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50ns时间分辨率瞬态热反射热成像测温装置
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作者 翟玉卫 刘岩 +4 位作者 王强栋 银军 李灏 杜蕾 吴爱华 《半导体技术》 北大核心 2025年第7期740-745,共6页
针对脉冲工作条件下微波功率器件瞬态结温测试需求,开发了具备50 ns时间分辨率的热反射热成像测温装置。基于LED光源,采用较短的双同轴屏蔽线缆连接光源与驱动电源,减小了线缆阻抗和外部电磁干扰的影响,实现了50 ns照明脉冲输出。提出... 针对脉冲工作条件下微波功率器件瞬态结温测试需求,开发了具备50 ns时间分辨率的热反射热成像测温装置。基于LED光源,采用较短的双同轴屏蔽线缆连接光源与驱动电源,减小了线缆阻抗和外部电磁干扰的影响,实现了50 ns照明脉冲输出。提出插入监控帧的脉冲窗函数控制时序及算法,抑制了光强漂移对测温结果的影响。选择一个与GaN高电子迁移率晶体管(HEMT)栅极材质相同的金属微带电阻作为被测件(DUT),对其施加1μs脉宽的电激励。采用瞬态热反射热成像测温装置测得其温度上升时间为1.0μs,且能明显区分50 ns时间间隔的温度变化。 展开更多
关键词 瞬态热反射成像 时间分辨率 脉冲窗函数平均 金属微带电阻 光强漂移
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时序优化的瞬态热反射成像测温技术
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作者 夏力 商娅娜 +4 位作者 陈娜 刘书朋 刘勇 庞拂飞 王廷云 《半导体技术》 北大核心 2025年第4期385-392,共8页
为消除光源波动对热反射测量的干扰,提出一种时序优化的瞬态热反射成像测温方法。该方法在触发光源信号与激励信号之间交替实现两者的同步与延迟,从而实现瞬态热反射成像。为验证该方法,使用尺寸小、热导率高的硅芯石英包层光纤作为样品... 为消除光源波动对热反射测量的干扰,提出一种时序优化的瞬态热反射成像测温方法。该方法在触发光源信号与激励信号之间交替实现两者的同步与延迟,从而实现瞬态热反射成像。为验证该方法,使用尺寸小、热导率高的硅芯石英包层光纤作为样品,得到硅芯在一个温度变化周期内的反射率变化与平均反射率的比值(ΔR/R_(0))为-5.98×10^(-4),而相同测量时间内光源波动导致的该比值为-2.17×10^(-2),证实了该方法能够减小光源波动的影响。并对硅芯进行光热瞬态测温实验验证,动态描绘硅芯在激光脉冲作用下的升温过程,得到其温度变化在120 ms时刻达到最大值1℃,时间分辨率为20 ms。 展开更多
关键词 瞬态热反射成像 反射 光源波动 时序优化 硅芯石英包层光纤
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纳米铜薄膜瞬态热输运过程试验研究与数值模拟分析 被引量:3
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作者 韩亚萍 曾凡达 吴江 《东北农业大学学报》 CAS CSCD 北大核心 2015年第6期93-98,共6页
利用磁控溅射法制备厚度100 nm的铜薄膜,使用800 nm泵浦和400 nm探测瞬态反射技术,测量铜薄膜的时间分辨反射率,分析铜薄膜在飞秒激光作用下瞬态热输运过程。利用双温模型对铜薄膜热输运过程进行数值模拟,模拟结果显示电子和晶格体系温... 利用磁控溅射法制备厚度100 nm的铜薄膜,使用800 nm泵浦和400 nm探测瞬态反射技术,测量铜薄膜的时间分辨反射率,分析铜薄膜在飞秒激光作用下瞬态热输运过程。利用双温模型对铜薄膜热输运过程进行数值模拟,模拟结果显示电子和晶格体系温度变化过程,电声耦合系数为1.2×1016W·m-3K。变换参数进行模拟,分析薄膜厚度和电声耦合系数对非平衡热输运过程影响规律,为铜薄膜在集成电路中应用提供参考。 展开更多
关键词 磁控溅射 纳米铜薄膜 飞秒瞬态热反射技术 双温模型 输运过程 电声耦合系数
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具有优良隔热和力学性能的低热导率W/Al2O3纳米多层功能膜的构建 被引量:1
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作者 吴珊妮 赵远 +2 位作者 姜宏 文峰 熊春荣 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2020年第2期2023-2028,共6页
