泡沫塑料表面的磁控溅射镀膜技术研究 被引量：2

1

作者 刘际伟 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第5期8-9,共2页

对硬质聚氨酯泡沫塑料进行适当的前处理 (涂刮不饱和聚酯腻子和喷涂双组份聚氨酯清漆 ) ,再采用磁控溅射镀膜技术对其进行紫铜T2镀膜 ,能够有效地降低泡沫塑料的吸水率 ,提高尺寸稳定性。

关键词 泡沫塑料 磁控溅射镀膜 技术 研究 硬质聚氨酯泡沫 吸水率 尺寸稳定性

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专利名称：高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备

2

作者 甘国工 《表面技术》 EI CAS CSCD 2005年第4期44-44,共1页

本实用新型提供了一种高反射镜连续磁控溅射镀膜生产设备。包括依次连接的前锁定室，前等待室，过渡室。金属膜工作室，含氩气进口和氧气进口的介质膜工作室，

关键词 磁控溅射镀膜 生产设备 高反射镜 专利名称 实用新型 工作室 金属膜 介质膜 进口

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磁控溅射系统共享效率提升策略及成效分析

3

作者 孙家宝 刘志 孙一军 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2024年第11期226-229,246,共5页

针对浙江大学微纳加工中心磁控溅射系统开放共享效率低下的问题,提出了一种基于微信应用程序的新预约管理策略。该策略克服了传统网站预约管理过程中存在的预约时间段分散、靶材种类数超过设备最大限制等诸多不足,同时实现了对设备便捷... 针对浙江大学微纳加工中心磁控溅射系统开放共享效率低下的问题,提出了一种基于微信应用程序的新预约管理策略。该策略克服了传统网站预约管理过程中存在的预约时间段分散、靶材种类数超过设备最大限制等诸多不足,同时实现了对设备便捷高效的预约管理。实践表明:该策略可显著提升设备的使用率、用户的预约效率和设备管理人员的工作效率;与2019年度相比,2023年度设备的年度机时数、使用记录数和用户人数分别由619 h、440条和81人持续提高到2731 h、1765条和261人。该设备在2022、2023年度连续2年获得浙江大学开放共享优秀机组称号。 展开更多

关键词 共享效率提升 磁控溅射镀膜系统 微信预约管理策略 成效分析

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磁控溅射离子束流密度的研究 被引量：7

4

作者 徐均琪 杭凌侠 蔡长龙 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第1期74-76,共3页

磁控溅射镀膜技术由于具有显著的优点而得到了广泛的应用。磁控溅射离子束流密度的大小及分布状况 ,直接决定着薄膜质量的优劣。本文通过对比研究了普通磁控溅射 (MS)和非平衡磁控溅射 (UBMS)两种工作模式下 ,氩气流量、负偏压等工艺参... 磁控溅射镀膜技术由于具有显著的优点而得到了广泛的应用。磁控溅射离子束流密度的大小及分布状况 ,直接决定着薄膜质量的优劣。本文通过对比研究了普通磁控溅射 (MS)和非平衡磁控溅射 (UBMS)两种工作模式下 ,氩气流量、负偏压等工艺参数对离子束流密度大小的影响 ,测试了基片架附近的离子密度 ,分析讨论了测试结果。 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 离子束流密度 氩气 磁通量

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无屏蔽罩的矩形平面磁控溅射靶的设计 被引量：1

5

作者 常天海 《华南理工大学学报（自然科学版）》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第1期38-41,共4页

通过理论分析、实际设计和实验 ,对矩形平面磁控溅射靶表面水平磁感应强度B的传统取值上限进行了拓展 .结果表明 :若阴极靶体下表面和 4个侧面的的磁感应强度被屏蔽低于 0 .0 0 0 5T ,同时上表面覆盖同一靶材 ,则可抛弃屏蔽罩 ,采用裸... 通过理论分析、实际设计和实验 ,对矩形平面磁控溅射靶表面水平磁感应强度B的传统取值上限进行了拓展 .结果表明 :若阴极靶体下表面和 4个侧面的的磁感应强度被屏蔽低于 0 .0 0 0 5T ,同时上表面覆盖同一靶材 ,则可抛弃屏蔽罩 ,采用裸靶结构 ,靶表面的水平磁感应强度B就可以远高于 0 .0 5T ,达到 0 .0 9T ;此外 ,B的增加显著降低了磁控溅射镀膜工艺的着火电压和维持放电电压 。 展开更多

