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关于辅助沉积霍尔离子源的几个问题被引量：4: 1; 作者尤大伟任荆学 +1 位作者黄小刚武建军《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第4期279-282,共4页; 本文目的在于改进霍尔源的设计 ,实现宽能、大束流、低气耗、低污染、能自动化控制的新一代霍尔源。; 关键词光学镀膜离子束辅助镀膜等离子体加速器霍尔离子源; 在线阅读下载PDF 职称材料

制备光学薄膜的离子源技术概述被引量：21: 2; 作者尤大伟《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第1期107-113,共7页; 随着工业技术的发展及市场的需求,低能宽束离子源已广泛应用于微细加工的离子束刻蚀技术、材料改性的离子束注入混合技术和光学薄膜制备的离子束辅助镀膜技术。本文在多年该技术的实践与发展基础上,总结了制备光学薄膜的各种常用辅助镀... 展开更多; 关键词光学薄膜镀膜辅助镀膜离子源离子束辅助镀膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

DLC薄膜的表面形貌及其摩擦学性能研究被引量：10: 3; 作者白秀琴李健严新平《润滑与密封》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第4期19-21,共3页; 以真空蒸发碳离子束辅助镀膜法制备了DLC薄膜,通过原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)观察了该薄膜的表面形貌,对该薄膜的表面形貌对其摩擦学行为的影响进行了研究。研究发现:用真空蒸发碳离子束辅助镀膜的方法制备的类金刚石薄膜... 展开更多; 关键词 DLC薄膜真空蒸发离子束辅助镀膜表面形貌摩擦学性能; 在线阅读下载PDF 职称材料