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直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法制备金刚石膜过程中冷阱的设计及作用被引量：1: 1; 作者陈良贤邵思武 +8 位作者刘鹏安康郑宇亭黄亚博白明洁张建军刘金龙魏俊俊李成明《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2022年第2期150-155,共6页; 首先,介绍直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法的原理以及气体循环系统的设计和其优缺点;其次,详细介绍冷阱系统的设计及其工作原理;最后,使用拉曼光谱和傅里叶变换红外光谱与光致发光光谱对比添加冷阱系统前后的金刚石薄膜的质量。结... 展开更多; 关键词直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法金刚石膜循环系统冷阱; 在线阅读下载PDF 职称材料

基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响: 2; 作者张湘辉汪灵 +2 位作者龙剑平邓苗冯珊《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第21期3018-3022,共5页; 采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研... 展开更多; 关键词直流弧光放电等离子体化学气相沉积法纳米金刚石薄膜基底温度开-闭环复合控制; 在线阅读下载PDF 职称材料

电化学两步处理对精磨YG6硬质合金性能及金刚石涂层的影响: 3; 作者张湘辉汪灵 +4 位作者龙剑平常嗣和朱必武陈伟冯艳华《工具技术》 2011年第8期43-48,共6页; 采用电化学两步腐蚀法进行表面预处理研究,探讨了电化学腐蚀中电流类型、腐蚀时间等参数对精磨YG6硬质合金基体的影响;在此基体上,采用直流弧光放电等离子体CVD法制备了金刚石薄膜,并采用SEM、激光拉曼光谱仪、原子吸收分光光度计、电... 展开更多; 关键词电化学两步腐蚀法金刚石薄膜涂层直流弧光放电等离子体化学气相沉积精磨硬质WC-6%wt- CO合金; 在线阅读下载PDF 职称材料

脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究被引量：6: 4; 作者苟伟李剑锋 +2 位作者楚信谱张礼平李国卿《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期33-37,共5页; 类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压... 展开更多; 关键词脉冲放电等离子体辅助化学气相沉积法类金刚石碳膜 RAMAN光谱表面形貌; 在线阅读下载PDF 职称材料

