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弯曲磁过滤电流对TiN膜质量的影响
被引量：
4
1
作者
瞿全炎
邱万奇
+2 位作者
曾德长
钟喜春
刘正义
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期690-694,共5页
为研究弯曲磁过滤弧离子镀工艺的磁过滤电流变化对薄膜质量的影响,用弯曲磁过滤弧离子镀工艺在3.0～4.5A内变化磁过滤电流制备了TiN薄膜样品,用扫描电子显微镜观察了薄膜表面与截面形貌,用X射线衍射研究了薄膜的组织结构,从等离子体角...
为研究弯曲磁过滤弧离子镀工艺的磁过滤电流变化对薄膜质量的影响,用弯曲磁过滤弧离子镀工艺在3.0～4.5A内变化磁过滤电流制备了TiN薄膜样品,用扫描电子显微镜观察了薄膜表面与截面形貌,用X射线衍射研究了薄膜的组织结构,从等离子体角度分析了磁过滤电流对薄膜表面质量、结晶质量等薄膜质量及生长速率的影响.结果表明,引入磁过滤后,因去除大颗粒的结果使薄膜表面均很光滑,且表面大颗粒的尺寸与磁过滤电流的大小关系不大.当磁过滤电流为4.0A时,TiN薄膜结晶良好、膜基结合紧密,生长速率达到最大的1.1μm/h,且具有很强的[200]择优取向.在4.0A磁过滤电流下制备的TiN薄膜所呈现的质量特性是由于此电流下等离子体密度与能量高、基体的位置又正好处于聚集的等离子体区域中心.
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关键词
弯曲
磁过滤电流
TiN膜质量
等离子体
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职称材料
磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究
被引量：
4
2
作者
张启沛
钟喜春
+2 位作者
李春明
匡同春
郭燕伶
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第4期444-450,共7页
采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜...
采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜层均匀,表面质量好,膜与基体结合紧密。随着偏压和磁过滤电流的增加,Ti N的(111)晶面择优取向越来越弱,(311)和(222)晶面的择优取向逐渐增强。当偏压为-150 V,磁过滤电流为4.5 A时,表现出较大的沉积速率,最大的显微硬度测试值和最大的膜/基结合力。
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关键词
磁
过滤
电弧离子镀技术
TIN薄膜
偏压
磁过滤电流
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职称材料
磁过滤阴极电弧技术沉积高sp^3键含量四面体非晶碳薄膜的工艺优化研究
被引量：
5
3
作者
韩亮
张涛
刘德连
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期203-207,共5页
通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳(ta-C)薄膜sp3键含量影响的研究,探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3键ta-C薄膜优化工艺条件。在不同的基片偏压下,薄膜沉积率随着磁过滤器电流增大而增大。当基片偏压为200 V时,磁过滤...
通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳(ta-C)薄膜sp3键含量影响的研究,探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3键ta-C薄膜优化工艺条件。在不同的基片偏压下,薄膜沉积率随着磁过滤器电流增大而增大。当基片偏压为200 V时,磁过滤器电流从5A增大至13 A,ID/IG从0.18增加到0.39;当基片偏压500V时,ID/IG从1.3增加到2.0;证明随着磁过滤器电流的增大,薄膜中的sp3键含量在减少,sp2键及sp2团簇在逐渐增加。研究表明除了基片偏压,ta-C薄膜sp3键含量与制备工艺中磁过滤电流也具有及其密切的关联.因此,基片偏压与磁过滤器电流是ta-C薄膜制备中需要优化的工艺条件。优化和选择合适的基片偏压与磁过滤器电流对ta-C薄膜的大规模工业化生产应用具有极其重要的意义。
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关键词
四面体非晶碳
拉曼光谱
sp3键
基片偏压
磁
过滤
器
电流
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职称材料
题名
弯曲磁过滤电流对TiN膜质量的影响
被引量：
4
1
作者
瞿全炎
邱万奇
曾德长
钟喜春
刘正义
机构
华南理工大学材料科学与工程学院
广东省特种设备检测院
出处
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010年第5期690-694,共5页
基金
国家自然科学基金资助项目(U0734001
50874050)
+3 种基金
广东省科技计划资助项目(2007B010600007
2007B010600043)
广州市科技计划资助项目(2006Z2-C0121
2006Z3-D0281)
文摘
为研究弯曲磁过滤弧离子镀工艺的磁过滤电流变化对薄膜质量的影响,用弯曲磁过滤弧离子镀工艺在3.0～4.5A内变化磁过滤电流制备了TiN薄膜样品,用扫描电子显微镜观察了薄膜表面与截面形貌,用X射线衍射研究了薄膜的组织结构,从等离子体角度分析了磁过滤电流对薄膜表面质量、结晶质量等薄膜质量及生长速率的影响.结果表明,引入磁过滤后,因去除大颗粒的结果使薄膜表面均很光滑,且表面大颗粒的尺寸与磁过滤电流的大小关系不大.当磁过滤电流为4.0A时,TiN薄膜结晶良好、膜基结合紧密,生长速率达到最大的1.1μm/h,且具有很强的[200]择优取向.在4.0A磁过滤电流下制备的TiN薄膜所呈现的质量特性是由于此电流下等离子体密度与能量高、基体的位置又正好处于聚集的等离子体区域中心.
