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Al-Mg-Si合金GP区及β相界面电子结构分析
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作者 王庆松 崔雪鸿 +1 位作者 王玉玲 侯贤华 《广西科学》 CAS 2006年第3期207-211,共5页
运用EET理论对A l-M g-S i合金GP区(L10型,下同)、β相(M g2S i)与基体的界面电子结构进行计算,着重从界面电子角度反映时效过程中GP区、β相与基体的界面结合性质、界面原子状态变化及界面对合金有关力学性能的影响,并分析原子状态变... 运用EET理论对A l-M g-S i合金GP区(L10型,下同)、β相(M g2S i)与基体的界面电子结构进行计算,着重从界面电子角度反映时效过程中GP区、β相与基体的界面结合性质、界面原子状态变化及界面对合金有关力学性能的影响,并分析原子状态变化的原因。结果表明:A l-M g-S i合金GP区与基体界面电子密度在一级近似下连续,GP区粒子易于长大,而β相不连续,抑制了β相再结晶晶粒的长大,但它在高应力下呈现连续,从而提高合金变形抗力。当界面最稳定时,GP区与基体界面的结合强于β相与基体界面的结合,当界面处于非稳定的临界状态时,与最稳定状态相比,GP区与基体界面结合能力下降,而β相升高。最稳定状态下的界面与体内各原子杂阶相比,GP区界面各类原子杂化能级总体上升,β相界面各类原子状态没有变化;当基体界面电子密度由最小值过渡到最大值时,GP区与β相中S i原子的杂阶均降低;GP区界面处基体A l原子的杂阶不变,但β相界面处基体A l原子的杂阶上升。 展开更多
关键词 Al-Mg-Si合金GP区 Β相 界面电子结构
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双共振和频光谱分析自组装单分子层/铂界面的电子结构
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作者 王悦 何玉韩 +2 位作者 刘晓琳 宋前通 王朝晖 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2024年第3期526-531,549,共7页
[目的]界面电子结构对于物理和化学过程具有重要的影响,发展界面电子结构的表征方法具有重要意义.[方法]以Pt表面自组装单分子层(SAM)为模型体系,根据和频(SFG)光谱强度随入射光波长的变化,研究SAM对Pt基底电子结构的影响.[结果]研究发... [目的]界面电子结构对于物理和化学过程具有重要的影响,发展界面电子结构的表征方法具有重要意义.[方法]以Pt表面自组装单分子层(SAM)为模型体系,根据和频(SFG)光谱强度随入射光波长的变化,研究SAM对Pt基底电子结构的影响.[结果]研究发现,对巯基苯甲腈分子自组装于Pt基底表面时,基底的SFG响应显著增强.对巯基苯甲腈分子通过巯基与Pt表面相互作用,改变了界面电子结构,形成了SAM/Pt电荷转移态,在510~620 nm波段出现了新的吸收带,从而产生双共振SFG效应使基底的SFG响应显著增强.[结论]具有界面选择性的SFG光谱可以有效分析金属界面的电荷转移态,是研究界面电子结构的有力工具. 展开更多
关键词 双共振和频光谱 自组装单分子层 界面电子结构
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金属陶瓷中(Ti,Me)(C,N)/Ni界面价电子结构 被引量:1
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作者 石敏 许育东 +3 位作者 刘宁 陈名海 孙武 梁超斌 《矿冶工程》 CAS CSCD 北大核心 2005年第6期93-97,共5页
运用固体与分子经验电子理论(empirical electron theory,EET理论)计算了Ti(C,N)基多元陶瓷相和金属Ni(面心立方,fcc)的价电子结构以及Ni/陶瓷相界面价电子结构。结果表明:(Ti,Me)(C,N)/Ni界面电子密度差(Δρ)均大于10%,界面电子密度(... 运用固体与分子经验电子理论(empirical electron theory,EET理论)计算了Ti(C,N)基多元陶瓷相和金属Ni(面心立方,fcc)的价电子结构以及Ni/陶瓷相界面价电子结构。结果表明:(Ti,Me)(C,N)/Ni界面电子密度差(Δρ)均大于10%,界面电子密度(ρ)不连续。碳化物对界面结合因子(ρ,Δρ,σ)影响大小依次是Mo2C>NbC>WC>TaC;其中添加Mo2C和WC可以有效改善Ni对陶瓷相的结合性能(润湿性),从而提高金属陶瓷的强韧性。 展开更多
关键词 经验电子理论 界面电子结构 碳化物 金属镍
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COT-H在金属Ru表面上沉积的光电子能谱分析 被引量:1
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作者 施申蕾 楼辉 +4 位作者 张建华 吕萍 江宁 何丕模 鲍世宁 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2002年第1期30-33,共4页
采用紫外光电子能谱(UPS),分析了不对称四苯基四苯乙炔基环辛四烯(COT-H)有机发光材料与金属之间的界面电子结构,研究了在金属/COT-H界面上的逸出功变化.UPS谱中位于费米能级以下5.6、7.9和10.2eV处的三个谱峰分别来自于COT-H材料中苯... 采用紫外光电子能谱(UPS),分析了不对称四苯基四苯乙炔基环辛四烯(COT-H)有机发光材料与金属之间的界面电子结构,研究了在金属/COT-H界面上的逸出功变化.UPS谱中位于费米能级以下5.6、7.9和10.2eV处的三个谱峰分别来自于COT-H材料中苯环的πCC、σCC和σCH轨道.位于3.8eV处的谱峰反映了八个苯环聚合后具有π轨道特性的C-C键.从UPS谱图中可以看到,COT-H材料的最高占有态(HOS:highestoccu-piedstate)位于费米能级以下1.8eV处.COT-H材料的逸出功只有3.2eV,比清洁Ru表面的逸出功小1.0eV.角分辨紫外光电子能谱(ARUPS)的结果表明,组成COT-H分子应该近似平行于衬底表面. 展开更多
关键词 有机发光材料 紫外光电子能谱 界面电子结构 环辛四烯 有机发光器件 表面沉积
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金刚石/铜(银、碳化钛)界面性质的第一性原理计算 被引量:5
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作者 韩金江 陈冰威 +2 位作者 路朋献 李颖 栗正新 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2022年第5期535-542,共8页
采用第一性原理计算的方法研究金刚石/铜、金刚石/银、金刚石/碳化钛3种界面的结构、电子结构和传热。结果表明:金刚石/碳化钛的界面结构最为稳定,界面间距(1.990Å)最小,界面黏附功(5.578 J/m2)最大,结合强度最高。电子态密度、马... 采用第一性原理计算的方法研究金刚石/铜、金刚石/银、金刚石/碳化钛3种界面的结构、电子结构和传热。结果表明:金刚石/碳化钛的界面结构最为稳定,界面间距(1.990Å)最小,界面黏附功(5.578 J/m2)最大,结合强度最高。电子态密度、马利肯布居分析、差分电荷密度、径向分布函数的结果表明金刚石/碳化钛存在较多的电荷转移和较强键合作用。声子态密度的计算结果表明金刚石/碳化钛的界面热阻较低。 展开更多
关键词 金属基金刚石复合材料 第一性原理计算 界面结构 界面电子结构 界面传热
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Correlation between microstructural features and tensile strength for friction welded joints of AA-7005 aluminum alloy 被引量:2
