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试片取向与IBS沉积TbDy-Fe膜应力及磁伸性能
被引量：
2
1
作者
周白杨
邓光华
林庆彬
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期268-270,274,共4页
本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响。结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸...
本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响。结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸缩性能产生相应的影响。
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关键词
金属材料
TbDy—Fe薄膜
离子束溅射
应力
磁伸性能
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职称材料
题名
试片取向与IBS沉积TbDy-Fe膜应力及磁伸性能
被引量：
2
1
作者
周白杨
邓光华
林庆彬
机构
福州大学材料科学与工程学院
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第4期268-270,274,共4页
基金
福建省科技厅高新技术与火炬计划(99-H-44)
福州大学科技发展基金(XKJ(QD)-01/3)
福建省高校测试基金
文摘
本文研究了轧制青铜试片的取向对离子束溅射(IBS)制备的TbDy-Fe超磁致伸缩膜(GMF)应力及磁致伸缩性能的影响。结果表明,溅射沉积在沿垂直轧制方向截取的试片上沉积膜的应力小于沿平行轧向截取的试片上沉积膜的应力,从而对薄膜的磁致伸缩性能产生相应的影响。
关键词
金属材料
TbDy—Fe薄膜
离子束溅射
应力
磁伸性能
Keywords
Metallic materials, TbDy-Fe GMF, Ion beam sputtering, Stress, Magnetostriction
分类号
O484.5 [理学—固体物理]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
试片取向与IBS沉积TbDy-Fe膜应力及磁伸性能
周白杨
邓光华
林庆彬
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
2
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职称材料
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