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合金电子谱定量分析中离子溅射修正因子的研究
1
作者
杨得全
张韶红
范垂祯
《分析测试通报》
CSCD
1992年第1期1-6,共6页
离子溅射修正是电子谱(俄歇电子谱,AES和X射线光电子谱,XPS)、离子谱(二次离子质谱,SIMS和低能离子散射谱,ISS)定量分析中的关键问题之一。本文根据作者最近提出的离子轰击合金表面成分再分布关系,得到了表面分析中离子溅射修正因子的...
离子溅射修正是电子谱(俄歇电子谱,AES和X射线光电子谱,XPS)、离子谱(二次离子质谱,SIMS和低能离子散射谱,ISS)定量分析中的关键问题之一。本文根据作者最近提出的离子轰击合金表面成分再分布关系,得到了表面分析中离子溅射修正因子的分析表达式,总结了近十多年来合金离子溅射修正因子的一些较普遍的实验结果,用本文报道的计算关系较好地解释了这些实验结果。讨论了溅射修正因子受轰击离子参数(入射角、能量)、组分浓度等因素的影响。同时用本文给出的分析计算关系讨论了择优溅射、离子辐照诱导偏析和增强扩散效应对溅射修正因子的影响。
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关键词
合金
离子溅射修正
表面分析
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职称材料
题名
合金电子谱定量分析中离子溅射修正因子的研究
1
作者
杨得全
张韶红
范垂祯
机构
航空航天部兰州物理研究所
出处
《分析测试通报》
CSCD
1992年第1期1-6,共6页
文摘
离子溅射修正是电子谱(俄歇电子谱,AES和X射线光电子谱,XPS)、离子谱(二次离子质谱,SIMS和低能离子散射谱,ISS)定量分析中的关键问题之一。本文根据作者最近提出的离子轰击合金表面成分再分布关系,得到了表面分析中离子溅射修正因子的分析表达式,总结了近十多年来合金离子溅射修正因子的一些较普遍的实验结果,用本文报道的计算关系较好地解释了这些实验结果。讨论了溅射修正因子受轰击离子参数(入射角、能量)、组分浓度等因素的影响。同时用本文给出的分析计算关系讨论了择优溅射、离子辐照诱导偏析和增强扩散效应对溅射修正因子的影响。
关键词
合金
离子溅射修正
表面分析
Keywords
Alloy
Ion sputtering correction
Surface analysis
分类号
O655.9 [理学—分析化学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
合金电子谱定量分析中离子溅射修正因子的研究
杨得全
张韶红
范垂祯
《分析测试通报》
CSCD
1992
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