本研究以高纯W与Al2O3为靶材,在常温下采用磁控溅射法在钠钙硅玻璃表面交替镀制了W及Al2O3纳米多层膜。在多层膜总厚度相同的条件下,研究了不同W/Al2O3周期厚度对隔热性能的影响。采用台阶仪、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、场发射... 本研究以高纯W与Al2O3为靶材,在常温下采用磁控溅射法在钠钙硅玻璃表面交替镀制了W及Al2O3纳米多层膜。在多层膜总厚度相同的条件下,研究了不同W/Al2O3周期厚度对隔热性能的影响。采用台阶仪、扫描电镜(SEM)、X射线衍射仪(XRD)、场发射透射电镜(TEM)等对多层膜的形貌及结构进行了表征。采用瞬态热反射法(TTR)、纳米压痕仪分别分析了多层膜的隔热性能和力学性能。结果表明,实验沉积的多层膜中各单层均匀连续,不存在断层现象,且层间界面清晰。Al2O3膜层呈非晶形态,W膜层具有亚稳态β-W(210)的择优取向,并在周期厚度为5 nm时呈现明显的非晶态。随着膜层界面密度的增大,多层膜的热阻增大,热导率减小,硬度增大。周期厚度为5 nm、膜层数为41层的W/Al2O3多层膜具有较为优异的隔热性能与力学性能,其热阻为3.14×10^-7 m^2·K·W^-1,有效热导率为0.36 W·m^-1·K^-1,硬度为8.53 GPa,膜/基结合力为42.20 mN。所制备的多层膜在室温到500℃之间具有良好的热稳定性。 展开更多
关键词 W/Al2O3多层膜 磁控溅射 导率 周期厚度 瞬态热反射
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高压下碳纳米管阵列与金属接触热阻研究 被引量:2
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作者 黄正兴 王志刚 张鑫 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第6期638-643,共6页
碳纳米管具有很高的轴向热导率,近年来基于碳纳米管阵列的热界面材料得到了广泛的关注.但碳纳米管阵列与金属间的接触热阻较大,通常在10mm^2·K/W以上,限制了其实际应用.目前通过化学成键等方法可将其界面热阻降至0.6mm^2·K/W... 碳纳米管具有很高的轴向热导率,近年来基于碳纳米管阵列的热界面材料得到了广泛的关注.但碳纳米管阵列与金属间的接触热阻较大,通常在10mm^2·K/W以上,限制了其实际应用.目前通过化学成键等方法可将其界面热阻降至0.6mm^2·K/W,但这些方法都需要牺牲碳纳米管耐高温的特点.为保证其耐高温特性,通过施加压力的方法降低了碳纳米管阵列与金属间的接触热阻.对于高度为800μm的碳纳米管阵列,当压力为1.49 MPa时,测量得到的碳纳米管阵列-Au界面接触热阻为1.90~3.51mm^2·K/W,接近化学成键法的结果并且远小于小压力作用下的热阻,这一结果为进一步减小碳纳米管的接触热阻提供了新的思路. 展开更多
关键词 界面材料 碳纳米管阵列 接触 瞬态热反射测试
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基于FTTR技术的银膜中电子非平衡弛豫持续时间的研究
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作者 许孝芳 高永锋 +1 位作者 周明 任乃飞 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第19期2613-2615,2619,共4页
首先利用磁控溅射镀膜法分别用硅材料和玻璃作衬底制备了不同厚度的金属银薄膜,然后利用飞秒激光瞬态热反射技术(femtosecond transient thermoreflectance,简称FTTR)研究了金属薄膜内部电子非平衡弛豫时间。实验结果表明,相同基材、相... 首先利用磁控溅射镀膜法分别用硅材料和玻璃作衬底制备了不同厚度的金属银薄膜,然后利用飞秒激光瞬态热反射技术(femtosecond transient thermoreflectance,简称FTTR)研究了金属薄膜内部电子非平衡弛豫时间。实验结果表明,相同基材、相同厚度的金属薄膜内电子非平衡弛豫持续时间是相同的。相同泵浦光功率时,电子非平衡弛豫持续时间与膜厚成反比。另外金属薄膜的衬底材料不同,对电子非平衡弛豫持续时间也有不同程度的影响。 展开更多
关键词 飞秒激光 瞬态热反射 银薄膜 非平衡弛豫持续时间
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