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基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法
被引量：
13
1
作者
石一磊
苏俊宏
+1 位作者
杨利红
徐均琪
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期76-79,83,共5页
为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试。结果表明:该方法具有...
为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试。结果表明:该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障。
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关键词
相位偏移干涉法
干涉
图
薄膜
薄膜厚度测量
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职称材料
题名
基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法
被引量：
13
1
作者
石一磊
苏俊宏
杨利红
徐均琪
机构
西安工业大学光电工程学院
出处
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2009年第1期76-79,83,共5页
文摘
为解决薄膜厚度的高精度测量问题,提出一种基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量新方法,利用该方法对一个实际SiO2薄膜样片进行测试,通过对所获取的干涉图进行相位解包及数据分析处理,实现对薄膜样片厚度的精确测试。结果表明:该方法具有非接触和测量精度高等优点,所测薄膜厚度的峰谷值为0.162μm,均方根值为0.043μm,为薄膜工艺的进一步研究提供了检测方法上的技术保障。
关键词
相位偏移干涉法
干涉
图
薄膜
薄膜厚度测量
Keywords
phase-shift interferometry
interferogram
thin-film
measurement of thin-film thickness
分类号
TN247 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于相位偏移干涉术的薄膜厚度测量方法
石一磊
苏俊宏
杨利红
徐均琪
《应用光学》
CAS
CSCD
北大核心
2009
13
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