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磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入性能研究: 1; 作者付天佐赵红 +2 位作者田振刚李晓其谢宛鋆《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期139-145,共7页; 目的研究磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入对金属基体的保护效果。方法采用磁过滤电弧离子镀和离子注入在不锈钢表面分别制备了TiN薄膜与N注入改性层,以及二者的复合膜层。对薄膜的相结构、微观形貌进行了表征,对薄膜进行了极化曲线测试... 展开更多; 关键词 TIN 磁过滤电弧离子镀 N离子注入腐蚀防护; 在线阅读下载PDF 职称材料

磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究被引量：4: 2; 作者张启沛钟喜春 +2 位作者李春明匡同春郭燕伶《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期444-450,共7页; 采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜... 展开更多; 关键词磁过滤电弧离子镀技术 TIN薄膜偏压磁过滤电流; 在线阅读下载PDF 职称材料

真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究被引量：2: 3; 作者王秀兰刘文言 +1 位作者刘洪源张泰华《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期52-54,共3页; 采用真空磁过滤电弧离子镀方法 ,在GT35基体上沉积类金刚石膜。通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究 ,制定出了合理的工艺路线 ,并对这种膜层进行了X—射线光电子谱 (XPS)分析 ,利用干涉仪、纳米硬度计对膜... 展开更多; 关键词真空磁过滤电弧离子镀类金刚石耐磨性涂层制备薄膜; 在线阅读下载PDF 职称材料

