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制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
1
作者
郑瑞廷
高凤菊
+1 位作者
郁静
程国安
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第10期938-943,共6页
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与...
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与衬底材料密切相关,等离子体的沉积角度直接影响纳米薄膜的徽观结构,采用60°倾斜沉积在自支撑火棉胶膜衬底上,可获得表面粗糙度为1.5nm的自支撑Ni膜。
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关键词
磁过滤等离子沉积
自支撑薄膜
表面粗糙度
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职称材料
题名
制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
1
作者
郑瑞廷
高凤菊
郁静
程国安
机构
北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第10期938-943,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(10576003)
文摘
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与衬底材料密切相关,等离子体的沉积角度直接影响纳米薄膜的徽观结构,采用60°倾斜沉积在自支撑火棉胶膜衬底上,可获得表面粗糙度为1.5nm的自支撑Ni膜。
关键词
磁过滤等离子沉积
自支撑薄膜
表面粗糙度
Keywords
metal vapor vacuum arc ion deposition
self-supporting film
surface roughness
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
郑瑞廷
高凤菊
郁静
程国安
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
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