关键词 屏蔽罩 矩平面磁控溅射靶 磁控溅射镀膜 磁感应强度 设计原理

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磁控溅射制备的Cr/CrN和Cr/CrN/CrAlN涂层耐腐蚀性能对比研究 被引量：8

6

作者 宋肖肖 欧阳俊杰 +2 位作者 赵婕宇 胡登科 陈亚军 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期272-280,共9页

目的比较Cr/CrN/CrAlN涂层和Cr/CrN交替涂层的耐腐蚀性能。方法利用电化学极化曲线、阻抗谱和中性盐雾试验进行测量,结合扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征微观形貌,分析两种涂层耐腐蚀性能的差异。同时,为研究涂层在服役中... 目的比较Cr/CrN/CrAlN涂层和Cr/CrN交替涂层的耐腐蚀性能。方法利用电化学极化曲线、阻抗谱和中性盐雾试验进行测量,结合扫描电子显微镜(SEM)和原子力显微镜(AFM)表征微观形貌,分析两种涂层耐腐蚀性能的差异。同时,为研究涂层在服役中的损伤工况,分析了预制划痕对Cr/CrN/CrAlN涂层耐腐蚀性能的影响。结果Cr/CrN/CrAlN涂层的自腐蚀电流密度较Cr/CrN交替涂层和TC4基体低2个数量级,腐蚀速率较小。无损伤的Cr/CrN/CrAlN涂层的极化电阻Rp为868.7 kΩ·cm^2,预制1条损伤划痕涂层的极化电阻为792.0 kΩ·cm^2,而带有5条损伤划痕涂层的极化电阻Rp仅为77.2 kΩ·cm^2,减小至原始涂层的8%。Cr/CrN/CrAlN涂层经288 h连续盐雾腐蚀后增重仅为0.1 mg/cm^2,远小于CrN涂层和TC4基体,且增重速率趋于平缓。CrN涂层在连续盐雾腐蚀24 h后,腐蚀增重速率明显增加。结论由于Cr/CrN/CrAlN涂层结构增加了微裂纹和位错运动的界面阻塞,避免孔隙的连通,阻碍了腐蚀介质进入基体,因此涂层的耐腐蚀性能提高。对于表面预制划痕的Cr/CrN/CrAlN涂层,首先发生涂层的局部腐蚀,通过阴极极化加速后,腐蚀凹坑延伸到涂层/基体界面,加剧涂层的局部剥离。 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 Cr/CrN Cr/CrN/CrAlN 电化学实验 耐腐蚀性能

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表面处理对PEEK GF30磁控溅射镀Cu金属化的影响 被引量：1

7

作者 钟利 金凡亚 +4 位作者 但敏 童洪辉 敬星 王新超 许泽金 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第7期297-305,共9页

目的赋予基材PEEK GF30良好的导电性。方法以磁控溅射镀膜技术在表面沉积Cu膜。分别采用离子注入和等离子体活化两种技术对基材进行界面处理,通过接触角测试、红外光谱测试和界面微观形貌观察,与原始基材展开表面状态对比。再在此基础... 目的赋予基材PEEK GF30良好的导电性。方法以磁控溅射镀膜技术在表面沉积Cu膜。分别采用离子注入和等离子体活化两种技术对基材进行界面处理,通过接触角测试、红外光谱测试和界面微观形貌观察,与原始基材展开表面状态对比。再在此基础上进行金属化处理,并对3种不同界面状态下所制膜层的相结构、表面及断口形貌和成分、膜基结合强度进行判定和分析,探讨界面状态的影响因素以及对膜基结合性能的作用机理。结果注入金属Ti后,表面Ti含量得到了有效提高,但表面润湿性能无明显改变,活化处理后表面极性基团增加、润湿性能大幅提升,为镀膜提供了良好的界面状态。在原始状态、注入和活化后3种不同界面状态下制备的Cu膜均沿Cu(225)择优生长,活化后所制膜层的结晶度最优。原始状态下所制膜层平整性欠佳、膜基交界处异种材料差异明显,涂层附着力保持为5级,结合力<0.1 N;注入后所制膜层平整致密,交界处有Ti微粒产生“锚扎”强化效果,涂层附着力保持为1级,结合力<0.1 N;活化后所制膜层规则均匀,交界处出现缓冲层,金属微粒“锚扎”强化深度和强度效果最佳,涂层附着力保持为0级,结合力提升至15.45 N。结论金属注入能够改善膜基结合强度,但改善效果受限于注入层深度的影响。等离子体活化处理能够提高表面活性,改善基材表面环境,可有效提高膜基结合强度。 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 表面金属化 界面处理 注入 活化 聚醚醚酮 膜基结合强度

