双离子束溅射沉积HfO_2光学薄膜的研究 被引量：8

1

作者 张文杰 彭玉峰 +1 位作者 王建成 程祖海 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第9期1543-1546,共4页

用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究。实验结果表明,用双离子束溅射沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,膜层致密,无定形结构,而且具有极低的散射和吸... 用双离子束溅射沉积氧化铪光学薄膜,并对此工艺下制备的氧化铪薄膜进行了光学性质、残余应力、结构特性以及激光损伤特性的研究。实验结果表明,用双离子束溅射沉积的氧化铪薄膜不仅结构均匀,膜层致密,无定形结构,而且具有极低的散射和吸收,均匀的非晶结构,杂质缺陷少,激光损伤阈值高。 展开更多

关键词 双离子束溅射沉积 氧化铪薄膜 激光损伤阈值 残余应力

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离子束溅射沉积Ti-Ni薄膜及其电化学性能的研究 被引量：2

2

作者 崔岩 牟宗信 +1 位作者 邹学平 李国卿 《核聚变与等离子体物理》 CAS CSCD 北大核心 2002年第2期122-124,共3页

利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti Ni贮氢薄膜 ,研究了其电化学贮氢性能。结果表明 :用离子束溅射沉积制备的Ti Ni薄膜的结构为非晶态 ,薄膜对基片的附着力较强 ,在冲放电循环 5 0次后仍为非晶态 ;在基... 利用离子束溅射沉积的方法在不同基片温度条件下制备了不同成分的Ti Ni贮氢薄膜 ,研究了其电化学贮氢性能。结果表明 :用离子束溅射沉积制备的Ti Ni薄膜的结构为非晶态 ,薄膜对基片的附着力较强 ,在冲放电循环 5 0次后仍为非晶态 ;在基片温度为 35 0℃时制备的薄膜的结构为晶态 ,在多次放电循环后呈现非晶化趋势 ;Ti Ni薄膜具有较高的电化学活性 ,晶化薄膜比非晶态薄膜的最大放电容量高 。 展开更多

关键词 贮氢薄膜 放电容量 钛镍薄膜 碱性蓄电池 离子束溅射沉积 Ti-Ni薄膜 电化学性能

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辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积PTFE高分子膜 被引量：2

3

作者 李有宏 龙振湖 +1 位作者 宫泽祥 任春生 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第2期208-211,共4页

用辅以动态氮离子轰击的氩离子束溅射沉积方法，在３０４不锈钢基材上沉积聚四氟乙烯薄膜．经ＸＰＳ和ＩＲＳ分析，确定了聚四氟乙烯膜的存在并进行了结构分析．划痕试验表明：这种方法制成的聚四氟乙烯膜与基材之间有较好的结合力．

关键词 薄膜 聚四氟乙烯 离子束溅射沉积 离子束轰击

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离子束溅射沉积作用下聚四氟乙烯膜的制备和结构分析

4

作者 王立铎 贺小明 +2 位作者 李文治 王英华 李恒德 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第6期660-661,655,共3页

本文首先利用离子束溅射聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜，进而研究了其结构。由ＸＰＳ的结果可知，所得薄膜主要由ＣＦ２结构组成；由ＦＴＩＲ的结果可知，在１１６９ｃｍ－１和１０８３ｃｍ－１处出现了ＣＦ的最强吸收峰，在７３... 本文首先利用离子束溅射聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜，进而研究了其结构。由ＸＰＳ的结果可知，所得薄膜主要由ＣＦ２结构组成；由ＦＴＩＲ的结果可知，在１１６９ｃｍ－１和１０８３ｃｍ－１处出现了ＣＦ的最强吸收峰，在７３４ｃｍ－１，６１９ｃｍ－１和５００ｃｍ－１处出现了聚四氟乙烯的特征吸收峰。ＸＰＳ和ＦＴＩＲ的结果是一致的，所得薄膜呈现聚四氟乙烯的结构特征。 展开更多

关键词 离子束溅射沉积 聚四氟乙烯 薄膜

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离子束溅射沉积Fe/Si多层膜法合成β-FeSi_2薄膜的研究 被引量：2

5

作者 张娟 沈鸿烈 +5 位作者 鲁林峰 唐正霞 江丰 李斌斌 刘恋慈 沈洲 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期886-888,891,共4页

