期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
砷化镓衬底上螺旋电感的建模和分析 被引量:4
1
作者 黄志忠 殷晓星 +1 位作者 崔铁军 洪伟 《微波学报》 CSCD 北大核心 2005年第B04期39-43,共5页
针对砷化镓(GaAs)衬底上螺旋电感提出了一种改进形式的集总参数等效电路模型,该等效电路模型能很好地表征螺旋电感的高频效应。同时,应用电磁场全波分析方法对螺旋电感进行仿真,并分析各参数对电感性能的影响。从得到的散射参数中提取... 针对砷化镓(GaAs)衬底上螺旋电感提出了一种改进形式的集总参数等效电路模型,该等效电路模型能很好地表征螺旋电感的高频效应。同时,应用电磁场全波分析方法对螺旋电感进行仿真,并分析各参数对电感性能的影响。从得到的散射参数中提取出有效电感、Q值和自谐振频率。基于参数优化方法提取等效电路模型中各元件值,并利用曲线拟合技术给出其相应的闭合表达式。这些表达式可用于射频和微波集成电路的设计,从而提高电路设计的性能和效率。 展开更多
关键词 单片微波集成电路(MMIC) 螺旋电感 电路模型 参数提取 砷化镓衬底
在线阅读 下载PDF
在砷化镓衬底上用分子束外延法生长锑化铟薄膜
2
作者 宋福英 《红外与激光技术》 CSCD 1994年第2期62-64,共3页
用分子束外延方法在GaAs上生长InSb薄膜。方法是先在温度380℃生长InSb有源层。然后低温(300℃)生长一层约0.03μm厚的InSb缓冲层。Sb_4与In的束流等效压强比为4:1时,可获得温度77K最大霍尔... 用分子束外延方法在GaAs上生长InSb薄膜。方法是先在温度380℃生长InSb有源层。然后低温(300℃)生长一层约0.03μm厚的InSb缓冲层。Sb_4与In的束流等效压强比为4:1时,可获得温度77K最大霍尔迁移率的材料。在2~5μm厚度的薄膜中,温度77K的霍尔迁移率大于35000cm ̄2V ̄(-1)·s ̄(-1)和X射线半峰宽小于250(″)。温度77K的霍尔迁移率比最近报导的结果大3倍。X射线半峰宽也相对小。对可改进薄膜性能的几种可能性作了探讨。 展开更多
关键词 砷化镓衬底 分子束外延 铟薄膜
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部