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溅射技术对BT板表面铜膜结构和电性能的影响

8

作者 钟利 陈美艳 +2 位作者 刘旋 张悦 姚可 《表面技术》 北大核心 2025年第8期227-234,共8页

目的 为了对比不同技术制备的导电铜膜的性能,分别以直流磁控溅射镀膜技术和高功率脉冲磁控溅射镀膜技术在BT树脂材料表面沉积铜膜。方法 通过检测铜膜的表面微观形貌、化学元素成分、物相结构和孔隙率,对铜膜的微观状态进行对比和分析... 目的 为了对比不同技术制备的导电铜膜的性能,分别以直流磁控溅射镀膜技术和高功率脉冲磁控溅射镀膜技术在BT树脂材料表面沉积铜膜。方法 通过检测铜膜的表面微观形貌、化学元素成分、物相结构和孔隙率,对铜膜的微观状态进行对比和分析,并结合铜膜的宏观电性能,对不同镀膜过程中的成膜机理、影响参数及规律展开研究。结果 研究证明,直流磁控溅射铜膜的结晶度更高,但高功率脉冲铜膜的孔隙率更低、晶粒更细小、相对纯度更高,虽然高功率磁控膜具有更好的微观性能,但薄膜的电性能受到晶粒取向、晶界长度等多种因素的影响,高功率磁控溅射膜中的微观优势并未产生明显作用,反而呈现出较直流磁控膜更弱的导电性:经测试,直流磁控铜膜方阻为23mΩ/□,高功率脉冲铜膜的方阻为337mΩ/□。结论采用直流磁控和高功率脉冲磁控技术都能在BT板表面镀覆性能优良的铜膜,从而实现高聚合树脂材料的表面金属化处理,虽然高功率脉冲铜膜具有更好的微观性能,但电性能却远不及直流磁控溅射铜膜,目前在工程实际应用上还不能完全取代直流磁控,仍需针对膜层物相调控、纯度和电性能等方面展开持续深入的研究。 展开更多

关键词 高功率脉冲磁控镀膜 直流磁控溅射镀膜 BT板 表面金属化 XPS

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LiNbO_(3)/ITO异质结薄膜的制备及光电性质研究

9

作者 朱家怡 杜帅 +2 位作者 周鹏飞 郑凡 陈云琳 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第5期819-824,共6页

在200℃下采用磁控溅射方法在玻璃衬底与硅基板上溅射沉积LiNbO_(3)/ITO(LN/ITO)异质结薄膜。通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计和变温霍尔效应等测试了该薄膜的结构、形貌及光电性质。XRD测试结果表明,相比于... 在200℃下采用磁控溅射方法在玻璃衬底与硅基板上溅射沉积LiNbO_(3)/ITO(LN/ITO)异质结薄膜。通过X射线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)、紫外可见分光光度计和变温霍尔效应等测试了该薄膜的结构、形貌及光电性质。XRD测试结果表明,相比于ITO/LN,LN/ITO叠层顺序有更优的生长取向和结晶性能。AFM结果显示,200℃下异质结薄膜表面较为平整,鲜少有凸起。通过紫外可见分光光度计透光性能测试,相比于LN单层薄膜,叠层后的异质结薄膜的透光率在可见光范围内有所提高,且退火后异质结薄膜透光性进一步增强。利用变温霍尔效应测试仪研究了LN/ITO异质结的电学性质,测试结果表明LN/ITO异质结薄膜为p型半导体;与LN单层薄膜相比,LN/ITO异质结薄膜的电导率提高了11个数量级。 展开更多

