以磁流变抛光中可方便控制的关键工艺要素为考察对象,研究它们对磁流变抛光效率和表面质量的影响规律及其相互作用问题。在理论与实验研究基础上,探索载液轮切线方向"磨头"的运动关系,推导和提出了一种新的、以磁流变抛光工...以磁流变抛光中可方便控制的关键工艺要素为考察对象,研究它们对磁流变抛光效率和表面质量的影响规律及其相互作用问题。在理论与实验研究基础上,探索载液轮切线方向"磨头"的运动关系,推导和提出了一种新的、以磁流变抛光工艺参数为变量的工件材料去除模型(Process Variable based Material Removal Model-PVMR)。PVMR模型的优点在于:1)通过引入抛光磨头在工件抛光表面任意点的重叠抛光次数、抛光工作区移动距离和抛光工作区截距等概念,揭示抛光工作区工件材料去除关系;2)构造的工件材料去除函数z(yi)以磁流变抛光工艺参数为变量,易于改变和控制;3)工件材料去除函数采用二次曲线方程,计算简单、方便。展开更多
文摘以磁流变抛光中可方便控制的关键工艺要素为考察对象,研究它们对磁流变抛光效率和表面质量的影响规律及其相互作用问题。在理论与实验研究基础上,探索载液轮切线方向"磨头"的运动关系,推导和提出了一种新的、以磁流变抛光工艺参数为变量的工件材料去除模型(Process Variable based Material Removal Model-PVMR)。PVMR模型的优点在于:1)通过引入抛光磨头在工件抛光表面任意点的重叠抛光次数、抛光工作区移动距离和抛光工作区截距等概念,揭示抛光工作区工件材料去除关系;2)构造的工件材料去除函数z(yi)以磁流变抛光工艺参数为变量,易于改变和控制;3)工件材料去除函数采用二次曲线方程,计算简单、方便。
