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化学机械研磨废水处理及回用技术的研究进展 被引量:6
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作者 罗助强 王峰 杨海真 《环境科学与技术》 CAS CSCD 北大核心 2012年第3期127-131,共5页
化学机械研磨废水产生量大但总体污染物浓度不高,回用潜力巨大,其处理及回用技术是芯片制造企业的研究重点。文章介绍了化学机械研磨废水来源、水质特征,概述并对比分析了常用的化学机械研磨废水处理和回用技术及其应用现状和发展趋势,... 化学机械研磨废水产生量大但总体污染物浓度不高,回用潜力巨大,其处理及回用技术是芯片制造企业的研究重点。文章介绍了化学机械研磨废水来源、水质特征,概述并对比分析了常用的化学机械研磨废水处理和回用技术及其应用现状和发展趋势,并指出以膜滤或电化学处理为主的处理及回用技术具有良好的运用前景。 展开更多
关键词 芯片制造 化学机械研磨废水 处理 回用
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混凝沉淀—生物接触氧化处理研磨废水实例 被引量:1
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作者 马杰 王海霞 赵惠 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2006年第7期89-91,共3页
介绍了采用混凝沉淀—生物接触氧化工艺处理研磨废水的设计和运行情况。该项目设计规模为48 m3/d,进水CODCr平均为3 540 mg/L,最高达10 100 mg/L。连续运行表明,出水的CODCr平均为49 mg/L,最高为66 mg/L,其余指标均达到相关标准。表明... 介绍了采用混凝沉淀—生物接触氧化工艺处理研磨废水的设计和运行情况。该项目设计规模为48 m3/d,进水CODCr平均为3 540 mg/L,最高达10 100 mg/L。连续运行表明,出水的CODCr平均为49 mg/L,最高为66 mg/L,其余指标均达到相关标准。表明该处理工艺对研磨废水具有较好的针对性,达到了设计要求。 展开更多
关键词 研磨废水 混凝沉淀 生物接触氧化
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手机屏研磨废水再生水厂的设计及运行 被引量:2
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作者 尹小伟 李芝 罗宇坚 《工业水处理》 CAS CSCD 北大核心 2015年第9期87-89,共3页
为适应日益扩大的生产规模,解决水源紧张问题,蓝思科技(湖南)有限公司建设了研磨废水处理及回用水厂。该工程不仅可以减小对环境的水污染,解决部分水源问题,同时处理后的废水回用为公司带来了一定的经济效益。该工程处理规模为15 000 m3... 为适应日益扩大的生产规模,解决水源紧张问题,蓝思科技(湖南)有限公司建设了研磨废水处理及回用水厂。该工程不仅可以减小对环境的水污染,解决部分水源问题,同时处理后的废水回用为公司带来了一定的经济效益。该工程处理规模为15 000 m3/d,采用调节池/高效沉淀池/D型滤池处理工艺,处理出水回用做生产清洗水。 展开更多
关键词 研磨废水 高效沉淀池 D型滤池 再生回用
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膜过滤工艺应用于研磨废水处理的案例分析 被引量:1
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作者 涂燕红 郝双龙 +2 位作者 吴婷 李小忠 陈寒松 《现代化工》 CAS CSCD 北大核心 2020年第S01期226-228,233,共4页
采用平板陶瓷膜过滤技术对研磨废水进行处理.磁粉废水进水水质为pH 9.6、COD约为70 mg/L、SS含量为230 mg/L,铁红废水pH为7.2、COD约为55 mg/L、SS含量为2900 mg/L,经膜过滤工艺处理后,磁粉废水和铁红废水pH下降率分别为11.9%和1.5%,CO... 采用平板陶瓷膜过滤技术对研磨废水进行处理.磁粉废水进水水质为pH 9.6、COD约为70 mg/L、SS含量为230 mg/L,铁红废水pH为7.2、COD约为55 mg/L、SS含量为2900 mg/L,经膜过滤工艺处理后,磁粉废水和铁红废水pH下降率分别为11.9%和1.5%,COD下降率分别为75.6%和84.1%,SS去除率均为100%.以50 m^(3)/d、SS含量为5000 mg/L的废水处理项目为例进行经济核算显示,正产运行情况下595 d可回收工程投资,快速实现环保效益和经济效益双赢. 展开更多
关键词 陶瓷膜 机械研磨废水 再生回用 物料回收 经济分析
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彩色显像管玻壳研磨废水的处理
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作者 王彦丽 《水处理技术》 CAS CSCD 2000年第6期370-372,共3页
采用“混凝 -沉淀 -过滤”工艺路线 ,对彩色显像管玻壳研磨废水进行处理。处理结果 :固体悬浮物 (SS)去除率达 99.0 %以上 ,经处理后的废水回用率达 1 0 0 % ,吨废水的处理成本约为 3.1 6元。
关键词 彩色显像管 玻壳研磨废水 混凝处理 沉淀 过滤
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水解酸化-接触氧化法处理磁头研磨清洗废水 被引量:5
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作者 贾宝琼 黄强 +1 位作者 林晓葱 吴友明 《水处理技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第6期369-370,共2页
利用水解酸化-接触氧化法成功处理了磁头研磨清洗废水。废水进水BOD5、CODCr、SS和石油类分别为80~150mg/L、400~850mg/L、500~2200mg/L和80~150mg/L,经水解酸化-接触氧化法处理后,CODCr、BOD5、SS和石油类的去除率分别达90.9%、90... 利用水解酸化-接触氧化法成功处理了磁头研磨清洗废水。废水进水BOD5、CODCr、SS和石油类分别为80~150mg/L、400~850mg/L、500~2200mg/L和80~150mg/L,经水解酸化-接触氧化法处理后,CODCr、BOD5、SS和石油类的去除率分别达90.9%、90.9%、97.6%和93.3%,使出水稳定达到污水排放一级标准。 展开更多
关键词 水解酸化 接触氧化 磁头研磨清洗废水 废水处理
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微电子工业生产废水处理及回收利用 被引量:6
7
作者 胡伟林 《工业水处理》 CAS CSCD 2001年第12期40-41,共2页
阐述了微电子工业芯片制造而产生的含氟废水、硅片研磨废水以及纯水处理混床再生所产生的高浓度酸碱废水的处理方法 ,特别对含氟废水的处理进行了大胆的尝试 ,取得了明显的成效。对处理后的合格废水回收用作工艺设备及动力设备的冷却水 。
关键词 含氟废水 研磨废水 酸碱废水 回收利用 微电子工业 废水处理
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