采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表... 采用离子束溅射沉积Fe/Si多层膜的方法在石英衬底上制备了β-FeSi2薄膜,研究了不同厚度比的Fe/Si多层膜对β-FeSi2薄膜的结构性能、形貌及光学性能的影响。结果表明,厚度比为Fe(2nm)/Si(7.4nm)的多层膜在退火后完全生成了β-FeSi2相,表面致密均匀,其光学带隙为0.84eV,能量为1.0eV光子的吸收系数>105cm-1。 展开更多

关键词 Β-FESI2 离子束溅射沉积 Fe/Si多层膜 石英衬底

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Si(111)衬底上离子束溅射沉积法生长β-FeSi_2薄膜的研究 被引量：1

6

作者 李强 王海燕 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1762-1764,共3页

采用离子束溅射Fe靶的方法在500～800℃的Si(111)衬底上制备出不同种类的铁硅化合物。当衬底温度为700℃时得到厚度为500nm的单相的β-FeSi_2薄膜,高分辨透射电镜证实该β-FeSi_2薄膜为局部外延,薄膜和Si衬底之间界面明显,没有中间层。

关键词 β—FeSi2薄膜 离子束溅射沉积 反应沉积外延

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离子束溅射法制备碳化锗薄膜的红外光学特性和力学特性（英文） 被引量：1

7

作者 孙鹏 胡明 +6 位作者 张锋 季一勤 刘华松 刘丹丹 冷健 杨明 李钰 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期133-138,共6页

采用离子束溅射法通过在CH4和Ar的混合气体中溅射Ge靶材制备碳化锗(Ge_(1-x)C_x)薄膜.分别通过原子力显微镜、拉曼光谱和X射线光电子能谱、傅里叶变换红外光谱以及纳米压痕测试研究了薄膜的表面形貌、化学结构、光学特性和力学特性.同... 采用离子束溅射法通过在CH4和Ar的混合气体中溅射Ge靶材制备碳化锗(Ge_(1-x)C_x)薄膜.分别通过原子力显微镜、拉曼光谱和X射线光电子能谱、傅里叶变换红外光谱以及纳米压痕测试研究了薄膜的表面形貌、化学结构、光学特性和力学特性.同时分析了制备薄膜时的离子源束压和薄膜性质之间的关系.结果表明,薄膜的粗糙度随束压的增大而减小.在较高束压下制备的薄膜含有较少的C元素和较多的Ge-C键.薄膜具有非常好的红外光学特性和力学特性.薄膜在较大波长范围内具有良好的透光性能.C元素含量随着束压的升高而降低,进而导致薄膜的折射率在束压从300 V增大到800 V的过程中逐渐升高.薄膜的硬度大于8GPa.由于薄膜中的Ge-C键代替了C-C键和C-Hn键,薄膜的硬度随束压的增加逐渐增加. 展开更多

关键词 离子束溅射沉积 碳化锗 红外光学特性 机械特性

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离子束溅射作用下聚四氟乙烯薄膜的制备方法

8

作者 王立铎 何建立 +3 位作者 贺小明 王英华 李文治 李恒德 《真空科学与技术》 CSCD 北大核心 1998年第3期224-226,共3页

在多功能离子束辅助沉积装置上采用交替溅射和冷却聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜。由XPS的结果可知，所得薄膜主要由CF2结构组成；FT-IR的结果表明，所得薄膜由C-F的最强吸收峰和聚四氟乙烯的特征吸收峰构成。所得薄膜的这些结构特征... 在多功能离子束辅助沉积装置上采用交替溅射和冷却聚四氟乙烯靶材的方法制备了薄膜。由XPS的结果可知，所得薄膜主要由CF2结构组成；FT-IR的结果表明，所得薄膜由C-F的最强吸收峰和聚四氟乙烯的特征吸收峰构成。所得薄膜的这些结构特征与聚四氟乙烯的结构是一致的。试验结果表明，用这种离子束溅射沉积方法可以获得聚四氟乙烯薄膜。 展开更多

关键词 聚四氟乙烯 薄膜 离子束溅射沉积 制备

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基于离子束溅射大口径光学元件平坦化层均匀性研究 被引量：5

9

作者 冯时 付秀华 +3 位作者 王大森 李晓静 聂凤明 张旭 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第1期199-204,共6页

