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晶片行星式研磨抛光机运动模拟的研究 被引量:13
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作者 王军 孙军 +1 位作者 杨信伟 吕玉山 《机械设计与制造》 北大核心 2000年第2期55-56,共2页
针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发 ,模拟了磨粒切痕方向、磨粒轨迹形态的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向、表面完整性的影响规律。
关键词 单晶硅片 运动模拟 研磨抛光机
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高精度大尺寸硅晶片的双面研磨抛光机改进设计 被引量:6
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作者 陈毓 胡晓珍 李伟 《浙江海洋学院学报(自然科学版)》 CAS 2010年第6期586-590,共5页
随着IC设计技术和制造技术的发展和进步,集成电路芯片的集成度在不断提高,芯片密度呈指数增长趋势。硅晶片作为集成电路芯片的主要材料,尺寸越来越大。在分析国内双面抛光机典型机型原理和特点的基础上,针对运用于大尺寸甚至是直径400 m... 随着IC设计技术和制造技术的发展和进步,集成电路芯片的集成度在不断提高,芯片密度呈指数增长趋势。硅晶片作为集成电路芯片的主要材料,尺寸越来越大。在分析国内双面抛光机典型机型原理和特点的基础上,针对运用于大尺寸甚至是直径400 mm的硅晶片,提出高精度双面研磨抛光机在机械结构和控制系统等方面的改进措施,很好地解决了国内目前对大尺寸硅晶片加工难、加工精度不高等难题。 展开更多
关键词 大尺寸硅晶片 高精度 双面研磨抛光机 改进设计
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晶片行星式研磨抛光机运动模拟研究 被引量:2
3
作者 杨信伟 孙军 王军 《沈阳建筑工程学院学报》 2000年第4期292-294,共3页
针对单晶硅片高精度研磨抛光中存在的问题 ,从摩擦学理论出发计算模拟了磨粒平均相对速度、研磨盘磨损的变化过程 ,揭示了运动参数对研抛的表面质量、纹理方向的影响规律 。
关键词 单晶硅片 研磨抛光机 运动模拟
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基于UMAC的超精密研磨抛光机工件坐标系的建立
4
作者 陈琦 《组合机床与自动化加工技术》 北大核心 2014年第10期34-35,39,共3页
在开放式数控系统的研制过程中,基于机床坐标系的加工方式对于某些特定的加工对象不完全能够适用,因此建立工件坐标系很有必要。当不同空间直角坐标系之间进行转换时,常用方法是七参数法,通过最小二乘法求得各参数的最合适值。通过采集... 在开放式数控系统的研制过程中,基于机床坐标系的加工方式对于某些特定的加工对象不完全能够适用,因此建立工件坐标系很有必要。当不同空间直角坐标系之间进行转换时,常用方法是七参数法,通过最小二乘法求得各参数的最合适值。通过采集原点、X轴正向一点和XOY平面第一象限任意一点三个特定点来转换机床坐标系和工件坐标系,该方法采集点数少,计算值准确。由于安装误差等原因导致机床坐标轴的正交性不准确时,该方法建立的工件坐标系不受其影响。 展开更多
关键词 研磨抛光机 超精密加工 工件坐标系 UMAC
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光纤透镜研磨抛光的轮廓成形控制系统的研究 被引量:2
5
作者 王军 李翔 +1 位作者 吕玉山 孙军 《制造技术与机床》 CSCD 北大核心 2009年第11期36-39,共4页
为了有效地减小光纤透镜的研磨抛光轮廓误差,设计一种两轴联动的交叉耦合轮廓控制器,并且针对光纤透镜研磨抛光机床的运动特点,给出了交叉耦合轮廓误差模型。然后利用Matlab软件对该交叉耦合轮廓控制的效果进行了仿真研究与分析。仿真... 为了有效地减小光纤透镜的研磨抛光轮廓误差,设计一种两轴联动的交叉耦合轮廓控制器,并且针对光纤透镜研磨抛光机床的运动特点,给出了交叉耦合轮廓误差模型。然后利用Matlab软件对该交叉耦合轮廓控制的效果进行了仿真研究与分析。仿真结果表明,利用该控制器能使系统轮廓误差从0·075μm减小到0·03μm,但由于加入了交叉耦合器的补偿量,Z轴的跟随误差也从0·05μm增大到0·07μm。同时也表明两轴联动的交叉耦合控制系统远远优于单轴PID控制系统。 展开更多
关键词 光纤透镜 研磨抛光机 轮廓控制 交叉耦合 超精密加工
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光纤透镜研磨抛光的伺服控制系统的研究
6
作者 王军 李翔 +1 位作者 吕玉山 孙军 《机床与液压》 北大核心 2010年第23期32-34,40,共4页
在分析光纤透镜研磨抛光机床伺服进给系统结构的基础上建立系统数学模型,并采用频域参数辨识的方法获得传递函数模型的参数;利用Matlab软件对该系统进行仿真研究与分析。结果表明:采用PID形式的位置控制器,可以使系统获得很好的动态特性。
关键词 光纤透镜 研磨抛光机 伺服系统 传递函数 超精密加工
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