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制备条件对硅纳米孔柱阵列表面硅柱密度调制
被引量：
1
1
作者
李亚勤
孙新瑞
+2 位作者
许海军
姜卫粉
李新建
《科学技术与工程》
2008年第11期2806-2810,共5页
采用水热技术制备的硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)是一种具有规则层次结构的硅微米/纳米结构复合体系,具有广谱光吸收和光致发光特性。针对由HF和Fe(NO3)3组成的水热腐蚀溶液体系,研究了溶液组分浓度、腐蚀温度等制备条件对Si-NPA表面硅柱密...
采用水热技术制备的硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)是一种具有规则层次结构的硅微米/纳米结构复合体系,具有广谱光吸收和光致发光特性。针对由HF和Fe(NO3)3组成的水热腐蚀溶液体系,研究了溶液组分浓度、腐蚀温度等制备条件对Si-NPA表面硅柱密度及其光致发光性能(PL)的调制作用。结果表明,当腐蚀温度、HF(或Fe3+)浓度固定而变化Fe3+(或HF)浓度时,硅柱面密度随HF(或Fe3+)浓度的增加呈指数减小趋势,但样品的PL峰位保持不变;当溶液中Fe3+,HF浓度固定时,硅柱面密度随腐蚀温度的升高而单调减小,同时样品的PL峰位发生蓝移、发光强度增强。
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关键词
硅
纳米孔柱阵列
硅柱面密度
光致发光
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职称材料
题名
制备条件对硅纳米孔柱阵列表面硅柱密度调制
被引量：
1
1
作者
李亚勤
孙新瑞
许海军
姜卫粉
李新建
机构
郑州大学物理系
出处
《科学技术与工程》
2008年第11期2806-2810,共5页
基金
国家自然科学基金(10574112)资助
文摘
采用水热技术制备的硅纳米孔柱阵列(Si-NPA)是一种具有规则层次结构的硅微米/纳米结构复合体系,具有广谱光吸收和光致发光特性。针对由HF和Fe(NO3)3组成的水热腐蚀溶液体系,研究了溶液组分浓度、腐蚀温度等制备条件对Si-NPA表面硅柱密度及其光致发光性能(PL)的调制作用。结果表明,当腐蚀温度、HF(或Fe3+)浓度固定而变化Fe3+(或HF)浓度时,硅柱面密度随HF(或Fe3+)浓度的增加呈指数减小趋势,但样品的PL峰位保持不变;当溶液中Fe3+,HF浓度固定时,硅柱面密度随腐蚀温度的升高而单调减小,同时样品的PL峰位发生蓝移、发光强度增强。
关键词
硅
纳米孔柱阵列
硅柱面密度
光致发光
Keywords
silicon nanoporous pillar array （ Si-NPA ） planar density of silicon pillars photoluminescence （PL）
分类号
TN304 [电子电信—物理电子学]
TB303 [一般工业技术—材料科学与工程]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
制备条件对硅纳米孔柱阵列表面硅柱密度调制
李亚勤
孙新瑞
许海军
姜卫粉
李新建
《科学技术与工程》
2008
1
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