针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻... 针对大口径光学元件溅射沉积膜厚不均匀的问题,采用离子束溅射平坦化层来改善光学元件表面粗糙度.利用膜厚检测仪测出光学元件沉积面上的中心区域以及各边缘区域的膜厚值,计算离子束在光学元件中心与边缘驻留时间比,并通过MATLAB拟合驻留时间分布规律,根据所得的数据进行逐级修正.实验结果表明,当驻留时间比优化为-26.6%时,可以实现在直径300～600mm大口径的光学元件上均匀镀膜,以熔石英表面上镀硅膜为例,溅射沉积6h,表面膜厚为212.4±0.3nm,薄膜均匀性达到0.4%. 展开更多

关键词 薄膜 离子束溅射沉积 膜厚均匀性 大口径光学元件 驻留时间

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ZnS薄膜的溅射沉积及其XPS研究 被引量：10

10

作者 周咏东 方家熊 +2 位作者 李言谨 龚海梅 汤定元 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2000年第6期1127-1130,共4页

用Ａｒ＋束溅射沉积技术在ＨｇＣｄＴｅ表面实现了ＺｎＳ的低温沉积．用Ｘ射线光电子能借（ＸＰＳ）对上述ＺｎＳ薄膜以及热蒸发ＺｎＳ薄膜中的Ｚｎ、Ｓ元素的化学环境进行了对比实验研究．实验表明：离子束溅射沉积ＺｎＳ薄膜具有很好... 用Ａｒ＋束溅射沉积技术在ＨｇＣｄＴｅ表面实现了ＺｎＳ的低温沉积．用Ｘ射线光电子能借（ＸＰＳ）对上述ＺｎＳ薄膜以及热蒸发ＺｎＳ薄膜中的Ｚｎ、Ｓ元素的化学环境进行了对比实验研究．实验表明：离子束溅射沉积ＺｎＳ薄膜具有很好的组份均匀性，未探测到元素Ｚｎ、Ｓ的沉积． 展开更多

关键词 硫化锌薄膜 离子束溅射沉积 XPS HGCDTE

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束流密度对Ge/Si量子点溅射生长的影响 被引量：2

11

作者 杨杰 王茺 +1 位作者 陶东平 杨宇 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第16期2239-2242,2246,共5页

采用离子束溅射技术在Si基底上自组织生长了一系列Ge量子点样品,研究了束流密度对Ge/Si量子点的尺寸分布和形貌演变的影响。原子力显微镜测试结果表明,随着束流密度的增加,量子点的面密度持续增大,其尺寸不断减小,量子点的形貌由圆顶形... 采用离子束溅射技术在Si基底上自组织生长了一系列Ge量子点样品,研究了束流密度对Ge/Si量子点的尺寸分布和形貌演变的影响。原子力显微镜测试结果表明,随着束流密度的增加,量子点的面密度持续增大,其尺寸不断减小,量子点的形貌由圆顶形转变为过渡圆顶形。计算直径标准偏差的结果表明,当束流密度为0.86mA/cm2时,量子点的尺寸均匀性最佳。束流密度与沉积速率成正比,影响着表面吸附原子与其它原子相遇而形成晶核的能力。 展开更多

关键词 离子束溅射沉积 Ge/Si量子点 束流密度 原子力显微镜

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CdTe钝化介质膜的溅射沉积及其X射线光电子能谱研究

12

作者 周咏东 李言谨 +3 位作者 吴小山 徐国森 方家熊 汤定元 《红外技术》 CSCD 北大核心 2001年第1期8-10,14,共4页

用Ar+ 束溅射沉积技术实现了CdTe薄膜的低温沉积生长。用X射线光电子能谱 (XPS)分析技术对溅射沉积CdTe薄膜以及CdTe体晶中的Cd元素、Te元素化学环境进行了对比实验研究。实验表明 :溅射沉积CdTe薄膜具有很好的组份均匀性 ,未探测到有元... 用Ar+ 束溅射沉积技术实现了CdTe薄膜的低温沉积生长。用X射线光电子能谱 (XPS)分析技术对溅射沉积CdTe薄膜以及CdTe体晶中的Cd元素、Te元素化学环境进行了对比实验研究。实验表明 :溅射沉积CdTe薄膜具有很好的组份均匀性 ,未探测到有元素 (Cd、Te)沉积存在。 展开更多

