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离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能
1
作者
田林海
宗瑞磊
+2 位作者
朱晓东
唐宾
何家文
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期30-32,共3页
应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。结果表明:在相同的轰击能量(400 eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离...
应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。结果表明:在相同的轰击能量(400 eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400 eV增加到800 eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高。
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关键词
离子束辅助磁控溅射
铬-铜-氮薄膜
硬度
断裂韧度
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职称材料
辅助离子束功率密度对透明塑料上室温磁控溅射沉积ITO薄膜结构和形貌的影响
被引量：
2
2
作者
望咏林
颜悦
+2 位作者
温培刚
伍建华
张官理
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第S1期1-4,共4页
基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜。重点研究了不同辅助离子束功率密度对ITO薄膜晶体结构和表面形貌的影响。结果表明:当离子束功率密度从52mW/cm2...
基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜。重点研究了不同辅助离子束功率密度对ITO薄膜晶体结构和表面形貌的影响。结果表明:当离子束功率密度从52mW/cm2逐渐增加到436mW/cm2时,薄膜逐渐从非晶态转变为微晶态、直至长大为多晶态,晶体呈现(222)择优取向;薄膜在非晶态时表面相对平坦,随着晶粒的长大,表面均方根粗糙度Rq增加,并在离子束功率密度为436mW/cm2时最大。离子束功率密度进一步增大到680mW/cm2时,薄膜的晶体衍射峰强度变弱、峰的半高宽变大,表明晶粒尺寸变小;薄膜表面均方根粗糙度下降。离子束功率密度为252mW/cm2,ITO薄膜具有最佳综合光电性能.
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关键词
铟锡氧化物薄膜
室温制备
离子束辅助磁控溅射
结构与形貌
透明塑料衬底
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职称材料
题名
离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能
1
作者
田林海
宗瑞磊
朱晓东
唐宾
何家文
机构
西安交通大学金属材料强度国家重点实验室
太原理工大学表面工程研究所
出处
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期30-32,共3页
基金
国家自然科学基金资助项目(50371060)
文摘
应用低能离子束辅助磁控溅射(IBAMS)沉积铬-铜-氮薄膜,研究了铜含量和轰击能量对薄膜结构、硬度和断裂韧度的影响。结果表明:在相同的轰击能量(400 eV)下,铜含量对薄膜结构和硬度的影响不明显,但是铜的加入有利于提高薄膜的断裂韧度;离子辅助轰击能量从400 eV增加到800 eV时薄膜的结构发生了显著变化,断裂韧度和硬度均大幅度提高。
关键词
离子束辅助磁控溅射
铬-铜-氮薄膜
硬度
断裂韧度
Keywords
ion beam assisted magnetron sputtering
Cr-Cu-N film
hardness
fracture toughness
分类号
TG113.25 [金属学及工艺—物理冶金]
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职称材料
题名
辅助离子束功率密度对透明塑料上室温磁控溅射沉积ITO薄膜结构和形貌的影响
被引量：
2
2
作者
望咏林
颜悦
温培刚
伍建华
张官理
机构
北京航空材料研究院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第S1期1-4,共4页
文摘
基于双极脉冲磁控溅射复合离子束辅助沉积的新工艺,在透明塑料聚碳酸酯基片上,常温制备了透明导电的铟锡氧化物(ITO)薄膜。重点研究了不同辅助离子束功率密度对ITO薄膜晶体结构和表面形貌的影响。结果表明:当离子束功率密度从52mW/cm2逐渐增加到436mW/cm2时,薄膜逐渐从非晶态转变为微晶态、直至长大为多晶态,晶体呈现(222)择优取向;薄膜在非晶态时表面相对平坦,随着晶粒的长大,表面均方根粗糙度Rq增加,并在离子束功率密度为436mW/cm2时最大。离子束功率密度进一步增大到680mW/cm2时,薄膜的晶体衍射峰强度变弱、峰的半高宽变大,表明晶粒尺寸变小;薄膜表面均方根粗糙度下降。离子束功率密度为252mW/cm2,ITO薄膜具有最佳综合光电性能.
关键词
铟锡氧化物薄膜
室温制备
离子束辅助磁控溅射
结构与形貌
透明塑料衬底
Keywords
ITO coating（Indium tin oxide）
Room temperature fabrication
Ion beam assisted magnetron sputtering
Structure and morphology
Transparent plastic substrate
分类号
TB381 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
离子束辅助磁控溅射沉积铬-铜-氮薄膜的结构与性能
田林海
宗瑞磊
朱晓东
唐宾
何家文
《机械工程材料》
CAS
CSCD
北大核心
2006
0
在线阅读
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职称材料
2
辅助离子束功率密度对透明塑料上室温磁控溅射沉积ITO薄膜结构和形貌的影响
望咏林
颜悦
温培刚
伍建华
张官理
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
2
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职称材料
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