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非平衡磁控溅射沉积MoS_2-Ti复合薄膜的结构与真空摩擦磨损性能研究 被引量:9
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作者 周晖 桑瑞鹏 +2 位作者 温庆平 郑军 张凯锋 《摩擦学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第4期374-378,共5页
采用非平衡磁控溅射法制备MoS2-Yi复合薄膜,采用SEM、XRD和XRF对薄膜的结构进行表征,在真空球-盘摩擦试验机上评价试验载荷、转速以及基底材料种类对薄膜真空摩擦磨损性能的影响.结果表明:MoS2-Ti复合薄膜表面致密均匀,断面为细柱... 采用非平衡磁控溅射法制备MoS2-Yi复合薄膜,采用SEM、XRD和XRF对薄膜的结构进行表征,在真空球-盘摩擦试验机上评价试验载荷、转速以及基底材料种类对薄膜真空摩擦磨损性能的影响.结果表明:MoS2-Ti复合薄膜表面致密均匀,断面为细柱状结构,呈MoS:(002)基面择优取向,薄膜中Ti含量为8wt.%,S:Mo原子比为1.8.在真空度优于5×10~Pa、室温环境中,当试验载荷从5N增加至20N时,薄膜的摩擦系数和耐磨寿命都呈减小趋势,摩擦系数变化符合赫兹接触理论模型;当试验速度从250r/min提高至1000r/min时,薄膜的摩擦系数逐渐减小,耐磨寿命变化量较小;不同基体材料上薄膜的摩擦系数平均值均为0.02,9Cr18、45#钢和40Cr基材上薄膜耐磨寿命区别不大,在20~25km之间,磨损形式为磨粒磨损,30CrMnSi上薄膜耐磨寿命明显下降,只有10.3km,磨损形式为黏着磨损,研究结果表明如果基底材料与摩擦对偶间发生黏着磨损,会明显降低其表面沉积薄膜的耐磨寿命. 展开更多
关键词 MoS2-Ti复合薄膜 结构 真空摩擦磨损性能
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