杨勇马云峰魏玉全焦正黄政仁; 机构中国科学院上海硅酸盐研究所上海大学环境化学与工程学院; 出处《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期69-74,共6页; 基金国家自然科学基金(51471182)~~; 文摘探究HfO_2薄膜的激光损伤特性以进一步提高激光损伤阈值(Laser Induced Damage Threshold,简称LIDT),对其在高功率激光系统中的广泛应用具有重要的意义。在不同的离子源偏压下,采用等离子体辅助电子束蒸发金属铪(Hf)并充氧(O_2)进行反应沉积法制备了中心波长为1064 nm,光学厚度为4H的HfO_2薄膜样品。测试了薄膜组分和残余应力;根据透射谱拟合了薄膜的折射率;通过XRD谱图和SEM表面形貌图分析了薄膜的微观结构;对激光损伤阈值、损伤特性和机理进行了论述。结果表明:偏压100 V时制备的薄膜具有最佳O/Hf配比;薄膜压应力和折射率均随偏压降低而减小。薄膜内存在结晶,激光能量在晶界缺陷处被强烈聚集和吸收,加速了膜层的破坏,形成由几百纳米的烧灼坑聚集而成的海绵状损伤结构。随着偏压降低,膜结晶取向由(111)晶面向(002)晶面转变,界面能降低;晶粒减小,结构更均匀,缓解了激光能量在晶界处的局部聚集与吸收,表现出较大的激光损伤阈值。; 关键词 HFO2薄膜等离子体辅助电子束蒸发离子源偏压微观结构激光损伤; Keywords HfO2 film plasma-assisted electron beam evaporation bias voltage microstructure laser damage; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名808nm大功率半导体激光器腔面膜的制备被引量：9: 4; 作者套格套尧舜张云鹏路国光初国强刘云王立军; 机构中国科学院长春光学精密机械与物理研究所激发态物理重点实验室; 出处《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第1期25-28,共4页; 基金中科院"十五重大"(Z0 1Q0 3) 国防科研计划 (A0 2X0 5Z)资助项目; 文摘采用等离子体辅助电子束蒸发方法在 80 8nm大功率量子阱半导体激光器腔面设计镀制了HfO2 /SiO2 系前后腔面膜用直接测量法测量并比较了各种常用膜系的相对损伤阈值增透膜的反射率为 12 .2 % ,高反膜的反射率为 97.9% 对于 10 0 μm条宽、10 0 0 μm腔长的条形结构通过器件测量结果是出光功率提高 79%、外微分量子效率提高 80 %、功率效率由没镀膜之前的 2 2 .2 %提高到镀膜之后的 39.8%; 关键词半导体激光器等离子体辅助电子束蒸发高反膜增透膜灾变性光学损伤; Keywords Semiconductor laser Plasma assisted electron beem deposition AR coating HR coating Output efficiency Catastrophic optical damage; 分类号 TN247 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名ZnO/Zn界面对纳米ZnO薄膜光学性质的影响被引量：2: 5; 作者路丽霞季辉汤庆鑫童艳红刘益春; 机构河北工业大学理学院普物教研室中国石油华北石化公司中国科学院化学研究所有机固体重点实验室中国科学院激发态物理重点实验室东北师范大学物理学院光电材料研究中心; 出处《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期229-233,共5页; 基金河北省高校重点学科建设基金资助项目; 文摘采用氧等离子体辅助电子束蒸发金属Zn后低温退火的方法制备纳米ZnO薄膜。利用X射线衍射(XRD)谱、拉曼(Ram an)谱、X射线光电子能谱(XPS)以及光致发光(PL)谱等手段,分析了退火温度及ZnO/Zn界面对样品的结构和发光性质的影响。Ram an结果表明随着退火温度的升高,界面模式(Es)振动减弱并向低波数方向移动。当退火温度为400℃时,界面振动消失,Zn全部转化成具有六方纤锌矿结构的ZnO,得到化学配比的纳米ZnO薄膜。PL谱表明,经400℃退火处理的样品紫外发射最强,发光性质最好。; 关键词等离子体辅助电子束蒸发纳米ZNO薄膜 ZnO/Zn界面光致发光; Keywords plasma assisted E-beam evaporation nano-ZnO film ZnO/Zn interface photoluminescence; 分类号 O472.3 [理学—半导体物理] O482.31 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名PIA-EB-Hf法制备的单层HfO_2激光薄膜残余应力及化学计量比的调控被引量：1: 6; 作者付朝丽杨勇马云峰黄政仁焦正; 机构上海大学环境化学与工程学院中国科学院上海硅酸盐研究所结构陶瓷工程中心; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期515-523,共9页; 基金国家自然科学基金项目(NSFC 51471182); 文摘 Hf O_2作为最有前景的抗激光薄膜材料之一,最佳的制备方法是利用等离子体辅助电子束蒸发金属Hf并充氧进行反应沉积即PIA-EB-Hf法,而化学计量比失配导致的强吸收和高残余应力造成的力损伤成为其主要的激光损伤机制。采用正交优化手段,探究了沉积速率、APS离子源偏压和放电电流、沉积温度、以及充氧量和充氧位置对薄膜残余应力和O/Hf配比的影响,并针对优化薄膜进行了激光损伤性能研究。研究表明速率太大导致膜成分不均匀;过高的离子源偏压使O/Hf配比反升,但薄膜向m(-1 1 1)面取向显著,残余应力很大,且容易引入杂质原子Ar,造成强吸收;沉积温度对薄膜性能的影响主要体现在促进粒子反应、改变结晶状态和改善薄膜均匀性等,不同范围内发挥的作用不同。解决离子源的污染问题,以及获得结构疏松均匀和平整的非晶膜层是进一步提高激光损伤阈值的关键。; 关键词氧化铪等离子体辅助电子束蒸发激光损伤残余应力化学计量比; Keywords Hafnium dioxide Plasma ion assisted electron beam evaporation Laser damage Residual stress Stoichiometric ratio; 分类号 O484 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	氧和氩等离子辅助电子束蒸发制备高质量ZnO薄膜	汤庆鑫路丽霞齐秀英钟殿强初国强刘益春	《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2003	9	在线阅读下载PDF 职称材料
2	基底温度对电子束蒸发制备氧化铝薄膜的影响	王松林杨崇民张建付刘青龙黎明米高园王慧娜	《应用光学》 CAS CSCD 北大核心	2013	7	在线阅读下载PDF 职称材料
3	离子源偏压对PIA-EB-Hf法制备的HfO2激光薄膜性能的影响	付朝丽杨勇马云峰魏玉全焦正黄政仁	《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2017	2	在线阅读下载PDF 职称材料
4	808nm大功率半导体激光器腔面膜的制备	套格套尧舜张云鹏路国光初国强刘云王立军	《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2005	9	在线阅读下载PDF 职称材料
5	ZnO/Zn界面对纳米ZnO薄膜光学性质的影响	路丽霞季辉汤庆鑫童艳红刘益春	《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2006	2	在线阅读下载PDF 职称材料
6	PIA-EB-Hf法制备的单层HfO_2激光薄膜残余应力及化学计量比的调控	付朝丽杨勇马云峰黄政仁焦正	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2016	1	在线阅读下载PDF 职称材料