图案化磁记录介质 被引量：3

1

作者 钟智勇 荆玉兰 +1 位作者 唐晓莉 张怀武 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期88-90,98,共4页

在分析传统磁记录在高密度化过程中遇到的困难的基础上,指出了未来超高密度磁存储的方向,着重分析了图案化磁记录(patterned magnetic recording)对介质的要求,并简要介绍了图案化介质的制备技术。

关键词 图案化 磁记录介质 高密度化 超高密度 制备技术 磁存储 重分析

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电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新进展 被引量：3

2

作者 安茂忠 杨哲龙 +1 位作者 张景双 屠振密 《电化学》 CAS CSCD 1997年第1期92-98,共7页

本文综述了近年来国外电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新研究进展、电镀及化学镀镀液组成、工艺条件及其对薄膜性能的影响、存在问题及发展方向等．磁记录介质薄膜的制备，过去一直采用溅射方法，近年来国外开展了电镀及化学镀方法制备... 本文综述了近年来国外电镀及化学镀磁记录介质薄膜的最新研究进展、电镀及化学镀镀液组成、工艺条件及其对薄膜性能的影响、存在问题及发展方向等．磁记录介质薄膜的制备，过去一直采用溅射方法，近年来国外开展了电镀及化学镀方法制备的研究．电镀方法包括水溶液电镀（如：Ｎｉ－Ｆｅ、Ｆｅ－Ｃｏ合金等）和非水溶液电镀（如Ｔｂ－Ｆｅ、Ｎｄ－Ｆｅ、Ｔｂ－Ｆｅ－Ｃｏ合金等），化学镀则是在Ｎｉ－Ｐ、Ｃｏ－Ｐ合金的基础上，通过添加其它金属盐，得到磁记录介质薄膜，如：Ｃｏ－Ｎｉ－Ｐ、Ｃｏ－Ｗ－Ｐ、Ｃｏ－Ｍｎ－Ｐ。 展开更多

关键词 电镀 化学镀 磁记录介质薄膜

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国外颗粒磁记录介质最新发展状况 被引量：4

3

作者 刘铁岩 屠德容 《化工进展》 EI CAS CSCD 北大核心 1994年第6期43-47,共5页

本文着重介绍了国外颗粒磁记录介质氧化铁、氧化铬、钴改性氧化铁、金属磁粉以钡铁氧体目前发展趋势和市场状况。

关键词 磁记录介质 磁粉 颗粒

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硬盘磁记录介质的现状与发展 被引量：1

4

作者 王翔 蔡长波 王可 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2000年第11期35-37,共3页

讨论了现有介质、新介质的材料与结构,以及其工艺技术的现状。并展望了高密度硬盘磁记录介质的未来。指出高密度、高信噪比S/N的硬盘介质要求有高的矫顽力和小的磁记录畴。

关键词 硬盘 磁记录介质 薄膜 溅射 结构 制备

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纯铝化学镀CoNiP磁记录介质的研究 被引量：1

5

作者 杨贤金 孙志刚 《功能材料》 EI CAS CSCD 1995年第2期164-167,共4页

本文研究了用化学镀法制取ＣｏＮｉＰ磁记录介质的工艺。结果表明，对纯铝进行化学除油、酸蚀、一次浸锌和二次浸锌后，再化学镀ＣｏＮｉＰ合金，该合金的磁性能为：Ｈ＿ｃ（∥）＝２６２０７．６８Ａ／ｍ，Ｈ＿ｃ（⊥）＝４５４０８．... 本文研究了用化学镀法制取ＣｏＮｉＰ磁记录介质的工艺。结果表明，对纯铝进行化学除油、酸蚀、一次浸锌和二次浸锌后，再化学镀ＣｏＮｉＰ合金，该合金的磁性能为：Ｈ＿ｃ（∥）＝２６２０７．６８Ａ／ｍ，Ｈ＿ｃ（⊥）＝４５４０８．６４Ａ／ｍ；ＳＱＲ（∥）＝０．３５２，ＳＱＲ（⊥）＝０．０８３，可作为高密度磁记录介质使用。 展开更多