真空磁过滤电弧离子镀沉积Ti-O薄膜及其血液相容性被引量：1: 4; 作者曹国栋冷永祥 +2 位作者景凤娟孙鸿黄楠《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期1720-1722,1726,共4页; 采用真空磁过滤电弧离子镀技术在单晶硅(100)和载玻片表面沉积Ti-O薄膜,研究了不同氧分压(0.08、0.13、0.2Pa)对薄膜结构及血液相容性的影响。研究结果表明,随着氧分压的提高,Ti-O薄膜相结构从三氧化二钛转变为金红石结构二氧化钛。扫... 展开更多; 关键词 Ti—O薄膜氧分压真空磁过滤电弧离子镀血液相容性; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入性能研究: 1; 作者付天佐赵红田振刚李晓其谢宛鋆; 机构中核四〇四科学技术研究院中核四〇四有限公司; 出处《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第14期139-145,共7页; 文摘目的研究磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入对金属基体的保护效果。方法采用磁过滤电弧离子镀和离子注入在不锈钢表面分别制备了TiN薄膜与N注入改性层,以及二者的复合膜层。对薄膜的相结构、微观形貌进行了表征,对薄膜进行了极化曲线测试,同时在半球样品表面制备涂层并进行盐雾测试。结果所制备的TiN涂层为(111)晶面择优取向,离子注N预处理后沉积的TiN薄膜,仍保持(111)面的择优取向;电化学测试结果显示,TiN和N离子注入能够使不锈钢基体自腐蚀电位分别提高0.64、0.25 V,TiN薄膜具有最低的维钝电流密度4.9×10^(-6) A/cm^(2),N离子注入+TiN复合薄膜的维钝电流密度与N离子注入样品接近;盐雾试验结果表明,TiN以及N离子注入+TiN复合薄膜样品能够保证铜半球在12h的中性盐雾试验中无明显腐蚀痕迹。结论N离子注入预处理对MFAIPTiN涂层耐蚀性能的提升效果有限,单一的MFAIP TiN涂层便可应用于复杂形状的工程材料表面镀膜,可以增强其抗腐蚀能力,延长使用寿命。; 关键词 TIN 磁过滤电弧离子镀 N离子注入腐蚀防护; Keywords TiN magnetic filtered arc ion plating N ion implantation corrosion resistance; 分类号 TG174 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究被引量：4: 2; 作者张启沛钟喜春李春明匡同春郭燕伶; 机构华南理工大学材料科学与工程学院广州番禺职业技术学院; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第4期444-450,共7页; 基金中央高校基本科研业务费专项资金(2013ZM033) 广东省科技计划项目(2011B010300017); 文摘采用磁过滤电弧离子镀(MFAIP)方法在高速钢表面制备了Ti N薄膜,采用扫描电子显微镜、X射线衍射仪,显微硬度计和划痕仪等方法研究了偏压和磁过滤电流对Ti N薄膜的形貌、沉积速率、组织结构和力学性能的影响。结果表明:MFAIP-Ti N薄膜膜层均匀,表面质量好,膜与基体结合紧密。随着偏压和磁过滤电流的增加,Ti N的(111)晶面择优取向越来越弱,(311)和(222)晶面的择优取向逐渐增强。当偏压为-150 V,磁过滤电流为4.5 A时,表现出较大的沉积速率,最大的显微硬度测试值和最大的膜/基结合力。; 关键词磁过滤电弧离子镀技术 TIN薄膜偏压磁过滤电流; Keywords MFAIP TiN film Bias Magnetic filter current; 分类号 TB43 [一般工业技术] TG115.21 [金属学及工艺—物理冶金]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究被引量：2: 3; 作者王秀兰刘文言刘洪源张泰华; 机构航天材料及工艺研究所中国科学院力学研究所非线性力学国家重点实验室; 出处《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期52-54,共3页; 文摘采用真空磁过滤电弧离子镀方法 ,在GT35基体上沉积类金刚石膜。通过对清洗工艺及弧电流、工件所加负偏压、沉积温度等参数的研究 ,制定出了合理的工艺路线 ,并对这种膜层进行了X—射线光电子谱 (XPS)分析 ,利用干涉仪、纳米硬度计对膜层的粗糙度、纳米硬度作了进一步检测。结果表明 ,采用此种方法制备的类金刚石膜层 ,SP3含量约为 4 0 .1% ;组织致密 ,无大的颗粒 ;镀膜后的粗糙度可以达到 0 .0 15μm ;纳米硬度约为 5 5GPa。并将膜层与TiN膜层组成摩擦副 ,进行了耐磨性试验 ,结果表明膜层的耐磨性较好。; 关键词真空磁过滤电弧离子镀类金刚石耐磨性涂层制备薄膜; 分类号 TB43 [一般工业技术]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名真空磁过滤电弧离子镀沉积Ti-O薄膜及其血液相容性被引量：1: 4; 作者曹国栋冷永祥景凤娟孙鸿黄楠; 机构西南交通大学材料科学与工程学院; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第10期1720-1722,1726,共4页; 基金国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(2005CB623904); 文摘采用真空磁过滤电弧离子镀技术在单晶硅(100)和载玻片表面沉积Ti-O薄膜,研究了不同氧分压(0.08、0.13、0.2Pa)对薄膜结构及血液相容性的影响。研究结果表明,随着氧分压的提高,Ti-O薄膜相结构从三氧化二钛转变为金红石结构二氧化钛。扫描电子显微镜观察表明,所制备薄膜表面结构致密,与基体结合紧密。血小板粘附实验结果表明,0.13Pa下制备的薄膜血液相容性优异,优于临床应用的热解碳材料。; 关键词 Ti—O薄膜氧分压真空磁过滤电弧离子镀血液相容性; Keywords Ti-O fihns oxygen partial pressure vacuum magnetic filtered arc plasma deposition blood compatibility; 分类号 TG14 [金属学及工艺—金属材料] Q81 [生物学—生物工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	磁过滤电弧离子镀TiN与N离子注入性能研究	付天佐赵红田振刚李晓其谢宛鋆	《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心	2024	0	在线阅读下载PDF 职称材料
2	磁过滤电弧离子镀TiN薄膜的制备及性能研究	张启沛钟喜春李春明匡同春郭燕伶	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2015	4	在线阅读下载PDF 职称材料
3	真空磁过滤电弧离子镀法制备类金刚石涂层方法及性能研究	王秀兰刘文言刘洪源张泰华	《宇航材料工艺》 CAS CSCD 北大核心	2002	2	在线阅读下载PDF 职称材料
4	真空磁过滤电弧离子镀沉积Ti-O薄膜及其血液相容性	曹国栋冷永祥景凤娟孙鸿黄楠	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2009	1	在线阅读下载PDF 职称材料