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PVA固结磨具研磨硬磁盘基片的接触压强分布
1
作者
吕玉山
王军
+2 位作者
孙军
王志友
冯连东
《沈阳建筑大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
2007年第6期1016-1020,共5页
目的为了获得铝质硬磁盘基片研磨过程中的接触压强分布对基片平面度的影响规律.方法建立了铝质硬磁盘基片使用PVA固结模料磨具研磨过程的接触力学模型和边界条件.利用有限元的方法对接触压强分布进行了计算和分析,并利用研磨实验对计算...
目的为了获得铝质硬磁盘基片研磨过程中的接触压强分布对基片平面度的影响规律.方法建立了铝质硬磁盘基片使用PVA固结模料磨具研磨过程的接触力学模型和边界条件.利用有限元的方法对接触压强分布进行了计算和分析,并利用研磨实验对计算获得结果进行了验证.结果获得了研磨过程的磁盘基片与PVA磨具间的接触表面压强分布形态,以及PVA固结磨具的几何和物理参数对压强分布的影响规律,确定了接触压强分布形态是产生磁盘基片平面度误差的重要因素之一.结论接触压强的分布是不均匀,在基片的内径和外径邻域内接触压强增大,导致材料去除率增大,使被加工基片产生平面度误差.选择合理地PVA磨块弹性模量与较小的PVA磨块厚度,可以接触表面压强场分布趋向均匀,从而改善磁盘有效区域的平面度.
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关键词
研磨
硬磁盘基片
接触压强分布
平面度误差
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职称材料
题名
PVA固结磨具研磨硬磁盘基片的接触压强分布
1
作者
吕玉山
王军
孙军
王志友
冯连东
机构
沈阳建筑大学交通与机械工程学院
中国检疫检验科学研究院
出处
《沈阳建筑大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
2007年第6期1016-1020,共5页
基金
辽宁省教育厅科学研究项目(LN566)
文摘
目的为了获得铝质硬磁盘基片研磨过程中的接触压强分布对基片平面度的影响规律.方法建立了铝质硬磁盘基片使用PVA固结模料磨具研磨过程的接触力学模型和边界条件.利用有限元的方法对接触压强分布进行了计算和分析,并利用研磨实验对计算获得结果进行了验证.结果获得了研磨过程的磁盘基片与PVA磨具间的接触表面压强分布形态,以及PVA固结磨具的几何和物理参数对压强分布的影响规律,确定了接触压强分布形态是产生磁盘基片平面度误差的重要因素之一.结论接触压强的分布是不均匀,在基片的内径和外径邻域内接触压强增大,导致材料去除率增大,使被加工基片产生平面度误差.选择合理地PVA磨块弹性模量与较小的PVA磨块厚度,可以接触表面压强场分布趋向均匀,从而改善磁盘有效区域的平面度.
关键词
研磨
硬磁盘基片
接触压强分布
平面度误差
Keywords
lapping
hard magnetic disc substrate
contact pressure distribution
flatness errors
分类号
TN305 [电子电信—物理电子学]
TH161 [机械工程—机械制造及自动化]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
PVA固结磨具研磨硬磁盘基片的接触压强分布
吕玉山
王军
孙军
王志友
冯连东
《沈阳建筑大学学报（自然科学版）》
EI
CAS
2007
0
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职称材料
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