关键词
弯曲
磁过滤电流
TiN膜质量
等离子体
Keywords
curved magnetic filtering currents TiN film quality plasma
分类号
TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究
被引量：
4
2
作者
张启沛
钟喜春
李春明
匡同春
郭燕伶
机构
华南理工大学材料科学与工程学院
广州番禺职业技术学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第4期444-450,共7页
基金
中央高校基本科研业务费专项资金(2013ZM033)
广东省科技计划项目(2011B010300017)
文摘
采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜层均匀,表面质量好,膜与基体结合紧密。随着偏压和磁过滤电流的增加,Ti N的(111)晶面择优取向越来越弱,(311)和(222)晶面的择优取向逐渐增强。当偏压为-150 V,磁过滤电流为4.5 A时,表现出较大的沉积速率,最大的显微硬度测试值和最大的膜/基结合力。
关键词
磁
过滤
电弧离子镀技术
TIN薄膜
偏压
磁过滤电流
Keywords
MFAIP
TiN film
Bias
Magnetic filter current
分类号
TB43 [一般工业技术]
TG115.21 [金属学及工艺—物理冶金]
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职称材料
题名
磁过滤阴极电弧技术沉积高sp^3键含量四面体非晶碳薄膜的工艺优化研究
被引量：
5
3
作者
韩亮
张涛
刘德连
机构
西安电子科技大学技术物理学院
中国电子科技集团公司第五十八研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013年第3期203-207,共5页
基金
中央高校基本科研业务费专项资金资助(No.K5051205001)
文摘
通过对不同基片偏压下磁过滤器电流对四面体非晶碳(ta-C)薄膜sp3键含量影响的研究,探讨了磁过滤阴极电弧技术制备高sp3键ta-C薄膜优化工艺条件。在不同的基片偏压下,薄膜沉积率随着磁过滤器电流增大而增大。当基片偏压为200 V时,磁过滤器电流从5A增大至13 A,ID/IG从0.18增加到0.39;当基片偏压500V时,ID/IG从1.3增加到2.0;证明随着磁过滤器电流的增大,薄膜中的sp3键含量在减少,sp2键及sp2团簇在逐渐增加。研究表明除了基片偏压,ta-C薄膜sp3键含量与制备工艺中磁过滤电流也具有及其密切的关联.因此,基片偏压与磁过滤器电流是ta-C薄膜制备中需要优化的工艺条件。优化和选择合适的基片偏压与磁过滤器电流对ta-C薄膜的大规模工业化生产应用具有极其重要的意义。
关键词
四面体非晶碳
拉曼光谱
sp3键
基片偏压
磁
过滤
器
电流
Keywords
Tetrahedral amorphous carbon
Raman spectrum
sp3 bonding
Substrate bias
Magnetic filter coil current
分类号
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
弯曲磁过滤电流对TiN膜质量的影响
瞿全炎
邱万奇
曾德长
钟喜春
刘正义
《材料科学与工艺》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2010
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究
张启沛
钟喜春
李春明
匡同春
郭燕伶
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
磁过滤阴极电弧技术沉积高sp^3键含量四面体非晶碳薄膜的工艺优化研究
韩亮
张涛
刘德连
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2013
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
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