关键词 LN/ITO薄膜 异质结 磁控溅射镀膜 透光率 霍尔效应

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离子束溅射淀积速率的计算 被引量：2

10

作者 黄壮锐 姜祥祺 陈国梁 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 1990年第1期17-21,共5页

一、引言离子束溅射技术已广泛应用于表面刻蚀和制备薄膜。由于离子束电流强度和加速电压能够独立地调节,并且衬底与离子源之间有较大的距离,因而离子能量、电流密度、衬底温度和离子束入射角都能分别控制。离子束溅射还能在比通常的射频。

关键词 离子束溅射 衬底温度 磁控溅射镀膜 刻蚀速率 元素靶 加速电压 薄膜生长 超导薄膜 速率表 离子能量

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磁溅镀膜轴承新材料的研究 被引量：4

11

作者 郭亚军 李庆芬 +2 位作者 尹树桐 任正义 王俊 《哈尔滨工程大学学报》 EI CAS CSCD 2001年第6期93-96,0,共4页

随着造船和汽车工业的发展 ,人们对发动机的功率和转速指标要求越来越高 ,因而对轴瓦、衬套等耐磨零件的服役性能要求也越来越苛刻 ,因此必须寻找新的性能优良的耐磨材料和涂层技术以改善轴承材料的摩擦学性能、耐磨性能、承载能力及适... 随着造船和汽车工业的发展 ,人们对发动机的功率和转速指标要求越来越高 ,因而对轴瓦、衬套等耐磨零件的服役性能要求也越来越苛刻 ,因此必须寻找新的性能优良的耐磨材料和涂层技术以改善轴承材料的摩擦学性能、耐磨性能、承载能力及适应性 .利用国产设备 ,通过理论探索和实验研究 ,创造出一种微观结构优良的轴承材料 ,并获得了磁溅该材料的工艺参数 ,试制的涂层轴瓦材料性能已基本达到了美巴公司产品的性能指标 .关于通过磁控溅射镀膜技术获得的AlSn2 0镀膜的组织结构及性能的研究 ,为进一步开展新型轴承材料的研制奠定了基础 . 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 轴承 AlSn20 滑动轴承

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专利名称：一种镀膜多功能玻璃

12

《表面技术》 EI CAS CSCD 2005年第6期13-13,共1页

本实用新型公开了一种镀膜玻璃。它是在钢化玻璃或普通平板玻璃其中的一个表面上，采用真空磁控溅射镀膜方式镀上两层或两层以上的金属层。以这种镀膜玻璃而构成的钢化镀膜中空玻璃、钢化（或普通平板）镀膜夹层中空玻璃、双层钢化（或... 本实用新型公开了一种镀膜玻璃。它是在钢化玻璃或普通平板玻璃其中的一个表面上，采用真空磁控溅射镀膜方式镀上两层或两层以上的金属层。以这种镀膜玻璃而构成的钢化镀膜中空玻璃、钢化（或普通平板）镀膜夹层中空玻璃、双层钢化（或普通平板）镀膜夹层安全玻璃、多层钢化（或普通平板）镀膜防弹玻璃都具有抗辐射和防紫外线、红外线的能力；既能隔热、保温，又能防爆、防盗，还能清除共振和吸收低频及高频噪音；而且它们色彩丰富可在许多领域中应用。 展开更多

