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Siδ掺杂GaAs多量子阱的磁量子输运
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作者 韦亚一 郑国珍 +3 位作者 郭少令 汤定元 彭正夫 张允强 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 1994年第1期37-43,共7页
使用MBE技术低温生长了含有3个Siδ掺杂层的GaAs外延片,形成三量子阶结构.在4.2~300K温区0.1T的电磁铁上测量了样品载流子浓度和迁移率随温度的变化.在0.3~4.2K(3He温区)和0~7T强磁场下测量... 使用MBE技术低温生长了含有3个Siδ掺杂层的GaAs外延片,形成三量子阶结构.在4.2~300K温区0.1T的电磁铁上测量了样品载流子浓度和迁移率随温度的变化.在0.3~4.2K(3He温区)和0~7T强磁场下测量了样品的横向磁阻、纵向磁阻和霍尔电阻.观察到了横向磁阻的SdH振荡和纵向磁阻的抗磁SdH振荡.根据实验结果着重讨论了纵向磁阻振荡的起源以及霍尔振荡的含义,简单分析了δ掺杂二维电子气中磁致金属一绝缘体转变的实验条件. 展开更多
关键词 量子 磁量子输运 砷化镓
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