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作者 Seyyed Mostafa Tahsini Ayyub Halvaee Hamed Khosravi 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2016年第8期1839-1846,共8页
Similar friction welded joints of AA-7005 aluminum rods were fabricated using different combinations of process parameters such as friction pressure(1.0, 1.5 and 2.0 MPa) and friction time(10, 15 and 20 s). Interfacia... Similar friction welded joints of AA-7005 aluminum rods were fabricated using different combinations of process parameters such as friction pressure(1.0, 1.5 and 2.0 MPa) and friction time(10, 15 and 20 s). Interfacial microstructure and formation of intermetallic compounds at the joint interface were evaluated via scanning electron microscopy(SEM) equipped with energy dispersive spectrum(EDS), and optical microscopy(OM). Microstructural observations reveal the formation of intermetallic phases during the welding process which cannot be extruded from the interface. Theses phases influence the tensile strength of the resultant joints. From the tensile characteristics viewpoint, the greatest tensile strength value of 365 MPa is obtained at 1.5 MPa and 15 s. Finally, the role of microstructural features on tensile strength of resultant joints is discussed. 展开更多
关键词 friction welding AA-7005 aluminum alloy MICROSTRUCTURE INTERMETALLICS tensile strength
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Vacuum deposited film growth,morphology and interfacial electronic structures of 2,7-dioctyl[1]benzothieno[3,2-b]benzothiophene(C8-BTBT)
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作者 WEI Jun-hua NIU Dong-mei GAO Yong-li 《Journal of Central South University》 SCIE EI CAS CSCD 2022年第4期1041-1061,共21页
Interfaces play critical roles in electronic devices and provide great diversity of film morphology and device performance.We retrospect the substrate mediated vacuum film growth of benchmark high mobility material 2,... Interfaces play critical roles in electronic devices and provide great diversity of film morphology and device performance.We retrospect the substrate mediated vacuum film growth of benchmark high mobility material 2,7-dioctyl[1]benzothieno[3,2-b]benzothiophene(C8-BTBT)and the interface electronic structures.The film growth of C8-BTBT molecules is diversified depending on the substrate-molecule and molecule-molecule interactions.On atomic smooth substrates C8-BTBT film grows in layer-by-layer mode while on coarse substrate it grows in islands mode.The initial molecular layer at dielectric,semiconductor and conductive substrates displays slight different lattice structure.The initial molecule orientation depends on the substrate and will gradually change to standing up configuration as in bulk phase.C8-BTBT behaves as electron donor when contacting with dielectric and stable conductive materials.This usually induces a dipole layer pointing to C8-BTBT and an upward bend bending in C8-BTBT side toward the interface.Although it is air stable,C8-BTBT is chemically reactive with some transition metals and compounds.The orientation change from lying down to standing up in the film usually leads to decrease of ionization potential.The article provides insights to the interface physical and chemical processes and suggestions for optimal design and fabrication of C8-BTBT based devices. 展开更多
关键词 interface film morphology packing configuration growth mode electronic structure chemical reaction interface dipole
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