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分步电镀在电脑硬盘磁头晶片生产中的应用
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作者 王冀康 王永康 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2013年第6期21-25,共5页
介绍了电脑硬盘磁头晶片设计生产中分步电镀法的概念,并通过与普通单层金属多步循环电镀比较,阐述了分步电镀法的优缺点。还从光刻胶厚度选择、金属镀层保护、电镀条件优化、金属镀层界面等方面分析了分步电镀的影响因素,以及分步电镀... 介绍了电脑硬盘磁头晶片设计生产中分步电镀法的概念,并通过与普通单层金属多步循环电镀比较,阐述了分步电镀法的优缺点。还从光刻胶厚度选择、金属镀层保护、电镀条件优化、金属镀层界面等方面分析了分步电镀的影响因素,以及分步电镀法在应用上的局限性。 展开更多
关键词 电脑硬盘磁头晶片 分步电镀 生产
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电脑硬盘磁头晶片电镀生产线的维护与保养
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作者 王冀康 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2012年第5期21-23,共3页
电脑硬盘磁头晶片生产中常用的电镀设备分为手动式电镀线和自动式电镀线。分别对两种电镀设备的活化槽、电镀槽、电镀液池、传送装置、循环过滤系统、电气系统及管路系统的维护与保养以及长时间停机时的设备保养方法做了较详尽介绍。
关键词 电脑硬盘磁头晶片 电镀设备 维护 保养
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分子间作用力对超低飞高磁头动态飞行特性的影响
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作者 王玉娟 梁丽 陈云飞 《东南大学学报(自然科学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第6期1238-1242,共5页
以飞高为3.5 nm的皮米磁头为研究对象,采用有限控制体法和三阶Runge-Kutta方法,求解磁头的雷诺方程和运动学方程.得出磁头飞跃盘面凸起障碍过程中头盘间分子间作用力对其飞行姿态的影响,并对磁头磁盘界面进行时域分析.模拟结果表明:超... 以飞高为3.5 nm的皮米磁头为研究对象,采用有限控制体法和三阶Runge-Kutta方法,求解磁头的雷诺方程和运动学方程.得出磁头飞跃盘面凸起障碍过程中头盘间分子间作用力对其飞行姿态的影响,并对磁头磁盘界面进行时域分析.模拟结果表明:超低飞高情况下,磁头飞跃盘面凸起障碍时,分子间作用力破坏了磁头动态飞行稳定性,它是引起头盘界面失效的一个重要因素.在此基础上,提出了降低分子间作用力的方法,如合理设计头盘界面几何参数以适当减小磁头尾部凸缘的面积,或者提高磁盘的表面质量以降低磁盘面的不平整度.以上措施都可以有效降低分子间作用力的不利影响,提高头盘界面稳定性. 展开更多
关键词 硬盘磁头 动态特性 分子间作用力 飞行姿态 时域
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超低飞高磁头动态飞行特性仿真 被引量:1
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作者 梁丽 王玉娟 +1 位作者 杨决宽 陈云飞 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第21期2598-2602,共5页
以飞高低于5nm的五体三层式皮米磁头为研究对象,采用有限控制体法和三阶Runge-Kutta方法,求解磁头的运动学方程和雷诺方程,得到皮米磁头在飞跃盘面凸起障碍过程中,其飞行姿态的变化规律。模拟结果表明盘面的微小凸起会引起磁头飞行姿态... 以飞高低于5nm的五体三层式皮米磁头为研究对象,采用有限控制体法和三阶Runge-Kutta方法,求解磁头的运动学方程和雷诺方程,得到皮米磁头在飞跃盘面凸起障碍过程中,其飞行姿态的变化规律。模拟结果表明盘面的微小凸起会引起磁头飞行姿态的波动,而且当凸起位于气膜正压区时,磁头飞行姿态波动幅度大于凸起位于气膜负压区时磁头飞行姿态的波动幅度;在磁头飞过盘面障碍后,原先的稳定飞行姿态被改变,而飞行姿态的改变会影响磁头的读写质量,通过设计合理的头/盘几何参数,可有效降低波动量,从而提高读写质量。 展开更多
关键词 硬盘磁头 动态特性 飞行姿态 时域
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自力更生做好大型精密仪器的维修工作
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作者 尤宣来 陈灿中 《实验室研究与探索》 CAS 1989年第3期47-49,共3页
该校技术服务中心经过几年努力,完成了自修大型精密仪器60多台(次),培养了人才,积累了技术资料,提高了设备完好率,节约了维修费。热诚欢迎这种能提出问题,总结数据,具有实践经验的稿件。
关键词 大型精密仪器 分析测试中心 大型仪器 设备完好率 技术服务中心 技术资料 条件准备 学校实际情况 技术人员 硬盘磁头
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国外动态
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《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2008年第4期91-95,共5页
关键词 国外动态 随机存取存储器 控制技术 硬盘磁头 生物燃料 大容量化 聚酰亚胺 印刷基板
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