关键词 CDTE 离子束溅射沉积 X射线 光电子能谱 钝化介质膜

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ZnO薄膜及其性能研究进展 被引量：21

13

作者 黄焱球 刘梅冬 +1 位作者 曾亦可 刘少波 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2001年第3期391-397,共7页

ＺｎＯ薄膜是一种具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质的材料，在透明导体、发光元件、太阳能电池窗口材料、光波导器、单色场发射显示器材料、高频压电转换器、表面声波元件、微传感器以及低压压敏电阻器等方面具有广泛的用途．Ｚ... ＺｎＯ薄膜是一种具有优良的压电、光电、气敏、压敏等性质的材料，在透明导体、发光元件、太阳能电池窗口材料、光波导器、单色场发射显示器材料、高频压电转换器、表面声波元件、微传感器以及低压压敏电阻器等方面具有广泛的用途．ＺｎＯ 薄膜的制备方法多样，各具优缺点；而薄膜性质的差异则取决于不同的掺杂组分，并与制备工艺紧密相关．本文综述了ＺｎＯ薄膜的制备及性质特征，并对其发展趋势及前景进行了探讨． 展开更多

关键词 制备 氧化锌薄膜 射频溅射 双离子束溅射沉积 电子束蒸发沉积 CVD SOL-GEL 光电性质

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负偏压对DLC薄膜结构和摩擦学性能的影响 被引量：6

14

作者 王智 宋红霞 +2 位作者 刘建立 张平余 张玉娟 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期86-90,共5页

采用离子束溅射沉积镀膜法制备了DLC薄膜,研究了偏压对薄膜性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱对DLC薄膜的表面形貌以及内部结构进行了分析表征。并用UTM-2摩擦磨损仪对其摩擦学性能进行了测试。结果表明,利用离子束溅射沉积... 采用离子束溅射沉积镀膜法制备了DLC薄膜,研究了偏压对薄膜性能的影响。通过原子力显微镜(AFM)和拉曼光谱对DLC薄膜的表面形貌以及内部结构进行了分析表征。并用UTM-2摩擦磨损仪对其摩擦学性能进行了测试。结果表明,利用离子束溅射沉积制备的DLC薄膜具有良好的减摩抗磨性能。随着偏压的增加薄膜的摩擦因数先减小后增加,在-150 V偏压时,薄膜的摩擦学性能最好。 展开更多

关键词 DLC薄膜 离子束溅射沉积 负偏压 摩擦学性能

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可见光和近红外双带通薄膜滤光片的光谱调控 被引量：7

15

作者 陈刚 刘定权 +3 位作者 马冲 王凯旋 张莉 高凌山 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2020年第6期791-795,共5页

空间对地观测的遥感相机中需要基于干涉薄膜的双光谱通道滤光片,在同一几何点上同时形成可见光(波长500~720 nm)和近红外(波长(1064±1)nm)两个光谱通道。这两个光谱通道的光谱位置和透射强度均需要进行精确控制。选用JGS-1石英玻... 空间对地观测的遥感相机中需要基于干涉薄膜的双光谱通道滤光片,在同一几何点上同时形成可见光(波长500~720 nm)和近红外(波长(1064±1)nm)两个光谱通道。这两个光谱通道的光谱位置和透射强度均需要进行精确控制。选用JGS-1石英玻璃作为滤光片基片,氧化钽(Ta2O5)和氧化硅(SiO2)分别作为高、低折射率薄膜,由双离子束溅射沉积方法将52层和88层介质薄膜分别镀制在基片的两个表面上。500~720 nm波段的平均透过率达到92%,(1064±1)nm波段的峰值透过率控制在(26±1)%的范围。 展开更多