制膜技术与装置: 5; 《中国光学》 EI CAS 2001年第1期70-72,共3页; O484.1 2001010471直流辉光放电等离子体增强化学气相法制备金刚石及氮化碳薄膜=Synthesis of diamond and carbonnitride by DC.glow discharge plasma enhancedchemical vapor deposition[刊,中]/于威,王淑芳, 丁学成,韩理,刘志强,张... 展开更多; 关键词直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积制备氮化碳薄膜金刚石薄膜自然科学版光学膜多晶硅薄膜技术方法大学学报; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法制备金刚石膜过程中冷阱的设计及作用被引量：1: 1; 作者陈良贤邵思武刘鹏安康郑宇亭黄亚博白明洁张建军刘金龙魏俊俊李成明; 机构北京科技大学新材料技术研究院北京科技大学顺德研究生院; 出处《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2022年第2期150-155,共6页; 基金国家重点研发计划(2018YFB0406500,2016YFE0133200) 欧洲地平线Horizon 2020计划(734578)。; 文摘首先,介绍直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法的原理以及气体循环系统的设计和其优缺点;其次,详细介绍冷阱系统的设计及其工作原理;最后,使用拉曼光谱和傅里叶变换红外光谱与光致发光光谱对比添加冷阱系统前后的金刚石薄膜的质量。结果表明:冷阱系统可以有效过滤循环气路中的热油气,避免杂质的掺入;在添加冷阱系统后,金刚石膜内掺入的杂质减少,金刚石拉曼峰半高宽降低到6.76 cm^(−1),接近于Ib型单晶金刚石的,且自支撑金刚石膜的晶体质量明显提高,光学透过率提升较大,在10.6μm波长处达到68.4%。; 关键词直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法金刚石膜循环系统冷阱; Keywords DC arc plasma jet chemical vapor deposition(DCPJCVD) diamond films circulation system cold trap; 分类号 TQ164 [化学工程—高温制品工业] TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响: 2; 作者张湘辉汪灵龙剑平邓苗冯珊; 机构成都理工大学材料与化学化工学院成都理工大学金刚石薄膜实验室; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第21期3018-3022,共5页; 基金国家自然科学基金资助项目(50974025 40572030) +4 种基金 07ZB009) 成都理工大学研究基金资助项目(2005GY02); 文摘采用自主研制的具有基底温度开-闭环复合自动控制系统的直流弧光放电PCVD设备,当开环流量不同时,在硬质合金基体表面分别进行了纳米金刚石薄膜制备研究。并采用SEM、XRD、激光Raman光谱仪对所制备薄膜的形貌、物相和品质进行了分析。研究结果表明,当开环流量从10→5→15→20mL/min变化时,所制备纳米金刚石薄膜的表面粗糙度及石墨成分会随之增加,金刚石晶粒转变为以(110)面生长为主,且尺寸增大;并加剧了硬质合金基体中Co相粘结剂向基体表面的扩散。温控中基底温度的波动(稳定性)是影响纳米金刚石薄膜生长性能的主要原因。; 关键词直流弧光放电等离子体化学气相沉积法纳米金刚石薄膜基底温度开-闭环复合控制; Keywords DC arc discharge plasma chemical vapor deposition nanocrystalline diamond films substrate temperature opened and closed loop composite control method; 分类号 TG174.442 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名电化学两步处理对精磨YG6硬质合金性能及金刚石涂层的影响: 3; 作者张湘辉汪灵龙剑平常嗣和朱必武陈伟冯艳华; 机构成都理工大学材料与化学化工学院成都理工大学金刚石薄膜实验室成都理工大学; 出处《工具技术》 2011年第8期43-48,共6页; 基金国家自然科学基金资助项目(50974025 40572030) +3 种基金成都理工大学研究基金资助项目(2005GY02); 文摘采用电化学两步腐蚀法进行表面预处理研究,探讨了电化学腐蚀中电流类型、腐蚀时间等参数对精磨YG6硬质合金基体的影响;在此基体上,采用直流弧光放电等离子体CVD法制备了金刚石薄膜,并采用SEM、激光拉曼光谱仪、原子吸收分光光度计、电动轮廓仪、洛氏硬度计等进行了表征。结果表明:直、交电化学腐蚀都可以有效地去除YG6硬质合金基体表面因开刃精磨而形成的结构复杂的WC"表皮"。但交流电化学对精磨基体的腐蚀效率较低,处理后基体表面性能较差,不利于金刚石薄膜的形核与生长。而直流电化学两步法可以通过电化学腐蚀时间、酸蚀时间来有效调控基体表面微观结构、Co含量与机械性能,在直流1 A电化学腐蚀5min,王水再腐蚀90s后的精磨硬质合金基体上获得了较高品质、膜基附着性能的金刚石涂层,适合作为精磨基体前处理技术。; 关键词电化学两步腐蚀法金刚石薄膜涂层直流弧光放电等离子体化学气相沉积精磨硬质WC-6%wt- CO合金; Keywords two-step electro-polishing pretreaunent method diamond coatings fine grinding cemented carbide DC arc discharge plasma chemical vapor deposition; 分类号 TG174.36 [金属学及工艺—金属表面处理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究被引量：6: 4; 作者苟伟李剑锋楚信谱张礼平李国卿; 机构大连理工大学三束材料改性国家重点实验室大连交通大学; 出处《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第S1期33-37,共5页; 文摘类金刚石碳膜以其优异的性能,诸如高电阻率、高硬度、低摩擦系数、良好的光学特性等显示出良好的应用前景,越来越受到人们的关注。本文利用脉冲辉光PECVD在不同的脉冲电压下成功地制备了DLC薄膜。采用拉曼光谱仪、原子力显微镜、纳米压痕仪等设备对薄膜的相结构、表面形貌和力学性能进行了综合分析。; 关键词脉冲放电等离子体辅助化学气相沉积法类金刚石碳膜 RAMAN光谱表面形貌; Keywords Pulse discharge PECVD DLC Raman spectroscopy Surface topography; 分类号 TB381 [一般工业技术—材料科学与工程]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名制膜技术与装置: 5; 出处《中国光学》 EI CAS 2001年第1期70-72,共3页; 文摘 O484.1 2001010471直流辉光放电等离子体增强化学气相法制备金刚石及氮化碳薄膜=Synthesis of diamond and carbonnitride by DC.glow discharge plasma enhancedchemical vapor deposition[刊,中]/于威,王淑芳, 丁学成,韩理,刘志强,张连水,傅广生(河北大学物理系.河北,保定(071002))∥河北大学学报.自然科学版.-2000,20(1).-78-82采用直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术方法,在Si(100)衬底上制备了金刚石薄膜。; 关键词直流辉光放电等离子体增强化学气相沉积制备氮化碳薄膜金刚石薄膜自然科学版光学膜多晶硅薄膜技术方法大学学报; 分类号 O461.21 [理学—电子物理学] O484.1 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	直流电弧等离子体喷射化学气相沉积法制备金刚石膜过程中冷阱的设计及作用	陈良贤邵思武刘鹏安康郑宇亭黄亚博白明洁张建军刘金龙魏俊俊李成明	《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心	2022	1	在线阅读下载PDF 职称材料
2	基底温度复合控制对化学气相沉积纳米金刚石薄膜的影响	张湘辉汪灵龙剑平邓苗冯珊	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2012	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	电化学两步处理对精磨YG6硬质合金性能及金刚石涂层的影响	张湘辉汪灵龙剑平常嗣和朱必武陈伟冯艳华	《工具技术》	2011	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	脉冲辉光PECVD制备DLC薄膜的结构和性能研究	苟伟李剑锋楚信谱张礼平李国卿	《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心	2008	6	在线阅读下载PDF 职称材料
5	制膜技术与装置		《中国光学》 EI CAS	2001	0	在线阅读下载PDF 职称材料