期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
磁控溅射法制备Au薄膜及真空载流摩擦学行为研究
被引量:
6
1
作者
李晓栋
吉利
+5 位作者
鞠鹏飞
李红轩
周惠娣
陈建敏
苟学强
段文山
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第2期283-293,共11页
针对空间滑动电接触金基润滑涂层在制备方法以及失效机理认识方面存在的不足,探索采用绿色磁控溅射法制备金薄膜.研究了偏压对薄膜微观结构、力学以及真空载流摩擦学性能的影响规律;建立了真空载流服役工况摩擦试验评价条件,可实现接触...
针对空间滑动电接触金基润滑涂层在制备方法以及失效机理认识方面存在的不足,探索采用绿色磁控溅射法制备金薄膜.研究了偏压对薄膜微观结构、力学以及真空载流摩擦学性能的影响规律;建立了真空载流服役工况摩擦试验评价条件,可实现接触电流噪音的实时监测,进一步对比传统电镀金涂层,研究了其真空载流摩擦磨损行为差异、主要影响因素及作用机制.结果表明:在适中的偏压下,薄膜晶粒尺寸小,结构致密光滑,具有高的结合力、硬度、耐磨性以及低的接触电流噪音.相比于电镀法,磁控溅射法制备的金膜表现出明显光滑致密的结构特征,硬度、磨损率和接触电流噪音大幅改善.其中光滑致密的结构是抑制微电弧产生的关键因素,可有效减少电弧侵蚀失效.
展开更多
关键词
磁控溅射技术
au
薄膜
偏压
真空载流摩擦
电镀au
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
磁控溅射法制备Au薄膜及真空载流摩擦学行为研究
被引量:
6
1
作者
李晓栋
吉利
鞠鹏飞
李红轩
周惠娣
陈建敏
苟学强
段文山
机构
西北师范大学物理与电子工程学院
中国科学院兰州化学物理研究所材料磨损与防护重点实验室
上海航天设备制造总厂有限公司
出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022年第2期283-293,共11页
基金
国家自然科学基金(51775537,U1637204)
中国科学院青年创新促进会(2016368)资助。
文摘
针对空间滑动电接触金基润滑涂层在制备方法以及失效机理认识方面存在的不足,探索采用绿色磁控溅射法制备金薄膜.研究了偏压对薄膜微观结构、力学以及真空载流摩擦学性能的影响规律;建立了真空载流服役工况摩擦试验评价条件,可实现接触电流噪音的实时监测,进一步对比传统电镀金涂层,研究了其真空载流摩擦磨损行为差异、主要影响因素及作用机制.结果表明:在适中的偏压下,薄膜晶粒尺寸小,结构致密光滑,具有高的结合力、硬度、耐磨性以及低的接触电流噪音.相比于电镀法,磁控溅射法制备的金膜表现出明显光滑致密的结构特征,硬度、磨损率和接触电流噪音大幅改善.其中光滑致密的结构是抑制微电弧产生的关键因素,可有效减少电弧侵蚀失效.
关键词
磁控溅射技术
au
薄膜
偏压
真空载流摩擦
电镀au
Keywords
magnetron sputtering
au
film
bias voltage
vacuum current-carrying friction
electroplating
au
分类号
TH117.3 [机械工程—机械设计及理论]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
磁控溅射法制备Au薄膜及真空载流摩擦学行为研究
李晓栋
吉利
鞠鹏飞
李红轩
周惠娣
陈建敏
苟学强
段文山
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2022
6
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部