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硅基陶瓷材料高温氧化理论的回顾
被引量：
11
1
作者
林仕伟
司文捷
+1 位作者
彭志坚
苗赫濯
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2002年第2期268-272,共5页
本文综述了硅基陶瓷材料高温氧化理论 ,在热动力学和整体控速过程两方面具体介绍了在高温条件下Si、SiC、Si3N4
关键词
硅基陶瓷材料
高温氧化
碳化
硅
氮化
硅
氧化性质
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
硅基陶瓷材料高温氧化理论的回顾
被引量：
11
1
作者
林仕伟
司文捷
彭志坚
苗赫濯
机构
清华大学新型陶瓷与精细工艺国家重点实验室
出处
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2002年第2期268-272,共5页
文摘
本文综述了硅基陶瓷材料高温氧化理论 ,在热动力学和整体控速过程两方面具体介绍了在高温条件下Si、SiC、Si3N4
关键词
硅基陶瓷材料
高温氧化
碳化
硅
氮化
硅
氧化性质
Keywords
oxidation theory
silicon based materials
Si
SiC
Si\-3N\-4
分类号
TQ174.1 [化学工程—陶瓷工业]
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职称材料
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作者
出处
发文年
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1
硅基陶瓷材料高温氧化理论的回顾
林仕伟
司文捷
彭志坚
苗赫濯
《材料科学与工程》
CSCD
北大核心
2002
11
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