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多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比
被引量：
12
1
作者
张玉娟
吴志国
+3 位作者
张伟伟
阎鹏勋
刘维民
薛群基
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期498-502,共5页
分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其...
分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布.结果表明:采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的(111)面择优取向;而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞,且无明显取向.在较低载荷下,采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能,其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑;而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑,摩擦系数较高.
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关键词
磁
过滤
等离子
体
沉积
多弧
离子
镀
氮化钛薄膜
摩擦学性能
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职称材料
MEVVA离子束技术的发展及应用
被引量：
8
2
作者
吴先映
廖斌
+4 位作者
张旭
李强
彭建华
张荟星
张孝吉
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期132-138,共7页
金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是MEVVA离子源技术.将载能离子束用于离子注入,可以实现材料表面改性.经过MEVVA源离子注...
金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是MEVVA离子源技术.将载能离子束用于离子注入,可以实现材料表面改性.经过MEVVA源离子注入处理的工具和零部件,改性效果显著,因此MEVVA离子源在离子注入材料表面改性技术中得到很好的应用.另一方面,利用弯曲磁场把等离子体导向到视线外的真空靶室中的同时,过滤掉真空弧产生的液滴(大颗粒),当工件加上适当的负偏压时,等离子体中的离子在工件表面沉积,可以得到高质量的、平整致密的薄膜,称为磁过滤等离子体沉积.是一种先进的薄膜制备的新技术.此外,将MEVVA离子注入与磁过滤等离子体沉积相结合的复合技术,可以首先用离子注入的方法改变基材表面的性能,再用磁过滤等离子体沉积的方法制备薄膜,可以极大的增强薄膜与基材的结合强度,得到性能极佳的薄膜.适用于基材与薄膜性能差别大,结合不易的情况(例如陶瓷、玻璃表面制备金属膜).本文简要介绍了MEVVA离子注入技术、磁过滤等离子体沉积技术和MEVVA复合技术的发展和应用状况.
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关键词
MEVVA
离子
注入
磁
过滤
等离子
体
沉积
材料表面改性
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职称材料
制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
3
作者
郑瑞廷
高凤菊
+1 位作者
郁静
程国安
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第10期938-943,共6页
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与...
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与衬底材料密切相关,等离子体的沉积角度直接影响纳米薄膜的徽观结构,采用60°倾斜沉积在自支撑火棉胶膜衬底上,可获得表面粗糙度为1.5nm的自支撑Ni膜。
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关键词
磁过滤等离子沉积
自支撑薄膜
表面粗糙度
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职称材料
题名
多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比
被引量：
12
1
作者
张玉娟
吴志国
张伟伟
阎鹏勋
刘维民
薛群基
机构
中科院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室
兰州大学等离子体与金属材料研究所
出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004年第6期498-502,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(10074022).
文摘
分别采用多弧离子镀(MAIP)和带有平面"S"形过滤管的磁过滤阴极弧设备(FCAP)在不锈钢基底上制备了2种TiN薄膜;采用往复式球-盘摩擦磨损试验机评价了2种薄膜的摩擦学性能;采用扫描电子显微镜观察和分析了薄膜磨斑表面形貌及其元素面分布.结果表明:采用FCAP技术制备的薄膜表面光滑、缺陷少、普遍具有明显的(111)面择优取向;而采用MAIP技术制备的薄膜表面存在较多大小不一的颗粒和孔洞,且无明显取向.在较低载荷下,采用FCAP薄膜表现出较好的抗磨性能,其磨斑表面存在沉积的TiN磨屑;而采用MAIP制备的薄膜磨斑表面无转移沉积磨屑,摩擦系数较高.
关键词
磁
过滤
等离子
体
沉积
多弧
离子
镀
氮化钛薄膜
摩擦学性能
Keywords
Friction
Stainless steel
Surface topography
Titanium nitride
Tribology
Wear resistance
分类号
TG174.44 [金属学及工艺—金属表面处理]
TH117.3 [机械工程—机械设计及理论]
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职称材料
题名
MEVVA离子束技术的发展及应用
被引量：
8
2
作者
吴先映
廖斌
张旭
李强
彭建华
张荟星
张孝吉
机构
射线束技术与材料改性教育部重点实验室、北京师范大学核科学与技术学院、北京市辐射中心
出处
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期132-138,共7页
基金
博士学科点专项科研基金资助项目(20110003120010)
北京师范大学教育部重点实验室资助项目
+1 种基金
国家自然科学基金资助项目(11305009)
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(2012LYB24)
文摘
金属蒸汽真空弧放电能够产生高密度的金属等离子体.通过二或三电极引出系统,可以把金属等离子体中的金属离子引出,并加速成为载能的金属离子束,这是MEVVA离子源技术.将载能离子束用于离子注入,可以实现材料表面改性.经过MEVVA源离子注入处理的工具和零部件,改性效果显著,因此MEVVA离子源在离子注入材料表面改性技术中得到很好的应用.另一方面,利用弯曲磁场把等离子体导向到视线外的真空靶室中的同时,过滤掉真空弧产生的液滴(大颗粒),当工件加上适当的负偏压时,等离子体中的离子在工件表面沉积,可以得到高质量的、平整致密的薄膜,称为磁过滤等离子体沉积.是一种先进的薄膜制备的新技术.此外,将MEVVA离子注入与磁过滤等离子体沉积相结合的复合技术,可以首先用离子注入的方法改变基材表面的性能,再用磁过滤等离子体沉积的方法制备薄膜,可以极大的增强薄膜与基材的结合强度,得到性能极佳的薄膜.适用于基材与薄膜性能差别大,结合不易的情况(例如陶瓷、玻璃表面制备金属膜).本文简要介绍了MEVVA离子注入技术、磁过滤等离子体沉积技术和MEVVA复合技术的发展和应用状况.
关键词
MEVVA
离子
注入
磁
过滤
等离子
体
沉积
材料表面改性
Keywords
MEVVA, filter cathode vacuum arc（FCVA）, surface modification
分类号
TG156.8 [金属学及工艺—热处理]
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职称材料
题名
制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
3
作者
郑瑞廷
高凤菊
郁静
程国安
机构
北京师范大学射线束技术与材料改性教育部重点实验室
出处
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008年第10期938-943,共6页
基金
国家自然科学基金资助项目(10576003)
文摘
利用磁过滤等离子沉积技术,以甜菜碱、油酸钾、抛光NaCl单晶基片、自支撑火棉胶膜和自支撑SiN薄膜为衬底制备了自支撑Ni膜。采用原子力显微镜和场发射扫描电子显微镜对薄膜表面形态和粗糙度进行了分析。结果表明:自支撑Ni膜的粗糙度与衬底材料密切相关,等离子体的沉积角度直接影响纳米薄膜的徽观结构,采用60°倾斜沉积在自支撑火棉胶膜衬底上,可获得表面粗糙度为1.5nm的自支撑Ni膜。
关键词
磁过滤等离子沉积
自支撑薄膜
表面粗糙度
Keywords
metal vapor vacuum arc ion deposition
self-supporting film
surface roughness
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多弧镀及磁过滤阴极弧沉积TiN薄膜的摩擦学性能对比
张玉娟
吴志国
张伟伟
阎鹏勋
刘维民
薛群基
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2004
12
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
MEVVA离子束技术的发展及应用
吴先映
廖斌
张旭
李强
彭建华
张荟星
张孝吉
《北京师范大学学报（自然科学版）》
CAS
CSCD
北大核心
2014
8
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
制备工艺对自支撑薄膜粗糙度的影响
郑瑞廷
高凤菊
郁静
程国安
《原子能科学技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2008
0
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