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题名铜合金表面Ti/TiN多层膜的制备、结构及其性能
被引量：4
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作者
宋贵宏
娄茁
熊光连
陈立佳
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机构
沈阳工业大学材料科学与工程学院
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出处
《沈阳工业大学学报》
EI
CAS
北大核心
2012年第4期391-396,共6页
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基金
辽宁省科技厅博士科研启动基金资助项目(20041022)
辽宁省教育厅科研项目(20092464)
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文摘
为了研究多层膜的腐蚀性能,促进多层膜在生产中的应用,采用电弧离子镀技术,通过调整环境N2和Ar气的时间比例在铜衬底上成功制备了不同调制周期的Ti/TiN多层膜.利用x-射线衍射谱和交流阻抗谱研究了该多层膜的结构和腐蚀性能.表面形貌显示,沉积的Ti/TiN多层膜具有明显的周期性,环境中N2和Ar气的时间比例决定了多层膜的调制周期,N2气时间越长,多层膜中TiN相层越厚.腐蚀性能测定表明,多层膜的调制周期影响其耐蚀性,当调制周期为550 nm时,沉积膜的耐腐蚀性最好.
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关键词
Ti/TiN多层膜
电弧离子镀
调制周期
择优取向
XRD谱
结合强度
腐蚀性能
硬质防护膜
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Keywords
Ti/TiN multilayer film
arc ion plating
modulation period
preferred orientation
XRD spectrum
bonding strength
corrosion resistance
hard protective film
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分类号
TG146.2
[金属学及工艺—金属材料]
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