关键词 镀膜玻璃 功能玻璃 专利名称 普通平板玻璃 镀膜中空玻璃 夹层安全玻璃 钢化玻璃 磁控溅射镀膜 实用新型 防紫外线

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镀铝瓦楞纸板制备及其家具设计应用 被引量：5

13

作者 周颐 周威 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第14期46-49,共4页

本着经济的可持续发展理念,探讨了真空镀铝磁控溅射镀膜机理及技术方法,介绍了镀铝瓦楞纸板的制备工艺,从而获得绿色环保的镀铝瓦楞纸板新材料。深入分析了镀铝瓦楞纸板在家具设计中的应用,为生产新颖、美观且具有时代特点的镀铝瓦楞纸... 本着经济的可持续发展理念,探讨了真空镀铝磁控溅射镀膜机理及技术方法,介绍了镀铝瓦楞纸板的制备工艺,从而获得绿色环保的镀铝瓦楞纸板新材料。深入分析了镀铝瓦楞纸板在家具设计中的应用,为生产新颖、美观且具有时代特点的镀铝瓦楞纸板家具提供参考。 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 镀铝瓦楞纸板 纸板家具

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强流氘氚中子源用TiD_(2)靶膜制备技术研究 被引量：2

14

作者 梁斌斌 巴伟伟 +3 位作者 王子默 彭怡刚 高翔 刘超 《原子能科学技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2022年第S01期265-271,共7页

基片镀膜是氘/氚靶制备过程的重要工序,靶膜的性能直接影响充氘及中子实验。本文对去除表面污渍和氧化层后的基片采用磁控溅射进行镀膜,研制性能优良的强流氘氚中子源用靶膜。采用扫描电镜观察膜层表面外观形貌,根据称重法用电子天秤测... 基片镀膜是氘/氚靶制备过程的重要工序,靶膜的性能直接影响充氘及中子实验。本文对去除表面污渍和氧化层后的基片采用磁控溅射进行镀膜,研制性能优良的强流氘氚中子源用靶膜。采用扫描电镜观察膜层表面外观形貌,根据称重法用电子天秤测量理论膜厚,使用划痕仪分析膜层结合力,并通过电子探针分析膜层的杂质元素含量来表征靶膜的性能。结果表明,磁控溅射镀膜后膜层颗粒度细小、分布均匀,同时膜层表面杂质小于6.0%。镀膜后基片的活化充氘实验表明,氘/钛(原子比)最高可达1.98,满足中子产额实验要求,可进行后续中子实验。 展开更多

关键词 氘/氚中子源 靶膜 TiD_(2) 磁控溅射镀膜

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锂铁氧体表面沉积Cu-Ti复合金属波导膜系的工艺分析研究 被引量：1

15

作者 戴国钧 《实验室研究与探索》 CAS 2004年第4期19-20,30,共3页

采用磁控溅射镀膜方法,在锂铁氧体材料表面,制备了Cu-Ti复合金属波导膜系。本文简单介绍了设备的改造特点,对整个工艺过程进行了分析研究,对制备的Cu-Ti复合金属波导膜系进行了性能测试,结果表明,用该工艺所制备的波导膜系性能指标达到... 采用磁控溅射镀膜方法,在锂铁氧体材料表面,制备了Cu-Ti复合金属波导膜系。本文简单介绍了设备的改造特点,对整个工艺过程进行了分析研究,对制备的Cu-Ti复合金属波导膜系进行了性能测试,结果表明,用该工艺所制备的波导膜系性能指标达到微波器件的要求。 展开更多

关键词 磁控溅射镀膜 锂铁氧体 表面沉积 Cu—Ti复合金属波导膜 性能测试 微波器件 软磁材料

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《天津工业大学学报》2010年总目次(按栏目索引)(第29卷第1期～第6期)

16

《天津工业大学学报》 CAS 北大核心 2010年第6期I0001-I0008,共8页

关键词 天津工业大学 天工大 UHMWPEF 研究进展 锦纶织物 化学纤维织物 服装压 磁控溅射镀膜 PING 魏俊 性能研究 卷第 赵书林 学报 连续出版物 目次 2010 索引 通检 检索工具

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兰州化物所成功研制陶瓷太阳能吸热膜制备技术

17

《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第8期1969-1969,共1页

太阳能光热利用需要通过太阳能集热器来实现,随着太阳能建筑一体化和太阳能光热工业化应用技术的发展,太阳能平板集热器的使用量正在不断增加。据有关报道,目前国内太阳能平板集热器的年产能已超过3880万平米。