关键词 纯铝 化学镀 CoNiP磁记录介质 磁性能

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超高密度磁记录介质研究的热力学基础 被引量：1

6

作者 秦高梧 及川胜成 《材料与冶金学报》 CAS 2005年第2期142-147,151,共7页

目前CoCr基合金硬盘磁记录介质因其磁诱发相分离的富Co铁磁相,与富Cr非铁磁相组成的特殊组织形态和较高的磁晶各向异性能,使得实际的磁记录面密度已达到了水平记录模式的理论极限(～100Gbit/in2),而将来超高密度磁记录技术(几百Gbit/in2... 目前CoCr基合金硬盘磁记录介质因其磁诱发相分离的富Co铁磁相,与富Cr非铁磁相组成的特殊组织形态和较高的磁晶各向异性能,使得实际的磁记录面密度已达到了水平记录模式的理论极限(～100Gbit/in2),而将来超高密度磁记录技术(几百Gbit/in2～1Tbit/in2)要求介质具有孤立的磁晶粒和更高的磁晶各向异性能.我们的实验结果表明,CoMo(W)合金具有比CoCr合金更高的磁晶各向异性能,特别是热力学计算预测了这两个系统发生磁诱发相分离的可能性,其组织能满足未来超高密度磁记录的要求.对CoMo(W)合金薄膜的TEMEDX分析支持了这种理论计算结果.不过这两个体系相分离程度的不充分限制了它们的直接应用.本文对这种不充分相分离的成因进行了详细讨论,并提出了对其改善的途径. 展开更多

关键词 磁记录介质 磁诱发相分离 CO-CR CO-MO Co-W

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CoCrPtNb/CrTi/C玻璃盘基磁记录介质制备与性能

7

作者 杨晓非 游龙 +2 位作者 李震 林更琪 李佐宜 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第z1期767-769,共3页

采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并使用多层膜结构C/(CoCrPt)100-xNbx/CrTi/C/Glass Substrate制备硬盘磁记录介质.实验结果表明:此种薄膜记录介质,即使在室温下溅射,也可得到高达240kA/m的矫顽力;此类薄膜在550℃高温下,经过30min... 采用CoCrPtNb四元合金作磁记录介质,并使用多层膜结构C/(CoCrPt)100-xNbx/CrTi/C/Glass Substrate制备硬盘磁记录介质.实验结果表明:此种薄膜记录介质,即使在室温下溅射,也可得到高达240kA/m的矫顽力;此类薄膜在550℃高温下,经过30min退火后,其矫顽力有较大幅度提高,并在Nb含量为2.4%(原子分数)时达到极大值360kA/m此时剩磁比S=0.90,矫顽力矩形比S*=0.92,从而制成了适于高密度或超高密度磁记录使用的薄膜介质.并详细分析了在室温条件下溅射,此种介质矫顽力与Nb含量变化的关系;并对退火后介质矫顽力与Nb含量变化的关系也进行了讨论. 展开更多

关键词 玻璃盘基 磁记录介质 射频磁控溅射

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一种计算机辅助磁记录介质耐磨性快速测试法

8

作者 吴海良 裴先登 +2 位作者 沈悦 谢其中 王立环 《小型微型计算机系统》 EI CSCD 北大核心 1995年第12期50-53,共4页

本文介绍了磁记录介质耐磨性的评价方法和传统的耐磨性测试方法。提出了一种基于疲劳磨损机理，能大幅度提高测试效率的由微机控制的软盘片、磁带等磁记录介质耐磨性快速测试的方法和整个微机控制测试系统的构成及各部分电路的功能。

关键词 磁记录介质 耐磨性 快速测试 微机控制

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FePt-MgO垂直磁记录介质的磁性和记录特性之间的关系

9

作者 阴津华 侯志坚 +2 位作者 潘礼庆 张振刚 铃木孝雄 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第8期114-115,共2页

利用溅射和退火工艺制备了不同组分和厚度的FePt-MgO垂直磁记录介质,并用极化克尔效应测量了介质的磁滞回线,用Spinstand测量了记录性能。研究结果表明,垂直记录介质中磁性晶粒间交换耦合的α值与退火前单层FePt的厚度成反比;信噪比与... 利用溅射和退火工艺制备了不同组分和厚度的FePt-MgO垂直磁记录介质,并用极化克尔效应测量了介质的磁滞回线,用Spinstand测量了记录性能。研究结果表明,垂直记录介质中磁性晶粒间交换耦合的α值与退火前单层FePt的厚度成反比;信噪比与α值成反比;高频噪音与α值成正比。 展开更多

关键词 磁性 记录特性 垂直磁记录介质

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电子束直写模版电沉积制备图案化磁记录介质

10

作者 钞书哲 丁玉成 +1 位作者 叶向东 李涤尘 《西安交通大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第3期27-30,共4页

以电子束直写光刻图形为模版,采用直流电沉积和数值模拟的方法,研究了镍纳米柱阵列图案化磁记录介质的制备工艺和模版电沉积过程中的沉积不均匀问题.研究结果表明,在加速电压、曝光电流确定的条件下,电子束直写光刻模版孔径由曝光时间决... 以电子束直写光刻图形为模版,采用直流电沉积和数值模拟的方法,研究了镍纳米柱阵列图案化磁记录介质的制备工艺和模版电沉积过程中的沉积不均匀问题.研究结果表明,在加速电压、曝光电流确定的条件下,电子束直写光刻模版孔径由曝光时间决定,模版的孔径和孔距在10 nm量级精确可调.在纳米孔阵列模版中进行电沉积时,适当增大孔距,降低阴极电解电势,可以减小电沉积过程中相邻孔之间的相互干扰,提高电沉积的均匀性,从而为图案化磁记录介质的电沉积制备提供了一种新的方法. 展开更多