关键词 光学薄膜 双光谱通道滤光片 离子束溅射沉积 光谱控制

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原位氧化硅钝化层对氧化钒薄膜光电特性的影响 被引量：1

16

作者 孔令德 方辉 +5 位作者 魏虹 刘礼 周润生 铁筱滢 杨文运 姬荣斌 《红外技术》 CSCD 北大核心 2015年第4期319-322,共4页

氧化硅(SiOx)原位钝化层对氧化钒(VOx)薄膜电学特性的影响分析旨在改善像元微桥结构的光学吸收特性,提高热敏VOx薄膜层的方阻和电阻温度系数(TCR)稳定性。采用离子束溅射沉积50 nm VOx薄膜后,紧接着沉积30 nm SiOx钝化层。通过原位残余... 氧化硅(SiOx)原位钝化层对氧化钒(VOx)薄膜电学特性的影响分析旨在改善像元微桥结构的光学吸收特性,提高热敏VOx薄膜层的方阻和电阻温度系数(TCR)稳定性。采用离子束溅射沉积50 nm VOx薄膜后,紧接着沉积30 nm SiOx钝化层。通过原位残余气体分析仪(RGA)和衬底温度控制,调节氧化钒薄膜中的氧含量,分析了VOx单层膜、SiOx/VOx双层膜的电学特性随工艺温度的变化规律,原位残余气体分析仪(RGA)和150℃加温工艺提高了VOx热敏层薄膜的方阻和电阻温度系数稳定性。 展开更多

关键词 离子束溅射沉积 SiOx/VOx双层膜 残余气体分析仪(RGA) 电阻温度系数(TCR)

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IBAD制备非晶碳膜与CrN镀层的耐磨性能比较及机理分析 被引量：7

17

作者 杜军 田林海 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期255-258,共4页

采用离子束辅助溅射沉积(IBAD)法,在高速钢基体上制备非晶碳膜(-αC)及CrN镀层,对两者的耐磨性能分析比较,并对其耐磨机理进行分析。结果表明:非晶碳膜的耐磨性能优于CrN镀层;文中讨论了摩擦系数和硬度对镀层耐磨损性能的影响,并通过分... 采用离子束辅助溅射沉积(IBAD)法,在高速钢基体上制备非晶碳膜(-αC)及CrN镀层,对两者的耐磨性能分析比较,并对其耐磨机理进行分析。结果表明:非晶碳膜的耐磨性能优于CrN镀层;文中讨论了摩擦系数和硬度对镀层耐磨损性能的影响,并通过分析动态膜基结合强度,证明两种镀层的磨损由不同磨损机理引起。 展开更多

关键词 离子束辅助溅射沉积(IBAD) 耐磨镀层 磨损机理

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张应力对TbDy-Fe RGMF磁性能的影响

18

作者 郑运相 张鲁钟 +1 位作者 刘全洲 周白杨 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第3期372-376,共5页

通过离子束溅射沉积法制备了受不同张应力作用的TbDy-Fe稀土超磁致伸缩薄膜样品。借助LK-G150激光微位移传感器和交变梯度磁强计分别测试薄膜的悬臂梁自由端偏转量与磁滞回线,通过微磁学模拟软件OOMMF模拟计算不同张应力作用下薄膜的磁... 通过离子束溅射沉积法制备了受不同张应力作用的TbDy-Fe稀土超磁致伸缩薄膜样品。借助LK-G150激光微位移传感器和交变梯度磁强计分别测试薄膜的悬臂梁自由端偏转量与磁滞回线,通过微磁学模拟软件OOMMF模拟计算不同张应力作用下薄膜的磁性能;研究张应力对薄膜磁致伸缩性能及软磁性能的影响。结果表明:张应力能显著提高薄膜的低场磁敏性,但其饱和磁致伸缩性能有所降低;模拟计算结果与实验结果均表明:随着薄膜所受张应力的增加,薄膜的矫顽力逐渐减小,软磁性能得到了改善。 展开更多

关键词 TbDy-Fe稀土超磁致伸缩薄膜 张应力 离子束溅射沉积 磁性能 微磁学模拟

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制膜技术与装置

19

《中国光学》 CAS 2004年第6期54-55,共2页

TB43 2004064364 离子束溅射沉积Ta₂O₅光学薄膜的实验研究=Experimental study of ion beam sputtering deposition of Ta₂O₅ optical t... TB43 2004064364 离子束溅射沉积Ta₂O₅光学薄膜的实验研究=Experimental study of ion beam sputtering deposition of Ta₂O₅ optical thin film[刊,中]/刘洪祥（中科院光电技术研究所.四川,成都（610209））,熊胜明…∥光电工程.—2004,31（3）.—41-43,55 根据择优溅射的理论,在不同的通氧方式下,详细分析了离子辅助对离子束溅射沉积Ta₂O₅ 展开更多

关键词 离子束溅射沉积 薄膜光学特性 纳米薄膜 实验研究 原子力显微镜 沉积速率 光学薄膜 表面形貌 择优溅射 离子辅助

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