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采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究
被引量：
2
1
作者
汪建华
袁润章
+2 位作者
邬钦崇
任兆杏
喻宪辉
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第2期16-19,共4页
将磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜，其膜的沉积速率比普通ＥＣＲ溅射中所得到的速率大得多，并且在Φ１２ｃｍ的膜区域内显示出良好的均匀性。
关键词
磁控管方式
溅射
ECR等离子体
氧化锌薄膜
在线阅读
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职称材料
题名
采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究
被引量：
2
1
作者
汪建华
袁润章
邬钦崇
任兆杏
喻宪辉
机构
武汉工业大学
中科院等离子体物理研究所
湖北省交通学院
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999年第2期16-19,共4页
基金
国家自然科学基金
文摘
将磁控管方式溅射用于微波ＥＣＲ等离子体沉积技术。在低气压和低温下沉积了高度Ｃ轴取向的ＺｎＯ薄膜，其膜的沉积速率比普通ＥＣＲ溅射中所得到的速率大得多，并且在Φ１２ｃｍ的膜区域内显示出良好的均匀性。
关键词
磁控管方式
溅射
ECR等离子体
氧化锌薄膜
Keywords
Magnetron mode Sputtering ECR plasma ZnO film
分类号
TN304.21 [电子电信—物理电子学]
TN305.92 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
采用磁控管方式溅射的电子回旋共振等离子体沉积技术的研究
汪建华
袁润章
邬钦崇
任兆杏
喻宪辉
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1999
2
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