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真实自回避行走中晶体生长界面结构的分形行为
被引量：
1
1
作者
彭年
刘永顺
+1 位作者
聂保锋
刘宁强
《岩石矿物学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期449-452,共4页
晶体生长过程实际上就是生长基元从周围环境中不断地通过界面而进入晶格座位的过程。一般认为,研究生长基元以何种方式以及如何通过界面进入晶格座位是晶体生长界面结构研究中的关键。在生长基元以分子或者原子的微粒子形式在生长环境...
晶体生长过程实际上就是生长基元从周围环境中不断地通过界面而进入晶格座位的过程。一般认为,研究生长基元以何种方式以及如何通过界面进入晶格座位是晶体生长界面结构研究中的关键。在生长基元以分子或者原子的微粒子形式在生长环境中进行无规游走的前提下,本文运用真实自回避行走(TSAW)模型,通过重整化群思想来研究晶体生长界面结构的分形行为。研究发现:晶体生长界面结构的分形行为与生长基元的游走路径形态密切相关,并且在理想状况下真实自回避行走与标准Koch曲线的分形维极为接近。
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关键词
真实自回避行走
KOCH曲线
分形维数
重整化
晶体生长
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职称材料
题名
真实自回避行走中晶体生长界面结构的分形行为
被引量：
1
1
作者
彭年
刘永顺
聂保锋
刘宁强
机构
首都师范大学资源环境与旅游学院
中国地质大学地球科学与资源学院
出处
《岩石矿物学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2007年第5期449-452,共4页
基金
国家青年自然科学基金项目(40002006
40472039)
文摘
晶体生长过程实际上就是生长基元从周围环境中不断地通过界面而进入晶格座位的过程。一般认为,研究生长基元以何种方式以及如何通过界面进入晶格座位是晶体生长界面结构研究中的关键。在生长基元以分子或者原子的微粒子形式在生长环境中进行无规游走的前提下,本文运用真实自回避行走(TSAW)模型,通过重整化群思想来研究晶体生长界面结构的分形行为。研究发现:晶体生长界面结构的分形行为与生长基元的游走路径形态密切相关,并且在理想状况下真实自回避行走与标准Koch曲线的分形维极为接近。
关键词
真实自回避行走
KOCH曲线
分形维数
重整化
晶体生长
Keywords
true self-avoid walk
Koch curve
fractal dimension
renormalization
crystal growth
分类号
O781 [理学—晶体学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
真实自回避行走中晶体生长界面结构的分形行为
彭年
刘永顺
聂保锋
刘宁强
《岩石矿物学杂志》
CAS
CSCD
北大核心
2007
1
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