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离子束辅助沉积薄膜工艺 被引量:22
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作者 王利 程鑫彬 +2 位作者 王占山 唐骐 范滨 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2007年第6期896-898,共3页
阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子... 阐述了离子源在离子束清洗和离子束辅助薄膜沉积(IAD)中的应用;根据热力学原理及离子碰撞过程分析,研究了离子束辅助沉积过程中的能量传递过程,建立了薄膜折射率与离子辅助沉积过程中各物理量之间的关系模型;探讨了各种工艺条件对离子束辅助沉积薄膜特性的影响,给出了薄膜材料无结晶条件下离子束辅助沉积薄膜工艺选择的相应准则。 展开更多
关键词 离子束清洗 离子辅助沉积 离子能量传递
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薄膜光学 薄膜光学理论与膜系设计
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《中国光学》 CAS 2005年第4期61-63,共3页
O484.4 2005042867 离子束清洗在激光薄膜中的应用=Application of ion beam cleaning to the laser films[刊,中]/张大伟(中科院上海光机所,上海(201800)),张东平…//光学技术,-2005, 31(2),-238-240 介绍了在激光薄膜中End-Hall... O484.4 2005042867 离子束清洗在激光薄膜中的应用=Application of ion beam cleaning to the laser films[刊,中]/张大伟(中科院上海光机所,上海(201800)),张东平…//光学技术,-2005, 31(2),-238-240 介绍了在激光薄膜中End-Hall型离子源离子束清洗的应用。通过实验验证了基片的二次污染和离子束的清洗效果,观测了离子束清洗前后基片的表面形貌变化。研究了离子束清洗基片时对薄膜抗激光损伤阈值的作用。分析了用离子束清洗基片时其基片表面的性质,如清洁度、表面能、接触角、表面形貌的变化机理。指出了杂质微粒的去除和附着力的增加是如何使薄膜抗激光损伤阈值显著提高的。图5参6(杨妹清) 展开更多
关键词 薄膜光学 离子束清洗 重点实验室 激光损伤 荧光光谱 衬底温度 富硅氮化硅 中科院 光学技术 微观结构
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