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磁过滤直流真空阴极弧制备含铬类金刚石膜的结构及其性能研究 被引量:1
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作者 祝土富 沈丽如 +1 位作者 徐桂东 金凡亚 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期74-79,共6页
采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了含铬类金刚石(Cr-DLC)膜。用光学显微镜、椭偏仪、分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射能谱(XRD)、Raman光谱、纳米硬度计、摩擦磨损仪、洛氏硬度... 采用磁过滤直流真空阴极弧沉积技术在单晶硅片、载玻片、不锈钢片基体上制备了含铬类金刚石(Cr-DLC)膜。用光学显微镜、椭偏仪、分光光度计、X射线光电子能谱(XPS)、X射线衍射能谱(XRD)、Raman光谱、纳米硬度计、摩擦磨损仪、洛氏硬度计检测了薄膜的组分结构、光学、力学等相关特性。结果表明,硅片上的薄膜厚度为47.6nm,碳含量为89%,sp3键占碳含量的55.15%。不锈钢片上的薄膜具有典型的DLC膜Raman光谱特征,在空气中的摩擦系数约为0.1,耐磨性能优良,膜与基体的结合性能良好。 展开更多
关键词 磁过滤真空阴极弧 含铬DLC膜
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Al_2O_3/DLC复合膜摩擦磨损性能的研究 被引量:7
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作者 吴晓玲 李夕金 +4 位作者 薛文斌 侯兴刚 张旭 程国安 刘安东 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第6期754-758,共5页
为了提高铝合金零部件的摩擦磨损性能,采用微弧氧化和磁过滤阴极真空弧技术,在其表面制备了Al2O3/DLC复合膜.用X射线衍射分析(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及摩擦试验对复合膜的化学成分、结构、表... 为了提高铝合金零部件的摩擦磨损性能,采用微弧氧化和磁过滤阴极真空弧技术,在其表面制备了Al2O3/DLC复合膜.用X射线衍射分析(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及摩擦试验对复合膜的化学成分、结构、表面形貌及其对铝合金摩擦磨损性能的影响进行了研究.结果表明,在铝合金表面形成了120μm厚的多孔Al2O3陶瓷膜,与基体结合紧密.外层0.1.μm厚的DLC不改变膜的表面形貌,但是降低摩擦因素,并且进一步提高膜的耐磨性.Al2O3/DLC复合膜为铝合金作为耐磨工件使用提供了很好的承载支持,并且使铝合金表面摩擦磨损性能大大提高. 展开更多
关键词 铝合金 Al2O3/DLC复合膜 氧化 过滤阴极真空 摩擦磨损性能
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物理气相沉积法制备的CrN涂层的摩擦学性能 被引量:4
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作者 莫继良 朱旻昊 《西南交通大学学报》 EI CSCD 北大核心 2008年第2期280-284,共5页
用CETR UMT-2摩擦磨损试验机对比磁过滤阴极真空弧源和多弧离子镀方法制备的CrN涂层在往复滑动条件下的摩擦磨损行为.用X射线衍射、显微硬度计、纳米压痕仪表征涂层的基本特性;用台阶仪、扫描电子显微镜和电子能谱对磨痕进行微观分析,... 用CETR UMT-2摩擦磨损试验机对比磁过滤阴极真空弧源和多弧离子镀方法制备的CrN涂层在往复滑动条件下的摩擦磨损行为.用X射线衍射、显微硬度计、纳米压痕仪表征涂层的基本特性;用台阶仪、扫描电子显微镜和电子能谱对磨痕进行微观分析,探讨不同结构CrN涂层的磨损失效机理.与多弧离子镀技术制备的CrN涂层相比,磁过滤阴极真空弧源技术制备的CrN涂层更光滑、致密和连续,有较高的硬度和较优越的耐磨性能.涂层微结构的差异是造成摩擦磨损性能差异的主要原因.2种CrN涂层的滑动磨损为磨粒磨损和氧化磨损共同作用的结果. 展开更多
关键词 CRN涂层 物理气相沉积 过滤阴极真空 离子镀 摩擦磨损
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FCVAD合成Ta-C(N)薄膜及其Raman和XPS分析 被引量:3
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作者 王广甫 张荟星 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第5期535-539,共5页
掺N非晶金刚石Ta-C(N)薄膜是合成β-C3N4研究中出现的一种新型固体薄膜材料,近年来由于其优异的电化学性能受到越来越多的关注。我们用磁过滤阴极真空弧等离子体沉积(FCVAD)方法在不同N2分压下,在Si衬底上合成了Ta-C(N)薄膜。Raman和XP... 掺N非晶金刚石Ta-C(N)薄膜是合成β-C3N4研究中出现的一种新型固体薄膜材料,近年来由于其优异的电化学性能受到越来越多的关注。我们用磁过滤阴极真空弧等离子体沉积(FCVAD)方法在不同N2分压下,在Si衬底上合成了Ta-C(N)薄膜。Raman和XPS分析表明Ta-C:N薄膜中的N主要以C—N的方式与C结合。N2分压越大,N/C原子比越高,最高可达31.1%。但同时sp3键含量越低,并且合成Ta-C:N薄膜的速度越慢。 展开更多
关键词 过滤阴极真空沉积 掺杂 固体薄膜材料 钽-碳薄膜 氮原子 X射线分析 RAMAN光谱分析
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类金刚石碳剥离膜的制备及其性能研究 被引量:1
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作者 樊启文 杜英辉 +1 位作者 张榕 夏清良 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第8期1509-1514,共6页
采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术制备了质量厚度为5~7μg/cm2的类金刚石碳(DLC)剥离膜。用XP2U型精密电子天平测试分析了100mm范围内的DLC剥离膜均匀性,结果显示其最大不均匀性小于10%。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜... 采用磁过滤阴极真空弧(FCVA)技术制备了质量厚度为5~7μg/cm2的类金刚石碳(DLC)剥离膜。用XP2U型精密电子天平测试分析了100mm范围内的DLC剥离膜均匀性,结果显示其最大不均匀性小于10%。通过扫描电子显微镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)、万能摩擦磨损试验机和X光电子谱(XPS)测试分析了DLC剥离膜的表面形貌、耐磨损特性和结构,结果显示采用双90°FCVA技术沉积的DLC剥离膜表面光滑致密、耐磨,几乎没有大颗粒的污染,表征金刚石特性的sp3键含量超过70%。在北京HI-13串列加速器上使用107 Ag-、70 Ge-、48 Ti-、28Si-、197 Au-和127I-六种典型质量的离子束对质量厚度为5~7μg/cm2的DLC剥离膜和碳剥离膜寿命进行测试比较,结果显示DLC剥离膜寿命比碳剥离膜的高2.6~10倍。 展开更多
关键词 类金刚石碳 剥离膜 过滤阴极真空 寿命 结构
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