关键词 图案化磁记录介质 电子束直写光刻 电沉积 不均匀

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化学镀高密度金属薄膜磁记录介质硬盘片的制作

11

作者 关宏美 《计算机研究与发展》 EI CSCD 北大核心 1992年第9期42-50,共9页

本文讨论了化学镀硬盘存在的技术问题,提出了解决方案.报导了加入有机基质的化学镀Co-P磁介质的电磁性能和等离子体离解烃沉积类金刚石碳保护膜与全氟聚醚润滑油的初步使用效果,并给出了硬磁盘的制作工艺过程.

关键词 化学镀 硬盘 金属薄膜 磁记录介质

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高性能磁记录介质磁层的发展趋势

12

作者 郭保忠 《化工新型材料》 CAS CSCD 1997年第6期3-7,共5页

概述了BaFe磁粉的先进特性和MP／ME的快速发展，并得出一种看法：在今后几年MP磁层将得到更大的发展。

关键词 磁记录介质 磁性涂层 涂层 磁层 磁粉

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磁性合金和磁记录介质及其制造方法与磁性膜形成用靶子和磁记录装置

13

作者 高桥研 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第6期73-74,共2页

关键词 磁性合金 磁记录介质 制造方法 磁性膜 靶子 磁记录装置 日本

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垂直磁记录介质Co-CoO薄膜的磁特性和微结构

14

作者 王勤堂 潘国宏 《北京大学学报（自然科学版）》 CAS CSCD 北大核心 1989年第1期110-116,共7页

采用垂直蒸镀的方法,在接近室温的基底上,以较低的沉积速率(R(?)5(?)/S),连续调节通入真空室内的氧气压强PO_2,成功地蒸镀出性能优良的Co-CoO垂直磁化膜。其磁特性完全适用于作垂直磁记录介质。与高沉积速率的蒸镀相比,仅是适于产生垂... 采用垂直蒸镀的方法,在接近室温的基底上,以较低的沉积速率(R(?)5(?)/S),连续调节通入真空室内的氧气压强PO_2,成功地蒸镀出性能优良的Co-CoO垂直磁化膜。其磁特性完全适用于作垂直磁记录介质。与高沉积速率的蒸镀相比,仅是适于产生垂直磁化膜的氧气压强PO_2的范围小些,薄膜磁特性和微结构对PO_2的变化较敏感,需要更精细地控制PO_2的数值。通过X射线衍射分析和透射电镜观察薄膜表面的复形表明:具有最佳磁特性的垂直磁化膜是hcp Co和fcc CoO的混合物,并形成以Co为中心,外面包围着CoO的柱状结构。当PO_2≥1.5×10^(-4)乇时,膜中出现了极少量钴的高价氧化物(如Co_2O_3,Co_3O_4),则形成以CoO为中心的CoO-Co-CoO相间的内外三层的柱状结构。此时薄膜的Ms变得较小,矫顽力H_(c⊥)和H_(c∥)也减小,磁特性开始变坏。 展开更多

关键词 垂直磁化溥膜 磁特性 磁记录介质

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磁介质与磁记录

15

作者 李春密 殷友 《教育学报》 1997年第6期46-48,共3页

关键词 磁记录介质 磁介质 磁录像 重放磁头 磁录音 记录磁头 信息记录 磁头旋转 铁氧体 存储信息

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磁记录用Co-Cr-Pt合金的制备及其表征 被引量：4

16

作者 张俊敏 闻明 +2 位作者 李艳琼 毕珺 管伟明 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2011年第1期29-34,共6页

用真空熔炼法制备得到的CoCrPt合金铸锭,采用不同淬火条件优化其相组成,采用1000℃保温50 min后热轧的工艺对其进行热加工;利用X射线衍射仪(XRD)、金相和扫描电子显微镜(SEM)分析合金的结构和形貌。结果表明:所制备的CoCrPt合金铸锭由... 用真空熔炼法制备得到的CoCrPt合金铸锭,采用不同淬火条件优化其相组成,采用1000℃保温50 min后热轧的工艺对其进行热加工;利用X射线衍射仪(XRD)、金相和扫描电子显微镜(SEM)分析合金的结构和形貌。结果表明:所制备的CoCrPt合金铸锭由高温相面心立方固溶体(αCo)和低温相密排六方固溶体(εCo)及氧化铬黑色颗粒3种物相组成,Cr和Pt在钴合金中主要以固溶的形式存在。淬火后的Co基合金中hcp相的体积比例明显提高。热轧后的合金也是由αCo固溶体、εCo固溶体和氧化铬黑色颗粒3种物相组成。 展开更多