关键词 平板集热器 涂料涂覆 磁控溅射法 溶胶-凝胶法 电镀法 应用技术 尖晶石型 磁控溅射镀膜 苛刻条件 耐候性

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一种制备P型氧化锌薄膜的方法

18

《表面技术》 EI CAS CSCD 2007年第1期32-32,共1页

本发明公开的制备P型氧化锌薄膜的方法是利用磁控溅射法，在磁控溅射过程中，以金属锌为磁控溅射的靶，在工作气体氩气中另外通入氮气或氯气和氧气作为反应气，使磁控溅射真空室压强为10^-1～-10^0Pa，氮气流量与氩气流量的比在1：10—1... 本发明公开的制备P型氧化锌薄膜的方法是利用磁控溅射法，在磁控溅射过程中，以金属锌为磁控溅射的靶，在工作气体氩气中另外通入氮气或氯气和氧气作为反应气，使磁控溅射真空室压强为10^-1～-10^0Pa，氮气流量与氩气流量的比在1：10—1：1范围内，氧气流量与氩气流量的比在0：1～1：1范围内，进行磁控溅射镀膜，获得氮氧锌薄膜，再将氮氧锌薄膜在大气或氧气氛中进行热处理，热处理温度在300—500℃范围内，处理时间为O．5—5h，制得P型氧化锌薄膜。本发明方法原理简单，载流子浓度控制方便，可操作性好。 展开更多

关键词 氧化锌薄膜 磁控溅射法 氧气流量 热处理温度 磁控溅射镀膜 工作气体

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奥钢联Eifeler涂层公司正式进入中国

19

《工具技术》 2018年第10期I0004-I0005,共2页

Eifeler公司最初是由Hans Eifeler先生于1981年创立并以自己名字命名的高科技综合工业公司，总部设在德国鲁尔区著名城市杜塞尔多夫。公司创立伊始。Eifeler先生就将PVD、CVD、激光镭射技术、真空热处理、金属表面精细抛光等作为公司的... Eifeler公司最初是由Hans Eifeler先生于1981年创立并以自己名字命名的高科技综合工业公司，总部设在德国鲁尔区著名城市杜塞尔多夫。公司创立伊始。Eifeler先生就将PVD、CVD、激光镭射技术、真空热处理、金属表面精细抛光等作为公司的五大核心支柱产品，其中尤以包含真空电弧离子镀膜（AIP）和真空磁控溅射镀膜（Sputtering）的PVD事业部为其核心业务。 展开更多

关键词 奥钢联 真空热处理 中国 涂层 磁控溅射镀膜 杜塞尔多夫 HANS 金属表面

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低密度超细银包铝复合软导线的制备工艺研究 被引量：1

20

作者 尹俊美 刘毅 +5 位作者 张国全 武海军 秦庆炎 朱武勋 万吉高 浦恩祥 《贵金属》 CAS CSCD 北大核心 2020年第1期65-69,共5页

采用磁控溅射真空镀膜技术制备银包铝复合线坯,通过后续不退火多道次拉拔,制备低密度的超细银包铝复合软导线。结果表明,磁控溅射处理时,银镀层厚度随走线速度加快而变薄,随溅射电流增加而增厚;拉拔加工要求银镀膜层厚度大于1.3μm,道... 采用磁控溅射真空镀膜技术制备银包铝复合线坯,通过后续不退火多道次拉拔,制备低密度的超细银包铝复合软导线。结果表明,磁控溅射处理时,银镀层厚度随走线速度加快而变薄,随溅射电流增加而增厚;拉拔加工要求银镀膜层厚度大于1.3μm,道次变形量宜小于7%;随银镀层厚度增加,制备的10μm超细丝的密度和抗拉强度均增大。将φ15μm的纯铝芯材采用优选条件溅射镀银膜,经拉拔加工制得φ10μm的银包铝复合软导线,其密度为4.87 g/cm^3,抗拉强度286 MPa,复层表面均匀致密无缺陷。 展开更多

关键词 银包铝 复合软导线 磁控溅射真空镀膜 拉拔 密度 抗拉强度

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