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磁流变抛光技术
被引量：
64
1
作者
张峰
余景池
+1 位作者
张学军
王权陡
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第5期1-8,共8页
对磁介质辅助抛光技术２０ 年来的发展作了简要的回顾，进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型，同时提出了这种抛光技术的关键所在，并对其发展未来进行了展望。
关键词
磁介质辅助抛光
磁流变
抛光
磁流变
抛光
液
抛光
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职称材料
题名
磁流变抛光技术
被引量：
64
1
作者
张峰
余景池
张学军
王权陡
机构
中国科学院长春光学精密机械研究所应用光学国家重点实验室
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999年第5期1-8,共8页
基金
国家自然科学基金
文摘
对磁介质辅助抛光技术２０ 年来的发展作了简要的回顾，进而介绍了磁流变抛光技术的产生和发展背景、抛光机理及微观解释、数学模型，同时提出了这种抛光技术的关键所在，并对其发展未来进行了展望。
关键词
磁介质辅助抛光
磁流变
抛光
磁流变
抛光
液
抛光
Keywords
Magnetic media assisted finishing,Magnetorheological finishing,Magnetorheological polishing fluid,Convex ribbon,Polishing spot
分类号
TQ171.684 [化学工程—玻璃工业]
TG580.692 [金属学及工艺—金属切削加工及机床]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁流变抛光技术
张峰
余景池
张学军
王权陡
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
1999
64
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