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题名磁控溅射MoS_2-Ni复合膜的结构与性能研究
被引量：6
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作者
韦春贝
欧文敏
侯惠君
林松盛
代明江
石倩
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机构
广东省新材料研究所现代材料表面工程技术国家工程实验室广东省现代表面工程技术重点实验室
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第10期135-142,共8页
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基金
广州市科技计划项目(201510010016)
广东省科技项目(2014B070706026)
+1 种基金
广东省省院平台建设项目(2016GDASPT-0206
2016GDASPT-0317)~~
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文摘
目的提高MoS_2薄膜在大气环境下的摩擦学性能。方法采用离子源复合磁控溅射技术制备了Mo S2-Ni复合膜,通过改变Ni靶功率获得不同Ni掺杂量的复合膜,研究不同Ni掺杂量对复合膜结构及摩擦学性能的影响。采用扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、显微硬度计、洛氏硬度计、球-盘式摩擦磨损试验机以及3D轮廓仪,对复合膜显微结构和性能进行研究。结果复合膜以柱状晶结构生长,增加Ni含量可以细化晶粒,使复合膜的结构更加致密。复合膜硬度在250~446HV之间,且随Ni含量的增加,复合膜的硬度提高。复合膜具有良好的膜/基结合力,结合力达到HF1级。MoS_2-Ni复合膜的摩擦系数在0.10~0.23之间,随Ni含量的增加,虽然复合膜的摩擦系数增加,但由于磨损过程形成稳定的转移膜粘着在对磨球表面,因而使得磨损率降低,耐磨寿命提高。结论 Ni掺杂可以提高复合膜的致密度、硬度以及结合力,增强复合膜的耐磨性能。
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关键词
离子源复合磁控溅射
Ni掺杂
复合膜
硬度
结合力
摩擦磨损
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Keywords
magnetron sputtering method combined with ion source
Ni doping
composite films
hardness
adhesion
fric-tional wear
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分类号
TG174.444
[金属学及工艺—金属表面处理]
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