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原位合成MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层的减磨机理
1
作者
宁炳坤
杨泽慧
+3 位作者
钱伟峰
姜超平
赵秦阳
陈永楠
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期3013-3023,共11页
通过研究MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层与金刚石磨球摩擦界面的相互作用及摩擦过程界面位错变化,揭示原位合成MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层的减磨机理。结果显示:原位合成的MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层在分子动力学模拟摩擦过程中磨屑原子分散堆积...
通过研究MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层与金刚石磨球摩擦界面的相互作用及摩擦过程界面位错变化,揭示原位合成MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层的减磨机理。结果显示:原位合成的MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层在分子动力学模拟摩擦过程中磨屑原子分散堆积在膜层表面,减小了膜层所受切向应力,并将应力分散到膜层,从而缓解磨痕处应力集中。MoS_(2)-S10%膜层原子堆积最少,摩擦因数稳定在0.2左右,具有良好的摩擦性能;由于摩擦过程中膜层表面形成MoS_(2)润滑膜,该膜在受到破坏后下层MoS_(2)逐渐向上迁移修复该膜,使膜层保持低摩擦因数,因而MoS_(2)-S10%膜层具有较好的减磨性能。同时,原位合成的MoS_(2)/TiO_(2)界面为非共格界面,可以湮灭位错降低位错密度,促进位错运动,从而提高膜层的减磨性能。该研究结果为揭示减磨材料减磨机理提供了新思路和新方法。
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关键词
MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层
硫源浓度
摩擦磨损
分子动力学
位错
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职称材料
题名
原位合成MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层的减磨机理
1
作者
宁炳坤
杨泽慧
钱伟峰
姜超平
赵秦阳
陈永楠
机构
长安大学材料科学与工程学院
出处
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024年第9期3013-3023,共11页
基金
国家自然科学基金资助项目(52271051)
陕西省“科学家+工程师”队伍建设项目(2023KXJ-272)
中央高校基本科研业务费专项资金资助项目(300102312407)。
文摘
通过研究MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层与金刚石磨球摩擦界面的相互作用及摩擦过程界面位错变化,揭示原位合成MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层的减磨机理。结果显示:原位合成的MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层在分子动力学模拟摩擦过程中磨屑原子分散堆积在膜层表面,减小了膜层所受切向应力,并将应力分散到膜层,从而缓解磨痕处应力集中。MoS_(2)-S10%膜层原子堆积最少,摩擦因数稳定在0.2左右,具有良好的摩擦性能;由于摩擦过程中膜层表面形成MoS_(2)润滑膜,该膜在受到破坏后下层MoS_(2)逐渐向上迁移修复该膜,使膜层保持低摩擦因数,因而MoS_(2)-S10%膜层具有较好的减磨性能。同时,原位合成的MoS_(2)/TiO_(2)界面为非共格界面,可以湮灭位错降低位错密度,促进位错运动,从而提高膜层的减磨性能。该研究结果为揭示减磨材料减磨机理提供了新思路和新方法。
关键词
MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层
硫源浓度
摩擦磨损
分子动力学
位错
Keywords
MoS_(2)/TiO_(2)composite coating
sulfur source concentration
friction and wear
molecular dynamics
dislocation
分类号
TG174.4 [金属学及工艺—金属表面处理]
TG146.23 [金属学及工艺—金属材料]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
原位合成MoS_(2)/TiO_(2)复合膜层的减磨机理
宁炳坤
杨泽慧
钱伟峰
姜超平
赵秦阳
陈永楠
《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2024
0
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