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原位诊断铌酸锂晶体生长界面的翻转现象
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作者 蒋先龙 郑玮涛 朱允中 《人工晶体学报》 北大核心 2025年第4期533-542,共10页
在提拉法晶体生长过程中,界面翻转是一种频发且隐蔽的破坏性现象,会导致界面失稳和缺陷富集,损害晶体品质。现有的探测技术难以实时获取生长界面状态,界面翻转现象的观测和解析更无从入手。如何在极端高温且敏感的晶体生长环境中捕捉界... 在提拉法晶体生长过程中,界面翻转是一种频发且隐蔽的破坏性现象,会导致界面失稳和缺陷富集,损害晶体品质。现有的探测技术难以实时获取生长界面状态,界面翻转现象的观测和解析更无从入手。如何在极端高温且敏感的晶体生长环境中捕捉界面翻转过程,是解读生长界面状态、掌握工艺优化策略、提高晶体品质的关键。本文通过界面相本征电动势(GEMF)的时间序列分析,在提拉法晶体炉中成功原位观测到铌酸锂晶体生长的界面翻转过程;并进一步揭示GEMF轨迹的偏移机制,准确解析翻转导致的热质输运起伏。本文提出的GEMF实验方法适用于普遍使用的熔体法晶体生产设备,不仅为规避界面翻转提供了实时判定依据,还归纳了生长界面的稳定控制准则,为生长界面的闭环调控技术提供实时反馈。 展开更多
关键词 铌酸锂 晶体生长 界面相本征电动势 原位诊断 界面翻转
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