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大高宽比硬X射线波带片制作及聚焦测试
被引量：
4
1
作者
李海亮
史丽娜
+2 位作者
牛洁斌
王冠亚
谢常青
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第11期2803-2809,共7页
为得到同步辐射光源硬X射线波段(>2keV)需要的高宽比高分辨率波带片,本文利用高加速电压(100kV)电子束光刻配合Si3N4镂空薄膜直写来减少背散射的方法,对硬X射线波带片制作技术进行了蒙特卡洛模拟和电子束光刻实验。模拟结果显示:Si_3...
为得到同步辐射光源硬X射线波段(>2keV)需要的高宽比高分辨率波带片,本文利用高加速电压(100kV)电子束光刻配合Si3N4镂空薄膜直写来减少背散射的方法,对硬X射线波带片制作技术进行了蒙特卡洛模拟和电子束光刻实验。模拟结果显示:Si_3N_4镂空薄膜衬底可以有效降低电子在抗蚀剂中传播时的背散射,进而改善高密度大高宽比容易引起的结构倒塌和粘连问题。通过调整电子束的曝光剂量,在500nm厚的镂空Si_3N_4薄膜衬底上制备出最外环宽度为150nm、金吸收体的厚度为1.6μm,高宽比大于10的硬X射线波带片。同时,引入随机支撑点结构,实现了波带片结构自支撑,提高了大高宽比波带片的稳定性。将利用该工艺制作的波带片在北京同步辐射装置X射线成像4W1A束线8keV能量下进行了聚焦测试,得到清晰的聚焦结果。
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关键词
硬x射线波带片
电子束光刻
大高宽比
波带片
电子束光刻
镂空薄膜
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职称材料
题名
大高宽比硬X射线波带片制作及聚焦测试
被引量：
4
1
作者
李海亮
史丽娜
牛洁斌
王冠亚
谢常青
机构
中国科学院微电子研究所微电子器件与集成技术重点实验室
中国科学院大学
出处
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017年第11期2803-2809,共7页
基金
应用光学国家重点实验室开放基金资助项目(No.Y6YS053001)
国家自然科学基金资助项目(No.61275170)
文摘
为得到同步辐射光源硬X射线波段(>2keV)需要的高宽比高分辨率波带片,本文利用高加速电压(100kV)电子束光刻配合Si3N4镂空薄膜直写来减少背散射的方法,对硬X射线波带片制作技术进行了蒙特卡洛模拟和电子束光刻实验。模拟结果显示:Si_3N_4镂空薄膜衬底可以有效降低电子在抗蚀剂中传播时的背散射,进而改善高密度大高宽比容易引起的结构倒塌和粘连问题。通过调整电子束的曝光剂量,在500nm厚的镂空Si_3N_4薄膜衬底上制备出最外环宽度为150nm、金吸收体的厚度为1.6μm,高宽比大于10的硬X射线波带片。同时,引入随机支撑点结构,实现了波带片结构自支撑,提高了大高宽比波带片的稳定性。将利用该工艺制作的波带片在北京同步辐射装置X射线成像4W1A束线8keV能量下进行了聚焦测试,得到清晰的聚焦结果。
关键词
硬x射线波带片
电子束光刻
大高宽比
波带片
电子束光刻
镂空薄膜
Keywords
hard
x
ray zone plates
electron beam lithography
high aspect ratio zone plate
electron beam lithography
self standing film
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
大高宽比硬X射线波带片制作及聚焦测试
李海亮
史丽娜
牛洁斌
王冠亚
谢常青
《光学精密工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2017
4
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