关键词 金属材料 磁记录介质 CO基合金 真空熔炼

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磁光盘记录介质的发展前景

17

作者 刘荣生 《化工新型材料》 CAS CSCD 2000年第5期23-24,共2页

关键词 磁光盘记录介质 磁记录介质

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Ru籽晶层对CoCrPt-SiO_2垂直记录层形貌及结构的影响 被引量：4

18

作者 张俊敏 王传军 +4 位作者 沈月 谭志龙 毕珺 闻明 周砚田 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2015年第2期23-28,共6页

采用磁控溅射方法,制备了以不同厚度Ru薄膜为籽晶层的CoCrPt-SiO2垂直磁记录薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、透射电镜(TEM)分析Ru薄膜的结构和形貌,并研究了其结构对CoCrPt-SiO2薄膜表面形貌、粗糙度及结构的影响。结果表明,CoCrPt-SiO2... 采用磁控溅射方法,制备了以不同厚度Ru薄膜为籽晶层的CoCrPt-SiO2垂直磁记录薄膜。利用原子力显微镜(AFM)、透射电镜(TEM)分析Ru薄膜的结构和形貌,并研究了其结构对CoCrPt-SiO2薄膜表面形貌、粗糙度及结构的影响。结果表明,CoCrPt-SiO2记录层的晶粒尺寸和粗糙度均随着Ru籽晶层厚度的增加而增加,薄而粗糙的籽晶层适合于高密度磁记录介质。对于CoCrPt-SiO2记录层晶粒的优化,厚度为70nm的Ru籽晶层有利于记录层薄膜晶粒的完全隔离,从而提高了磁记录性能。 展开更多

关键词 金属材料 垂直磁记录介质 CoCrPt-SiO2 Ru籽晶层 薄膜结构 微观形貌

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降低适用于高密记录写入磁头的Fe-N薄膜矫顽力的研究

19

作者 李丹 张静 +2 位作者 雷牧云 田中卓 潘峰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期159-163,共5页

用RF磁控溅射方法,在高功率下制备厚度为2μm的薄膜,当N含量在5.9～8.5%原子分数范围内,形成α′+α″相时,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,可以满足针对高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要。用该方法在不同的本底真空度下制备... 用RF磁控溅射方法,在高功率下制备厚度为2μm的薄膜,当N含量在5.9～8.5%原子分数范围内,形成α′+α″相时,4πMs=2.2T,Hc=58.6A/m,可以满足针对高存储密度的GMR/感应式复合读写磁头中写入磁头的需要。用该方法在不同的本底真空度下制备Fe N薄膜,发现较高真空下比较低真空下制备的Fe N薄膜磁学性能要好。P=1000W时,较高真空下制备的Fe N薄膜的矫顽力为34.8A/m,较低真空下制备的Fe N薄膜的矫顽力为58.6A/m。AFM测试表明,在功率条件相同情况下,较高真空下制备的Fe N薄膜表面光滑、平整、起伏小、薄膜致密;而较低真空下制备的Fe N薄膜,表面粗糙、起伏大、薄膜较疏松、不均匀。 展开更多

关键词 FE-N薄膜 矫顽力 磁头 RF磁控溅射 磁记录密度 磁记录介质

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棒状钡铁氧体的反相微乳法制备 被引量：12

20

作者 杨鹏飞 王明刚 +3 位作者 孟凡君 张俊华 孙爱娟 鲁成学 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2005年第4期607-611,共5页

高纯度钡铁氧体磁粉(BaFe12O19)是一种重要的磁记录介质[1-4],而除了磁粉的纯度外,颗粒的尺寸和形状也对磁粉的性能有重要的影响[5,6],Deng等人[7]采用在针状γ-Fe2O3颗粒表面包覆钡铁氧体的方法获得针状钡铁氧体磁性颗粒,大大提高了材... 高纯度钡铁氧体磁粉(BaFe12O19)是一种重要的磁记录介质[1-4],而除了磁粉的纯度外,颗粒的尺寸和形状也对磁粉的性能有重要的影响[5,6],Deng等人[7]采用在针状γ-Fe2O3颗粒表面包覆钡铁氧体的方法获得针状钡铁氧体磁性颗粒,大大提高了材料的磁性能,但对直接制备棒状钡铁氧体颗粒的报道较少. 展开更多

关键词 反相微乳液 钡铁氧体 前驱体 制备方法 磁记录介质

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