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酸性硫酸盐镀铜添加剂研究 被引量:11
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作者 李立清 王义 安文娟 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2016年第11期20-23,共4页
简述了酸性硫酸盐镀铜添加剂的基本组成和研究状况,分析了添加剂之间的相互作用。通过对酸性硫酸盐镀铜添加剂研究进展的介绍,认为开发具有性能优越和价格低廉特点的复配添加剂是目前研究的主要方向,同时,完善电镀工艺技术也是新形势下... 简述了酸性硫酸盐镀铜添加剂的基本组成和研究状况,分析了添加剂之间的相互作用。通过对酸性硫酸盐镀铜添加剂研究进展的介绍,认为开发具有性能优越和价格低廉特点的复配添加剂是目前研究的主要方向,同时,完善电镀工艺技术也是新形势下酸性硫酸盐电镀铜发展的主要趋势。 展开更多
关键词 酸性硫酸盐镀铜 添加剂 作用机理
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硫酸盐镀铜溶液中铜阳极性能研究 被引量:7
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作者 刘学雷 钟强 王为 《电镀与精饰》 CAS 2001年第4期36-37,共2页
采用电化学联机测试系统对酸性硫酸盐镀铜工艺中含磷质量分数不同的铜阳极的电化学行为进行了阳极极化曲线和循环伏安曲线的对比研究 ,结果表明在酸性硫酸盐镀铜溶液中低质量分数磷铜阳极要比高质量分数磷铜阳极和纯铜阳极允许使用的阳... 采用电化学联机测试系统对酸性硫酸盐镀铜工艺中含磷质量分数不同的铜阳极的电化学行为进行了阳极极化曲线和循环伏安曲线的对比研究 ,结果表明在酸性硫酸盐镀铜溶液中低质量分数磷铜阳极要比高质量分数磷铜阳极和纯铜阳极允许使用的阳极电流密度高 ,产生的 Cu+离子更少 ,效果更好。 展开更多
关键词 铜阳极 质量分数 硫酸盐镀铜 极化曲线 镀液 电镀
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硫酸盐镀铜光亮剂的改进研究 被引量:2
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作者 陈少华 曹林峰 《电镀与精饰》 CAS 北大核心 2010年第12期30-32,共3页
酸性镀铜溶液中添加现行硫酸盐镀铜光亮剂会导致低电流区域镀层光亮度不足,通过调整光亮剂中SP用量和添加甲基紫来改善这一缺点。通过甲基紫与硫酸盐镀铜光亮剂的复配,研究镀铜所得试片镀层的效果,确定了甲基紫的最佳添加量,得到了一种... 酸性镀铜溶液中添加现行硫酸盐镀铜光亮剂会导致低电流区域镀层光亮度不足,通过调整光亮剂中SP用量和添加甲基紫来改善这一缺点。通过甲基紫与硫酸盐镀铜光亮剂的复配,研究镀铜所得试片镀层的效果,确定了甲基紫的最佳添加量,得到了一种适用于低酸高铜体系的硫酸盐镀铜光亮剂。 展开更多
关键词 硫酸盐镀铜 光亮剂 甲基紫
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印刷线路板硫酸盐镀铜溶液抗干扰快速实验分析方法
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作者 王宏 《实验室研究与探索》 CAS 北大核心 2011年第4期17-18,共2页
给出了一组老化镀液中硫酸铜及硫酸的抗干扰连续测定方法,并给出了镀液中氯离子含量的简易测定方法,同时为便于分析测试人员操作,详注了初配镀液的滴定现象,并对传统分析步骤进行了修正。通过与传统方法测试结果比较表明,新方法步骤简... 给出了一组老化镀液中硫酸铜及硫酸的抗干扰连续测定方法,并给出了镀液中氯离子含量的简易测定方法,同时为便于分析测试人员操作,详注了初配镀液的滴定现象,并对传统分析步骤进行了修正。通过与传统方法测试结果比较表明,新方法步骤简便、快捷,消耗低,精度高,可确保绿色环保工艺顺利实施而不被氰化镀铜等污染型工艺所取代,在实际生产中取得了很好的效果,经济社会效益显著。 展开更多
关键词 抗干扰 硫酸盐镀铜 实验分析
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印制电路板电镀铜添加剂的研究进展 被引量:5
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作者 朱凤鹃 李宁 黎德育 《电镀与精饰》 CAS 2008年第8期16-20,共5页
简述了高密度印制板的关键技术——酸性镀铜,列举了目前运用较广的印制电路板酸性镀铜添加剂产品,介绍了酸性镀铜添加剂的常规组成及其电化学行为。通过对运用于印制电路板电镀的酸性镀铜添加剂的研究进展的综述,认为寻求更新的添加剂... 简述了高密度印制板的关键技术——酸性镀铜,列举了目前运用较广的印制电路板酸性镀铜添加剂产品,介绍了酸性镀铜添加剂的常规组成及其电化学行为。通过对运用于印制电路板电镀的酸性镀铜添加剂的研究进展的综述,认为寻求更新的添加剂复配技术以及开发单体性能更为优秀的中间体是满足目前印制电路板酸性镀铜要求的重要途径。 展开更多
关键词 印制电路板 硫酸盐镀铜 添加剂
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镀铜现场经验四则 被引量:2
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作者 白崇成 《电镀与精饰》 CAS 2001年第5期23-24,共2页
着重讨论了现场硫酸盐镀铜的四个技术问题 :1 )酸性硫酸盐镀铜溶液中铜的测定 ;2 )活化工序对镀铜质量的影响 ;3)镀铜层的铬酸钝化工艺时间 ;4)镀铜层的退镀问题。
关键词 酸性硫酸盐镀铜 测定 活化 钝化 退镀
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Influence of alkylpyridinium ionic liquids on copper electrodeposition from acidic sulfate electrolyte 被引量:3
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作者 张启波 华一新 +1 位作者 任艳旭 陈立源 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS 2013年第8期2096-2102,共7页
The effect of two alkylpyridinium ionic liquids (py-iLs) including N-butylpyridinium hydrogen sulfate (BpyHSO4) and N-hexylpyridinium hydrogen sulfate (HpyHSO4) on the kinetics of copper electrodeposition from a... The effect of two alkylpyridinium ionic liquids (py-iLs) including N-butylpyridinium hydrogen sulfate (BpyHSO4) and N-hexylpyridinium hydrogen sulfate (HpyHSO4) on the kinetics of copper electrodeposition from acidic sulfate solution was investigated by cyclic voltammetry and potentiodynamic polarization measurements. Results from cyclic voltammetry indicate that these py-iLs have a pronounced inhibiting effect on CuE+ electroreduction and there exists a typical nucleation and growth process. Kinetic parameters such as Tafel slope, transfer coefficient and exchange current density obtained from Tafel plots, lead to the conclusion that py-iLs inhibit the charge transfer by slightly changing the copper electrodeposition mechanism through their adsorption on the cathodic surface. In addition, scanning electron microscope (SEM) and X-ray diffraction analyses reveal that the presence of these additives leads to more leveled and fine-grained cathodic deposits without changing the crystal structure of the electrodeposited copper but strongly affects the crystallographic orientation by significantly inhibiting the growth of (111), (200) and (311) planes. 展开更多
关键词 copper electrodeposition ADDITIVES ionic liquids electrokinetic parameter ADSORPTION
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